Atomic layer deposition of LaF3 thin films using La(thd) 3 and TiF4 as precursors

Chemical Vapor Deposition

Volumn 14, Issue 3-4, 2008, Pages 85-91

  Pilvi, Tero ^a   Puukilainen, Esa ^a   Arstila, Kai ^a,b   Leskelä, Markku ^a   Ritala, Mikko ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b IMEC   (Belgium)

Author keywords

Atomic layer deposition (ALD); Lanthanum fluoride (LaF3); Optical materials; Thin films

Indexed keywords

ATOMIC PHYSICS; ATOMS; DEPOSITION; ELECTRIC PROPERTIES; FILMS; FUSED SILICA; LANTHANUM; LANTHANUM ALLOYS; LEAKAGE CURRENTS; LIGHT MEASUREMENT; LIGHT REFRACTION; MICROSCOPIC EXAMINATION; OPTICAL FILMS; OPTICAL PROPERTIES; PERMITTIVITY; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; PULSED LASER DEPOSITION; REFRACTIVE INDEX; REFRACTOMETERS; THICK FILMS; THIN FILMS; VACUUM APPLICATIONS;

ATOMIC FORCES; ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD); ATOMIC LAYERS; CRYSTALLINITY; DEPOSITION TEMPERATURES; ELASTIC RECOIL DETECTION ANALYSES; ELECTRICAL PROPERTIES; HIGH GROWTH RATES; LANTHANUM FLUORIDE (LAF3); LANTHANUM FLUORIDES; OPTICAL APPLICATIONS; POLYCRYSTALLINE; TIME-OF-FLIGHT; TRANSPARENT MATERIALS; VACUUM ULTRAVIOLETS; VIS SPECTROPHOTOMETRIES;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 50249169010     PISSN: 09481907     EISSN: 15213862     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200706681     Document Type: Article

References (61)

