Critical evaluation of the state of the art of the analysis of light elements in thin films demonstrated using the examples of SiOXN Y and AlOXNY films: (IUPAC Technical Report)

Pure and Applied Chemistry

Volumn 76, Issue 6, 2004, Pages 1161-1213

  Dreer, Sabine ^a   Wilhartitz, Peter ^b  

^a VIENNA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Austria)

^b PLANSEE SE   (Austria)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALUMINUM; NITROGEN; OXIDE; SILICON DERIVATIVE;

CHEMICAL COMPOSITION; EXTRACTION; FILM; LIGHT; QUANTITATIVE ANALYSIS; REACTION ANALYSIS; REVIEW; TECHNOLOGY;

EID: 4043181817     PISSN: 00334545     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1351/pac200476061161     Document Type: Review

References (186)

1. N. Shibata. Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1), 4024 (1995).
2. F. H. P. M. Habraken, J. B. Oude Elferink, W. M. Arnold Bik, W. F. Van der Weg, A. E. T. Kuiper, J. Remmerie, H. E. Maes, M. Heyns, R. F. De Keersmaecker. LPCVD Silicon Nitride Oxynitride Films, F. H. P. M. Habraken (Ed.), Chap. 1, Springer, Berlin (1991).
3. F. H. P. M. Habraken and A. E. T. Kuiper. Mater. Sci. Eng. R12, 123 (1994).
4. H. J. Stein. Proc. Electrochem. Soc. 89-7 (Proc. Symp. Silicon Nitride Silicon Dioxide Thin Insul. Films, 1988) 3 (1989).
5. J. Aarnio, P. Heimala, M. del Giudice, F. Bruno. Electron. Lett. 27 (25), 2317 (1991).
6. T. M. del Giudice, F. Bruno, T. Cicinelli, M. Valli. Appl. Opt. 29 (24), 3489 (1990).
7. T. Ogawa, M. Kimura, T. Gotyo, Y. Tomo, T. Tsumori. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) - International Society for Optical Engineering, 1927/1 (Optical/Laser Microlithography VI) 263 (1993).
8. T. Ogawa, H. Nakano, T. Gocho, T. Tsumori. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) - International Society for Optical Engineering 2197, 722 (1994).
9. J. A. Underhill, V. S. Nguyen, M. Kerbaugh, D. Sundling. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) - International Society for Optical Engineering 539, 83 (1985).
10. D. V. Tsu, G. Lucovsky, M. J. Mantini, S. S. Chao. J. Vac. Sci. Technol. A 5 (4), 1998 (1987).
11. th International Conference on Ion and Plasma Assisted Techniques, 273 (1987).
12. A. Hashimoto, M. Kobayashi, T. Kamijoh, H. Takano, M. Sakuta. J. Electrochem. Soc. 133 (7), 1464 (1986).
13. D. Peters, K. Fischer, J. Müller. Sens. Actuators A 25-27, 425 (1991).
14. M. J. Rand and J. F. Roberts. J. Electrochem. Soc. 120 (3), 446 (1973).
15. D. M. Diatezua, P. A. Thiry, R. Caudano. J. Vac. Sci. Technol. A 13 (4), 2099 (1995).
16. P. G. Snyder, Y.-M. Xiong, J. A. Woollam, G. A. Al-Jumaily, F. J. Gagliardi, J. Vac. Sci. Technol. A 10 (4), 1462 (1992).
17. Y.-M. Xiong, P. G. Snyder, J. A. Woollam, G. A. Al-Jumaily, F. J. Gagliardi, L. J. Mizerka. Surf. Int. Anal. 18, 124 (1992).
18. G. A. Al-Jumaily, T. A. Mooney, W. A. Spurgeon, H. M. Dauplaise. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 128, 61 (1989).
19. R. P. Howson and G. W. Hall. Private communications.
20. R.-F. Xiao, L. C. Ng, H. B. Liao. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 388, 115 (1995).
21. A. E. T. Kuiper, S. W. Koo, F. H. P. M. Habraken, Y. Tamminga. J. Vac. Sci. Technol. B 1 (1), 62 (1983).
22. A. E. T. Kuiper, F. H. P. M. Habraken, A. van Oostrom, Y. Tamminga. Philips J. Res. 38, 1 (1983).
23. S. K. Ghosh and T. K. Hatwar. Thin Solid Films 166, 359 (1988).
24. S. V. Hattangady, H. Niimi, G. Lucovsky. J. Vac. Sci. Technol. A 14 (6), 3017 (1996).
25. th, 1990), 605 (1990).
