Effects of interfacial polarization on the dielectric properties of BiFeO3 thin film capacitors

Applied Physics Letters

Volumn 92, Issue 12, 2008, Pages

  Liu, Guo Zhen ^a   Wang, Can ^a   Wang, Chun Chang ^a   Qiu, Jie ^a   He, Meng ^a   Xing, Jie ^a   Jin, Kui Juan ^a   Lu, Hui Bin ^a   Yang, Guo Zhen ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CAPACITORS; ELECTRODES; POLARIZATION; SURFACE CHEMISTRY; THIN FILMS;

COMPLEX IMPEDANCE ANALYSIS; INTERFACIAL POLARIZATION;

DIELECTRIC MATERIALS;

EID: 41349100462     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2900989     Document Type: Article

References (22)

1. J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan, S. B. Ogale, B. Liu, D. Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wuttig, and R. Ramesh, Science 299, 1719 (2003).
2. G. Smolenskii, V. Isupov, A. Agranovskaya, and N. Kranik, Sov. Phys. Solid State 2, 2651 (1961).
3. P. Fischer, M. Polomska, I. Sosnowska, and M. Szymanski, J. Phys. C 13, 1931 (1980).
4. S. J. Clark and J. Robertson, Appl. Phys. Lett. 90, 132903 (2007).
5. W. B. Wu, K. H. Wong, C. L. Choy, and Y. H. Zhang, Appl. Phys. Lett. 77, 3441 (2000).
6. Z. Ye, M. H. Tang, Y. C. Zhou, X. J. Zheng, C. P. Cheng, Z. S. Hu, and H. P. Hu, Appl. Phys. Lett. 90, 042902 (2007).
7. Y. W. Cho, S. K. Choi, and G. Venkata Rao, Appl. Phys. Lett. 86, 202905 (2005).
8. V. R. Palkar and R. Pinto, Pramana J. Phys. 58, 1003 (2002).
9. Y. P. Wang, L. Zhou, M. F. Zhang, X. Y. Chen, J. M. Liu, and Z. G. Liu, Appl. Phys. Lett. 84, 1731 (2004).
10. Y. H. Lee, J. M. Wu, Y. L. Chueh, and L. J. Chou, Appl. Phys. Lett. 87, 172901 (2005).
11. G. Z. Yang, H. B. Lu, F. Chen, T. Zhao, and Z. H. Chen, J. Cryst. Growth 227-228, 929 (2001).
12. D. Fuchs, M. Adam, P. Schweiss, and R. Schneider, J. Appl. Phys. 91, 5288 (2002).
13. J. C. C. Abrantes, J. A. Labrincha, and J. R. Frade, Mater. Res. Bull. 35, 727 (2000).
14. R. Schmidt, W. Eerenstein, T. Winiecki, F. D. Morrison, and P. A. Midgley, Phys. Rev. B 75, 245111 (2007).
15. C. C. Wang, M. He, F. Yang, J. Wen, G. Z. Liu, and H. B. Lu, Appl. Phys. Lett. 90, 192904 (2007).
16. L. Pandey, O. Parkash, R. K. Katare, and D. Kumar, Bull. Mater. Sci. 18, 563 (1995).
17. P. Lunkenheimer, V. Bobnar, A. V. Pronin, A. I. Ritus, A. A. Volkov, and A. Loidl, Phys. Rev. B 66, 052105 (2002).
18. T. Kudo, M. Tachiki, T. Kashiwai, and T. Kobayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 37, L999 (1998).
19. J. Yu, T. Ishikawa, Y. Arai, S. Yoda, M. Itoh, and Y. Saita, Appl. Phys. Lett. 87, 252904 (2005).
20. A. Riul, Jr., C. A. Mills, and D. M. Taylor, J. Mater. Chem. 10, 91 (2000).
21. K. T. McCarthy, S. B. Arnason, and A. F. Hebard, Appl. Phys. Lett. 74, 302 (1999).
22. F. M. Pontes, E. R. Leite, E. Longo, J. A. Varela, E. B. Araujo, and J. A. Eiras, Appl. Phys. Lett. 76, 2433 (2000).