Nanoimprint lithography and the role of viscoelasticity in the generation of residual stress in model polystyrene patterns

Advanced Functional Materials

Volumn 18, Issue 12, 2008, Pages 1854-1862

  Ding, Yifu ^a   Ro, Hyun Wook ^a   Alvine, Kyle J ^a   Okerberg, Brian C ^a   Zhou, Jing ^a   Douglas, Jack F ^a   Karim, Alamgir ^a   Soles, Christopher L ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; DECAY (ORGANIC); FLUID DYNAMICS; FLUID MECHANICS; LITHOGRAPHY; MOLAR MASS; MOLECULAR BEAM EPITAXY; NANOIMPRINT LITHOGRAPHY; OPTIMIZATION; POLYMERS; PROCESS ENGINEERING; RESIDUAL STRESSES; STRENGTH OF MATERIALS; VISCOSITY;

DECAY RATES; ELASTIC RECOVERY; IMPRINTED POLYMERS; IMPRINTING PROCESS; NANO IMPRINTS; NANO-IMPRINTING; NEWTONIAN; POLYMER DEFORMATION; POLYMER NANO-STRUCTURES; PROCESSING TEMPERATURES; STRESS LEVELS; TEMPERATURE EFFECTS;

POLYMER FILMS;

EID: 47349089682     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200701402     Document Type: Article

References (44)

1. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Science 1996, 272, 85.
2. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 1995, 67, 3114.
3. S. Y. Chou, P. R. Krauss, P. J. Renstrom, J. Vac. Sci. Technol. B 1996, 14, 4129.
4. M. D. Austin, H. X. Ge, W. Wu, M. T. Li, Z. N. Yu, D. Wasserman, S. A. Lyon, S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 5299.
5. H. C. Scheer, H. Schulz, T. Hoffmann, C. M. S. Torres, J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3917.
6. G. L. W. Cross, B. S. O'Connell, H. O. Ozer, J. B. Pethica, Nano Lett. 2007, 7, 357.
7. T. C. Bailey, B. J. Choi, M. Colburn, M. Meissl, S. Shaya, J. G. Ekerdt, S. V. Sreenivasan, C. G. Willson, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 3572.
8. T. C. Bailey, S. C. Johnson, S. V. Sreenivasan, J. G. Ekerdt, C. G. Willson, D. J. Resnick, J. Photopolym. Sci. Technol. 2002, 15, 481.
9. D. J. Resnick, W. J. Dauksher, D. Mancini, K. J. Nordquist, T. C. Bailey, S. Johnson, N. Stacey, J. G. Ekerdt, C. G. Willson, S. V. Sreenivasan, N. Schumaker, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2624.
10. G. Y. Jung, S. Ganapathiappan, D. A. A. Ohlberg, D. L. Olynick, Y. Chen, W. M. Tong, R. S. Williams, Nano Lett. 2004, 4, 1225.
11. M. D. Stewart, C. G. Willson, MRS Bulletin 2005, 30, 947.
12. B. K. Long, B. K. Keitz, C. G. Willson, J. Mater. Chem. 2007, 17, 3575.
13. G. Y. Jung, E. Johnston-Halperin, W. Wu, Z. N. Yu, S. Y. Wang, W. M. Tong, Z. Y. Li, J. E. Green, B. A. Sheriff, A. Boukai, Y. Bunimovich, J. R. Heath, R. S. Williams, Nano Lett. 2006, 6, 351.
14. L. J. Guo, J. Phys. D: Appl. Phys. 2004, 37, R123.
15. L. J. Guo, Adv. Mater. 2007, 19, 1.
16. T. Leveder, S. Landis, L. Davoust, N. Chaix, Microelect. Engin. 2007, 84, 953.
17. Y. Ding, H. W. Ro, J. F. Douglas, R. L. Jones, D. R. Hines, A. Karim, C. L. Soles, Adv. Matter. 2007, 19, 1377.
18. a) G. L. W. Cross, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006,39, R363.
19. b) G. L. W. Cross, B. S. O'Connell, J. B. Pethica, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 081902.
20. K. Y. Suh, P. Kim, H. H. Lee, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4019.
21. Y. Hirai, S. Yoshida, N. Takagi, Y. Tanaka, H. Yabe, K. Sasaki, H. Sumitani, K. Yamamoto, Jap. J. Appl. Phys. 2003, 42, 3863.
22. W. W. Mullins, J. Appl. Phys. 1957, 28, 333;
23. 1959, 30, 77.
24. M. Hamdorf, D. Johannsmann, J. Chem. Phys. 2000, 112, 4262.
25. E. Buck, K. Petersen, M. Hund, G. Krausch, D. Johannsmann, Macromolecules 2004, 37, 8647.
26. G. T. Dee, B. B. Sauer, Adv. Phys. 1998, 47, 161.
27. rd edn, John Wiley & Sons, New York 1980.
28. J. C. Majeste, J. P. Montfort, A. Allal, G. Marin, G. Rheol. Acta. 1998, 37, 486.
29. E. B. Bagley, D. C. West, J. Appl. Phys. 1958, 29, 1511.
30. R. S. Porter, J. F. Johnson, J. Appl. Phys. 1961, 32, 2326.
31. L. Ressier, C. Martin, J. P. Peyrade, Microelect. Engin. 2004, 71, 272.
32. F. Kremer, A. Schönhals, Broadband dielectric spectroscopy, Springer, New York, 2003.
33. H. Schulz, M. Wissen, N. Bogdanski, H. C. Scheer, K. Mattes, C. Friedrich, Microelect. Eng. 2006, 83, 259.
34. H. Schulz, M. Wissen, N. Bogdanski, H. C. Scheer, K. Mattes, C. Friedrich, Microelect. Eng. 2005, 78-79, 625.
35. K. J. Alvine, H. W. Ro, Y. Ding, J. F. Douglas, B. C. Okerberg, K. A. Lavery, W. E. Wallace, S. Lin-Gibson, A. Karim, C. L. Soles, Unpublished.
36. Z. Li, M. Tolan, T. Höhr, D. Kharas, S. Qu, J. Sokolov, M. H. Rafailovich, H. Lorenz, J. P. Kotthaus, J. Wang, S. K. Sinha, A. Gibaud, Macromolecules 1998, 31, 1915.
37. Z. N. Yu, L. Chen, W. Wu, H. X. Ge, S. Y. Chou, J. Vac. Sci. Tech. B 2003, 21, 2089.
38. G. Y. Jung, Z. Li, W. Wu, Y. Chen, D. L. Olynick, S. Y. Wang, W. M. Tong, R. S. Williams, Langmuir 2005, 21, 1158.
39. R. L. Jones, T. Hu, E. K. Lin, W. L. Wu, R. Kolb, D. M. Casa, P. J. Bolton, G. G. Barclay, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4059.
40. T. J. Hu, R. L. Jones, W. L. Wu, E. K. Lin, Q. H. Lin, D. Keane, S. Weigand, J. Quintana, J. Appl. Phys. 2004, 96, 1983.
41. R. L. Jones, T. J. Hu, C. L. Soles, E. K. Lin, W. Hu, R. M. Reano, S. W. Pang, D. M. Casa, J. Microlith, Microfab, Microsyst. 2005, 5, 013001.
42. H. J. Lee, C. L. Soles, H. W. Ro, R. L. Jones, E. K. Lin, W. L. Wu, D. R. Hines, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 263111.
43. H. J. Lee, H. W. Ro, C. L. Soles, R. L. Jones, E. K. Lin, W. L. Wu, D. R. Hines, J. Vac. Sci. Tech. B 2005, 23, 3023.
44. Y. Ding, H. W. Ro, T. A. Germer, J. F. Douglas, B. C. Okerberg, A. Karim, C. L. Soles, ACS Nano 2007, 1, 84.