26. T. Carriere, B. Agius, I. Vickridge, J. Siejka, P. Alnot. J. Electrochem. Soc. 137 (5), 1582 (1990).
27. P. V. Bulkin, P. L. Swart, B. M. Lacquet. J. Non-Cryst. Solids 187, 403 (1995).
28. R. Machorro, G. Soto, E. C. Samano, L. Cota-Araiza. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 526, 97-102 (1998).
29. H. Birey, S.-J. Pak, J. R. Sites, J. F. Wager. J. Vac. Sci. Technol. 16 (6), 2086 (1979).
30. M. Xu and T.-M. Ko. J. Vac. Sci. Techn. B 18 (1), 127-135 (2000).
31. S. Dreer, R. Krismer, P. Wilhartitz, G. Friedbacher. Thin Solid Films 354, 43 (1999).
32. A. Borghesi, E. Bellandi, G. Guizzetti, A. Sassella, S. Rojas, L. Zanotti. J. Appl. Phys. B 56, 147 (1993).
33. S. Dreer, R. Krismer, P. Wilhartitz. Surf. Coat. Technol. 114, 29 (1999).
34. S. Dreer, P. Wilhartitz, K. Piplits, H. Hutter, M. Kopnarski, G. Friedbacher. Mikrochim. Acta 133, 75 (2000).
35. R. Swanepol. J. Phys. Eng.: Sci. Instr. 16, 1214 (1983).
36. I. Ohlídal and K. Navrátil. Thin Solid Films 156, 181 (1988).
37. W. Lechner. Ph.D. thesis, Optische Charakterisierung von dünnen dielektrischen Schichten abgeschieden mit PVD-Verfahren, University of Innsbruck (1999).
38. L. Kubler, R. Haug, F. Ringeisen, A. Jaegle. J. Non-Cryst. Solids 54, 27 (1983).
39. D. Schalch, A. Scharmann, R. Wolfrat. Thin Solid Films 124 (3-4), 301 (1985).
40. S. Mirsch and J. Bauer. Phys. Stat. Sol. A 26, 579 (1974).
41. th Annu. Technol. Conf. Proc - Soc. Vac. Coaters 146 (1993).
42. G. A. Al-Jumaily, T. A. Mooney, W. A. Spurgeon, H. M. Dauplaise. J. Vac. Sci. Technol. A 7 (3), 2280 (1989).
43. T. Hanada, M. Kobayashi, S. Tanabe, N. Soga. J. Non-Cryst. Solids 135, 227 (1991).
44. H. Demiryont, L. R. Thompson, G. J. Collins. Appl. Opt. 25 (8), 1311 (1986).
45. H. Demiryont, L. R. Thompson, G. J. Collins. J. Appl. Phys. 59 (9), 3235 (1986).
46. J. D. Targove, L. J. Ling, J. P. Lehan, Ch. K. Hwangbo, H. A. Macleod, J. A. Leavitt, L. C. McIntyre, Jr. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 93, 311 (1987).
47. Ch. K. Hwangbo, L. J. Lingg, J. P. Lehan, H. A. Macleod, F. Suits. Appl. Opt. 28 (14), 2779 (1989).
48. B. G. Bovard. Thin Solid Films 206, 224 (1991).
49. J. W. Osenbach and W. R. Knolle. J. Electrochem. Soc. 139 (11), 3346 (1992).
50. M. Vogt and R. Hauptmann. Surf Coat. Technol. 74-75, 676 (1995).
51. J. Olivares-Roza, O. Sánchez, J. M. Albella. J. Vac. Sci. Technol. A 16 (5), 2757-2761 (1998).
52. R.-F. Xiao, L. C. Ng, Ch. Jiang, Z. Yang, G. K. L. Wong. Thin Solid Films 260, 10 (1995).
53. Y. Cros, N. Jaffrezic-Renault, J. M. Chovelon, J. J. Fombon. J. Electrochem. Soc. 139 (2), 507 (1992).
54. G. Lucovsky and D. V. Tsu. J. Vac. Sci. Technol. A 5 (4), 2231 (1987).
55. E. Fogarassy, C. Fuchs, A. Slaoui, S. de Unamuno, J. P. Stoquert. J. Appl. Phys. 76 (5), 2612 (1994).
56. P. Bergonzo and I. W. Boyd. Microelectron. Eng. 25, 345 (1994).
57. T. Kanata, H. Takakura, Y. Hamakawa. Appl. Phys. A 49, 305 (1989).
58. P. Bergonzo, U. Kogelschatz, I. W. Boyd. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) - International Society for Optical Engineering 2045, 174 (1994).
