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Volumn 25, Issue 2, 2008, Pages 648-650

Kinetics of nitrogen indiffusion in Czochralski silicon annealed in nitrogen ambient

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ABSORPTION SPECTROSCOPY; LIGHT ABSORPTION; SILICON; TEMPERATURE;

EID: 42649101637     PISSN: 0256307X     EISSN: 17413540     Source Type: Journal    
DOI: 10.1088/0256-307X/25/2/079     Document Type: Article
Times cited : (2)

References (13)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.