ICI/Ar electron cyclotron resonance plasma etching of III-V nitrides

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 10, 1996, Pages 1426-1428

  Vartuli, C B ^a   Pearton, S J ^a   Lee, J W ^a   Hong, J ^a   MacKenzie, J D ^a   Abernathy, C R ^a   Shul, R J ^b  

^a University of Florida   (United States)

^b SANDIA NATIONAL LABORATORIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 5244262768     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117603     Document Type: Article

References (29)

1. S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Jpn. J. Appl. Phys. 30, L1708 (1991).
2. S. C. Binari, L. B. Rowland, W. Kruppa, G. Kelner, K. Doverspike, and D. K. Gaskill, Electron. Lett. 30, 1248 (1994).
3. M. A. Khan, M. S. Shur, and Q. Chen, Electron. Lett. 31, 2130 (1995).
4. M. A. Khan, J. N. Kuznia, A. R. Bhattarai, and D. T. Olson, Appl. Phys. Lett. 62, 1248 (1993).
5. S. Nakamura, M. Senoh, and T. Mukai, Appl. Phys. Lett. 62, 2390 (1993).
6. I. Akasaki, H. Amano, M. Kito, and K. Kiramatsu, J. Lumin. 48/49, 666 (1991)
7. S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Appl. Phys. Lett. 67, 1868 (1995).
8. J. C. Zolper, A. G. Baca, R. J. Shul, R. G. Wilson, S. J. Pearton, and R. A. Stall, Appl. Phys. Lett. 68, 166 (1996).
9. I. Adesida, A. Mahajan, E. Andideh, M. Asif Khan, D. T. Olsen, and J. N. Kuznia, Appl. Phys. Lett. 63, 2777 (1993).
10. M. E. Lin, Z. F. Zan, Z. Ma, L. H. Allen, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. 64, 887 (1994).
11. A. T. Ping, I. Adesida, M. Asif Khan, and J. N. Kuznia, Electron. Lett. 30, 1895 (1994).
12. H. Lee, D. B. Oberman, and J. S. Harris, Jr., Appl. Phys. Lett. 67, 1754 (1995).
13. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, F. Ren, J. R. Lothian, P. W. Wisk, A. Katz, and C. Constantine, Semicond. Sci. Technol. 8, 310 (1993).
14. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, and F. Ren, Appl. Phys. Lett. 64, 2294 (1994).
15. L. Zhang, J. Ramer, K. Zheng, L. F. Lester, and S. D. Hersee, MRS Fall Meeting, Boston, MA, 1995.
16. R. J. Shul, S. P. Kilcoyne, M. Hagerott Crawford, J. E. Parmeter, C. B. Vartuli, C. R. Abernathy, and S. J. Pearton, Appl. Phys. Lett. 66, 1761 (1995).
17. R. J. Shul, to be presented at 189th ECS meeting, Los Angeles, CA, May 1996.
18. C. B. Vartuli, J. D. MacKenzie, J. W. Lee, C. R. Abernathy, S. J. Pearton, and R. J. Shul, J. Vac. Sci. Technol. B (to be published).
19. C. W. Krueger, C. A. Wang, D. Hsieh, and M. Flytzani-Stepanopoulos, J. Cryst. Growth 153, 81 (1995).
20. C. W. Krueger, C. A. Wang, and M. Flytzani-Stepanopoulos, Appl. Phys. Lett. 60, 1459 (1992).
21. D. C. Flanders, L. D. Pressman, and G. Pinelli, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 1990 (1990).
22. G. F. Doughty, S. Thomas, V. Law, and C. D. W. Wilkinson, Vacuum 36, 803 (1986).
23. S. J. Pearton, U. K. Chakrabarti, A. Katz, F. Ren, and T. R. Fullowan, Appl. Phys. Lett. 60, 838 (1992).
24. S. J. Pearton, U. K Chakrabarti, W. S. Hobson, C. R. Abernathy, A. Katz, F. Ren, T. R. Fullowan, and A. P. Perley, J. Electrochem. Soc. 139, 1763 (1992).
25. C. R. Abernathy, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 869 (1993).
26. C. R. Abernathy, Mater. Sci. Eng. R. Rep. 14, 203 (1995).
27. CAC Handbook of Chemistry and Physics (CRC, Boca Raton, FL, 1990).
28. R. J. Shul, A. J. Howard, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, C. B. Vartuli, and P. A. Barnes, Electrochem. Soc. Proc. 95-21, 217 (1995).
29. S. J. Pearton, C. R. Abernathy, F. Ren, and J. R. Lothian, J. Appl. Phys. 76, 1210 (1994).