59. A. del Prado, M. Mártil, M. Fernández, G. González-Díaz. Thin Solid Films 343-344, 437-440 (1999).
60. M. Boudreau, M. Boumerzoug, R. V. Kruzelecky, P. Mascher, P. E. Jessop, D. A. Thompson. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 300, 183 (1993).
61. J. N. Cox, L. B. Friedrich, L. L. Heath, B. L. Sun. J. Vac. Sci. Technol. B 7 (3), 429 (1989).
62. S. K. Ray, S. Das, C. K. Maiti, S. K. Lahiri, N. B. Chakraborti. J. Appl. Phys. 75 (12), 8145 (1994).
63. S. K. Ray, S. Das, C. K. Maiti, S. K. Lahiri, N. B. Chakrabarti. Appl. Phys. Lett. 58 (22), 2476 (1991).
64. S. S. Chao, J. E. Tyler, D. V. Tsu, G. Lucovsky, M. J. Mantini. J. Vac. Sci. Technol. A 5 (4), 1283 (1987).
65. th International Symposium on Semiconductor Processing, ASTM Special Technical Publication 960, Emerging Semiconductor Technology, 173 (1987).
66. M. D. Diatezua, A. Dereux, A. Ronda, J. P. Vigneron, Ph. Lambin, R. Caudano. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE), 1149 (Optical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion VIII) 80 (1989).
67. M. D. Diatezua, P. A. Thiry, R. Caudano. Vacuum 46 (8-10), 1121 (1995).
68. T. S. Eriksson and C. G. Granqvist. J. Appl. Phys. 60 (6), 2081 (1986).
69. M. Firon, C. Bonnelle, A. Mayeux. J. Vac. Sci. Technol. A 14 (4), 2488-2492 (1996).
70. T. Ito, S. Hijiya, T. Nozaki, H. Arakawa, M. Shinoda, Y. Fukukawa. J. Electrochem. Soc. 125 (3), 448 (1978).
71. J. C. Rostaing, Y. Cros, S. C. Gujrathi, S. Poulain, J. Non-Cryst. Solids 97-98, 1051 (1987).
72. W. M. Arnoldbik, C. H. M. Marée, F. H. P. M. Habraken. Appl. Surf. Sci. 74, 103 (1994).
73. V. J. Kapoor and R. A. Turi. Proc. Electrochem. Soc. 89-7 (Proc. Symp. Silicon Nitride Silicon Dioxide Thin Insul. Films 1988), 19 (1989).
74. S. Neogi and D. A. Gulino. Mater. Manuf. Processes 6 (3), 433 (1991).
75. E. Baclez, B. Mutel, O. Dessaux, P. Goudmand, J. Grimblot, L. Gengembre. Thin Solid Films 303, 156-166 (1997).
76. V. A. Burdovitsin, L. I. Rabinovich, K. I. Smirnova, T. P. Smirnova. Inorg. Mater. 12 (10), 1548 (1976).
77. F. Ansart and J. Bernard. Phys. Sta. Sol. A 134, 134 (1992).
78. V. M. Bermudez. Thin Solid Films 347, 195-200 (1999).
79. J. Yong Kim, M. A. Sriram, P. H. McMichael, N. P. Kumta, B. L. Phillips, S. H. Risbud. J. Phys. Chem. B 101 (24), 4689-4696 (1997).
80. American Society of Metals Handbook, Vol. 10, Materials Characterisation (1996).
81. S. Dreer. Fresnius' J. Anal. Chem. 365, 85 (1999).
82. R. Dorka. IFW, Institute of Solid State Analysis and Structural Research, Dresden, Germany, private communications.
83. E. Mayer. Private communications.
84. S. Dreer. Ph.D. thesis, Quantitative Characterisation of Silicon- and Aluminium Oxynitride Films Produced by Reactive dc-Magnetron Sputtering, Vienna University of Technology (2000).
85. T. Ehara and S. Machida. Thin Solid Films 346, 275-279 (1999).
86. K. J. Price, L. E. McNeil, A. Suvkanov, E. A. Irene, P. J. MacFarlane, M. E. Zvanut. J. Appl. Phys. 86 (5), 2628-2637 (1999).
