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Volumn 65, Issue 1, 2002, Pages

Modeling of voids in colloidal plasmas

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ARGON; COMPUTER SIMULATION; DAMPING; MICROGRAVITY PROCESSING; PLASMAS; THERMOPHORESIS;

EID: 41349102288     PISSN: 1063651X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevE.65.015401     Document Type: Article
Times cited : (83)

References (9)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.