1. E. D. Thoma, H. Shields, Y. Zhang, B. C. McCollum, R. T. Williams, J. Lumin. 1997, 71, 93.
2. Physical Constants of Organic Compounds, in: CRC Handbook of Chemistry and Physics, (87th Edition), [Ed: D. R. Lide] Internet Version 2007, Taylor and Francis, Boca Raton, FL 2007.
3. R. H. Hopkins, R. A. Huffman, W. E. Kramer, Appl. Opt. 1975, 14, 2631.
4. M. Zukic, D. O. Torr, J. F. Spann, M. R. Torr, Appl. Opt. 1990, 29, 4284.
5. F. Sarto, E. Nichelatti, D. Flori, M. Vadrucci, A. Santoni, S. Pietrantoni, S. Guenster, D. Ristau, A. Gatto, M. Trovò, M. Danailov, B. Diviacco, Thin Solid Films 2007, 575, 3858.
6. M. Yang, A. Gatto, N. Kaiser, Appl. Opt. 2006, 45, 178.
7. S. Guenster, D. Ristau, A. Gatto, N. Kaiser, M. Trovo, F. Sarto, Proc. 26th Int. Free Electron Conf. PEL, (Eds: R. Bakker, L. Giannessi, M. Marsi, R. Walker) Comitato Conferenze Elettra, Trieste, Italy 2004, pp. 233-236.
8. J. Heher, C. Muehlig, W. Triebet, N. Danz, R. Thielsch, N. Kaiser, Appl. Phys. A 2003, 76, 123.
9. E. Welsch, K. Ettrich, H. Blaschke, N. Kaiser, Appl. Surf. Sci. 1996, 96-98, 393.
10. Z. Czigany, M. Adamik, N. Kaiser, Thin Solid Films 1998, 312, 176.
11. S. Jakobs, A. Duparre, H. Truckenbrodt, Int. J. Mach. Tools Manufact. 1998, 38, 733.
12. A. Duparre, C. Ruppe. K. A. Pischow, M. Adamik, P. B. Barna, Thin Solid Films 1995, 261, 70.
13. J. D. Targove, J. P. Lehan, L. J. Lingg, H. A. Macleod, J. A. Leavitt, L. C. McIntyre, Appl. Opt. 1987, 26, 3733.
14. W. Moritz, L. Bartholomaus, U. Roth, V. Filippov, A. Vasiliev, A. Terentjev, Anal. Chim. Acta 1999, 393, 49.
15. W. Moritz, S. Krause, U. Roth, D. Klimm, A. Lippitz, Anal. Chim. Acta 2001, 437, 183.
16. C. C. Lee, M. C. Liu, M. Keneko, K. Nakahira, Y. Takano, Appl. Opt. 2005, 44, 6921.
17. I. Hodgkinson, Q. Hong, M. Wu, L. Arnold, R. Blaikie, De Silva, Curr. Appl. Phys. 2004, 4, 106.
18. S. Niisaka, T. Saito, J. Saito, A. Tanaka, A. Matsumoto, M. Otani, R. Biro, C. Ouchi, M. Hasegawa, Y. Suzuki, K. Sone, Appl. Opt. 2002, 41, 3242.
19. J. D. T. Kruschwitz, W. T. Pawlewicz, Appl. Opt. 1997, 36, 2157.
20. P. Chindaudom, K. Vedam, Opt. Lett. 1992, 17, 538.
21. F. Rainer, W. H. Lowdermilk, D. Milam, C. K. Carniglia, T. T. Hart, T. L. Lichtenstein, Appl. Opt. 1985, 24, 496.
22. T. Mahalingam, M. Radhakrishnan, C. Balasubramanian, Thin Solid Films 1979, 59, 221.
23. J. D. Targove, L. J. Lingg, J. P. Lehan, H. A. Macleod, Appl. Opt. 1988, 27, 213.
24. H. Yu. Y. Shen, Y. Cui, H. Qi, J. Shao, Z. Fan, Appl. Surf. Sci. 2008, 254, 1783.
25. M. Vijayakumar, S. Selvasekarapandian, T. Gnanasekaran, S. Fujihara, S. Koji, J. Fluorine Chem. 2004, 125, 1119.
26. M. Vijayakumar, S. Selvasekarapandian, T. Gnanasekaran, S. Fujihara, S. Koji, Appl. Surf. Sci. 2004, 222, 125.
27. S. Selvasekarapandian, M. Vijayakumar, T. Gnanasekaran, S. Fujihara, S. Koji, Physica B 2003, 337, 52.
28. D. Ristau, S. Gunster, S. Bosch, A. Duparre, E. Masetti, J. Forre-Borrull, G. Kiriakidis, F. Peiro, E. Quesnel, A.Tikhonravov, Appl. Opt. 2002, 41, 3196.
29. Y. Taki, K. Muramatsu, Thin Solid films 2002, 420-421, 30.
30. W. Moritz, L. Bartholomaus, Electrochim. Acta 2000, 46, 271.
31. S. S. Fanchenko, N. Jedrecy, W. Moritz, A. A. Nefedov, Physica B 1998, 248, 48.
32. A. Zuber, N. Kaiser, J. L. Stehle, Thin Solid Films 1995, 261, 37.
33. U. Kaiser, N. Kaiser, Thin Solid Films 1994, 237, 250.
34. U. Kaiser, N. Kaiser, P. Weisbrodt, U. Mademann, E. Hacker, H. Muller, Thin Solid Films 1992, 217, 7.
35. K. Iwahori, M. Furuta, Y. Taki, T. Yamamura, A. Tanaka, Appl. Opt. 2006, 45, 3196.
36. Y. Taki, Vacuum 2004, 74, 431.
37. X. Zhang, E. Daran, C. Serrano, F. Lahoz, J. Lumin. 2000, 87-89, 1011.
38. E. Daran, D. P. Shepherd, T. Bhutta, C. Serrano, Electron. Lett. 1999, 35, 398.
39. M. Beaudoin, M. Adamcyk, Y. Levy, J. A. MacKenzie, S. Ritchie, T. Tiedje, Z. Gelbart, U. Giesen, I. Kelson, J. Cryst Growth 1999, 201-202, 26.
40. D. K. Fork, F. Armani-Leplingard, M. Lui, R. A. McFarlane, J. Lightwave Technol. 1996, 14, 611.
41. W. B. Mattingly, R. Raj, Solid State Ionics 1995, 75, 117.
42. G. Malandrino, L. M. S. Perdicaro, I. L. Fragalà, Chem. Vap. Deposition 2006, 12, 736.
43. M. Jardin, J. Query, C. Jacoboni, J. Non-Cryst. Solids 1995, 184, 204.
44. M. Ritala. M. Leskelä, In: Handbook of Thin Film Materials, Academic Press, San Diego 2001, p. 103.
45. S. Fujihara, M. Tada, T. Kimura, Thin Solid Films 1997, 304, 252.
46. M. Ylilammi, T. Ranta-aho, J. Electrochem. Soc. 1994, 141, 1278.
47. T. Pilvi, K. Arstila, M. Leskelä, M. Ritala, Chem. Mater. 2007, 19, 3387.
48. T. Pilvi, T. Hatanpää, E. Puukilainen, K. Arstila, M. Bischoff, U. Kaiser, N. Kaiser, M. Leskelä, M. Ritala, J. Mater. Chem. 2007, 17, 5077.
49. V. Pore, M. Ritala, M. Leskelä, Baltic Conf. Atomic Layer Deposition 2006, Oslo, Norway, (Ed: O. Nilsen) BALD Poster session, 2006, p. 12.
50. S. J. Jo, J. S. Ha, N. K. Park, D. K. Rang, B. Kim, Thin Solid Films 2006, 513, 253.
51. N. K. Park, D. K. Kang, B. Kim, S. J. Jo, J. S. Ha, Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 8506.
52. S. Haukka, T. Suntola. Interface Sci. 1997, 5, 119.
53. M. Nieminen. S. Lehto, L. Niinistö, J. Mater. Chem. 2001, 11, 3148.
54. K. Kukli, H. Heikkinen, E. Nykänen, L. Niinistö J. Alloys Compd. 1998, 275-277, 10.
55. H. Seim, H. Mölsä, M. Nieminen, H. Fjellväg, L. Niinistö, J. Mater. Chem, 1997, 7, 449.
56. H. Seim, M. Nieminen, L. Niinisto, H. Fjellvag, L. Johansson, Appl. Surf. Sci. 1997, 112, 243.
57. M. Ylilammi, Thin Solid Films 1996, 279, 124.
58. P. K. Pulker, Appl. Opt. 1979, 18, 1969.
59. A. Sher, W. E. Miller, Y. H. Tsuo, J. A. Moriarty, R. K. Crouch, B. A. Selber, Appl. Phys. Lett. 1979, 34, 799.
60. M. Ylilammi, T. Ranta-aho, Thin Solid Films 1993, 232, 56.
61. M. Putkonen, T. Sajavaara, L. Niinistö, J. Kelnonen, Anal. Bioanal. Chem. 2005, 382, 1791.