87. O. Benkherourou and J. P. Deville. Appl. Phys. A 46, 87 (1988).
88. Y. Okamoto, H. Nagasawa, D. Kitayama, H. Kitajima, H. Ikoma. Jpn. J. Appl. Phys. 34, L955 (1995).
89. R. K. Brow and C. G. Pantano. J. Am. Ceram. Soc. 69 (4), 314 (1986).
90. J. R. Shallenberger, D. A. Cole, S. W. Novak. J. Vac. Sci. Technol. A 17 (4), 1086-1090 (1999).
91. N. Shibata. Electronics and Communications in Japan, Part 2, 75 (7), 84 (1992).
92. M. Bhat, G. W. Yoon, J. Kim, L. K. Han, J. Yan, D. Wristers, D. L. Kwong. Proc. Electrochem. Soc. 94-16, 317 (1994).
93. L. K. Han, M. Bhat, D. Wristers, H. H. Wang, D. L. Kwong. Microelectron. Eng. 28, 89 (1995).
94. J. F. Moulder, S. R. Bryan, U. Roll. Fresenius' J. Anal. Chem. 365, 83 (1999).
95. J. Viard, E. Beche, D. Perarnau, R. Berjoan, J. Durand. J. Eur. Ceram. Soc. 17, 2025-2028 (1997).
96. J. Viard, R. Berjoran, J. Durand. J. Eur. Ceram. Soc. 17, 2001-2005 (1997).
97. J. C. Riviére, J. A. A. Crossley, B. A. Sexton. J. Appl. Phys. 64 (9), 4585 (1988).
98. M. S. Hegde, R. Caracciolo, K. S. Hatton, J. B. Wachtman, Jr. Appl. Surf. Sci. 37, 16 (1989).
99. Y. Shima, H. Hasuyama, T. Kondoh, Y. Imaoka, T. Watari, K. Baba, R. Hatada. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 148, 599-603 (1999).
100. S. Ogawa, Y. Suzuki, M. Yoshitake, K. Natsukawa. IEEE, 775-778 (1999).
101. Powder Diffraction File (PDF 2), International Centre for Diffraction Data, 12 Campus Boulevard, Newton Square, PA, USA.
102. M. Brunel, L. Ortega, Y. Cros, S. Viscaino. Appl. Surf. Sci. 65/66, 289 (1993).
103. M. L. Monaghan, T. Nigam, M. Houssa, S. De Gendt, H. P. Urbach, P. K. de Bokx. Thin Solid Films 359, 197-202 (2000).
104. S. C. Bayliss and S. J. Gurman. J. Phys.: Condens. Matter 6, 4961 (1994).
105. J. I. Goldstein, S. K. Choi, F. J. J. Van Loo, H. J. M. Heijligers, G. F. Bastin, W. G. Sloof. Scanning 15, 165 (1993).
106. G. F. Bastin and H. H. M. Heijligers. Microbeam Anal. 1, 61 (1992).
107. J. M. Dijkstra, G. F. Bastin, H. J. M. Heijligers, D. Klepper. Mikrochim. Acta 114 (115), 277 (1994).
108. G. F. Bastin and H. J. M. Heijligers. Mikrochim. Acta Suppl. 12, 19 (1992).
109. J. J. Goldstein, S. K. Choi, F. J. J. van Loo, H. J. M. Heijligers, J. M. Dijkstra, G. F. Bastin. Microbeam Anal. 57 (1991).
110. G. F. Bastin and H. J. M. Heijligers. X-Ray Spectrometry in Electron Beam Instruments, D. Williams, J. Goldstein, D. Newbury (Eds.), Chap. 14, p. 239, Plenum Press, New York (1995).
111. G. F. Bastin and H. J. M. Heijligers. Microbeam Anal. 207 (1989).
112. G. F. Bastin and H. J. M. Heijligers. Scanning 13, 325 (1991).
113. T. Fuyuki, T. Saitoh, H. Matsunami. Jpn. J. Appl. Phys. 29 (10), 2247 (1990).
114. G. W. Vogl, K. H. Monz, Q. D. Nguyen, M. Huter, E. P. Rille, H. K. Pulker. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) 2253, 1275 (1994).
115. V. J. Silvestri, A. E. Irene, S. Zirinsky, J. D. Kuptsis. J. Electron. Mater. 4 (3), 429 (1975).
116. L. Pinard and J. M. Mackowski. Appl. Opt. 36 (22), 5451 (1997).
117. A. D. Mazzoni and E. F. Aglietti. Sil. Ind. 62 (7-8), 131-135 (1997).
118. S. Dreer, P. Wilhartitz, E. Mersdorf, G. Friedbacher. Mikrochim. Acta 130, 281 (1999).
119. S. Dreer, P. Wilhartitz, E. Mersdorf, K. Piplits, G. Friedbacher. Mikrochim. Acta 131, 211 (1999).
120. A. van Oostrom, L. Augustus, F. H. P. M. Habraken, A. E. T. Kuiper. J. Vac. Sci. Technol. 20 (4), 953 (1982).
121. J. Watanabe and M. Hanabusa. J. Mater. Res. 4 (4), 882 (1989).
122. H. Reinhardt, D. Schalch, A. Scharmann. Thin Solid Films 167, L1 (1988).
123. B. C. Smith and H. H. Lamb. J. Appl. Phys. 83 (12), 7635 (1998).
124. H. H. Madden and P. H. Holloway. J. Vac. Sci. Technol. 16 (2), 618 (1979).
125. R. Hezel. Radiat. Eff. 65, 101 (1982).
126. W. Streb and R. Hezel. J. Vac. Sci. Technol. B 2 (4), 626 (1984).
127. R. K. Pancholy and F. M. Erdmann. IEEE Trans. Nucl. Sci. NS-30 (6), 4141 (1983).
128. T. Kaga and T. Hagiwara. IEEE Trans. Electron Devices 35 (7), 929 (1988).
129. Y. Saito. Appl. Phys. Lett. 68 (6), 800 (1996).
130. J. A. Nemetz and R. E. Tressler. Solid State Technol. 26 (2), 79 (1983).
131. R. B. Heimann. J. Vac. Sci. Technol. B 1 (1), 108 (1983).
132. S. Lim, J. H. Ryu, J. F. Wager, L. M. Casas. Thin Solid Films 236, 64 (1993).
133. J. Flicstein, J. Mba, J.-M. Le Solliec, J. F. Palmier. SPIE 3091, 72-82 (1997).
134. D. H. Wang and L. Guo. Thin Solid Films 198, 207 (1991).
135. T. Jung. Phys. Stat. Sol. A 93, 479 (1986).
136. L. U. J. T. Ogbuji and D. R. Harding. Thin Solid Films 263 (2), 194 (1995).
137. L. Martinu, J. E. Klemberg-Sapieha, O. M. Küttel, M. R. Wertheimer. Annual Report: Conference on Electrical Insulation and Dielectric Phenomena, IEEE, 178 (1990).
138. Y. B. Yankelevitch. Vacuum 30 (3), 97 (1979).
139. D. R. Harding, L. U. T. Ogbuji, M. J. Freeman. J. Appl. Phys. 78 (3), 1673 (1995).
140. L. N. Aleksandrov and F. L. Edelman. Thin Solid Films 66 (1), 85 (1980).
141. E. A. Irene, V. J. Silvestri, G. R. Woolhouse. J. Electron. Mater. 4 (3), 409 (1975).
142. F. Placido, J. Russell, Z. Gou. SPIE 2776, 159-168 (1996).
143. A. von Richthofen and R. Dominick. Thin Solid Films 283, 37 (1996).
144. M. D. Diatezua, P. A. Thiry, Ph. Lambin, R. Caudano. Phys. Rev. B 48 (12), 8701 (1993).
145. M. D. Diatezua, P. A. Thiry, G. Terwagne, R. Caudano. Surf Sci. 269/270, 1054-1059 (1992).
146. P. Poveda and A. Glachant. Microelectron. Eng. 28, 357 (1995).
147. R. Franchy, G. Schmitz, P. Gassemann, F. Bartolucci. Appl. Phys. A 65, 551-566 (1997).
148. F. Bartolucci, G. Schmitz, P. Gassemann, R. Franchy. J. Appl. Phys. 80 (11), 6467-6473 (1996).
149. A. E. T. Kuiper, M. F. C. Willemsen, J. M. L. Mulder, J. B. Oude Elferink, F. H. P. M. Habraken, W. F. van der Weg. J. Vac. Sci. Technol. B 7 (3), 455 (1989).
150. V. Gräfe, D. Schalch, A. Scharmann. Phys. Stat. Sol. A 117, K23 (1990).
151. A. A. Saleh, J. B. Rothman, J. F. Kirchhoff, J. Yotab, C. Nguyen. Thin Solid Films 155-356, 363-366 (1999).
152. M. F. Lambrinos, R. Valizadeh, J. S. Colligon. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 127/128, 369-374 (1997).
153. M. Jacobs and F. Bodart. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 118, 714-717 (1996).
154. L. Hrubcín, J. Huran, R. Šandrik, A. P. Kobzev, D. M. Shirokov. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 85, 60 (1994).
155. th Biennial European Conference, 191 (1991).
156. L. G. Gosset, J.-J. Ganem, I. Trimaille, S. Sigo, F. Rochet, G. Dufour, F. Jolly, F. C. Stedile, I. J. R. Baumvol. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 136-138, 521-527 (1998).
157. H. van Bebber, L. Borucki, K. Farzin, A. Z. Kiss, W. H. Schulte. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 136-138, 72-76 (1998).
158. C. Rolfs and I. J. R. Baumvol. Z. Phys. A: At. Nucl. 353, 127 (1995).
159. F. H. M. P. Habraken and A. E. T. Kuiper. Thin Solid Films 193/194 (1-2), 665 (1990).
160. O. Sanchez, J. M. Martinez-Duart, R. J. Gomez-Sanroman, R. Perez-Casero, M. A. Aguilar, C. Falcony, F. Fernandez-Gutierrez, M. Hernández- Vélez. J. Mater. Sci. 34, 3007-3012 (1999).
161. T. D. M. Salagado, F. C. Stedile, C. Krug, I. J. R. Baumvol, C. Radtke. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 148, 252-256 (1999).
162. I. J. R. Baumvol, F. C. Stedile, J.-J. Ganem, I. Trimaille, S. Rigo. Appl. Phys. Lett. 70 (15), 2007-2009 (1997).
163. A. Monelli, F. Corni, R. Tonini, C. Ferrari, G. Ottaviani, L. Zanotti, G. Queirolo. J. Appl. Phys. 80 (1), 109 (1996).
164. A. Sassella, A. Borghesi, F. Corni, A. Monelli, G. Ottaviani, R. Tonini, B. Pivac, M. Bachetta, L. Zanotti. J. Vac. Sci. Technol. A 15 (2), 377 (1997).
165. F. Corni, A. Monelli, G. Ottaviani, R. Tonini, G. Queirolo, L. Zanotti. J. Non-Cryst. Solids 216, 71 (1997).
166. K. H. Ecker, U. Reinholz, M. Volbracht, H.-P. Weise. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 136-138, 1277 (1998).
167. Handbook of Modern Ion Beam Materials Analysis, J. R. Tesmer and M. Nastasi (Eds.), MRS, Pittsburgh, PA (1995).
168. B. Semmache, M. Lemiti, Ch. Chanelière, Ch. Dubois, A. Sibai, B. Canut, A. Laugier. Thin Solid Films 296, 32-36 (1997).
169. I. W. Boyd. Mater. Sci. Forum 173-174, 81 (1995).
170. I. W. Boyd, J.-Y. Zhang, P. Bergonzo. Proc. Soc. Photo-Opt. Instrum. Eng. (SPIE) - International Society for Optical Engineering 2403, 290 (1995).
171. R. I. Hedge, P. J. Tobin, K. G. Reid, B. Maiti, S. A. Ajuria. Appl. Phys. Lett. 66 (21), 2882 (1995).
172. Y. Okada, P. J. Tobin, R. I. Hedge, J. Liao, P. Rushbrook. Appl. Phys. Lett. 61 (26), 3163 (1992).
173. S. Singhvi and C. G. Takoudis. J. Appl. Phys. 82 (1), 442-448 (1997).
174. C. G. Sodini and K. S. Krisch. Proceedings of the IEEE International Electron Device Meeting, 617 (1992).
175. A. Hashimoto and M. Kobayashi. OKI Technical Rev. 52 (124), 49 (1986).
176. R. J. Hussey, T. L. Hoffman, Y. Tao, M. J. Graham. J. Electrochem. Soc. 143 (1), 221 (1996).
177. H. Ono, T. Ikarashi, Y. Miura, E. Haegawa, K. Ando, T. Kitano. Appl. Phys. Lett. 74 (2), 203-205 (1999).
178. F. Präßler, V. Hoffmann, J. Schumann, K. Wetzig. J. Anal. At. Spectrom. 10, 677 (1995).
179. D. Rats, D. Poitras, J. M. Soro, L. Martinu, J. von Stebut. Surf. Coat. Technol. 111, 220-228 (1999).
180. Ch. Chiang, G. Neubauer, A. Sauter Mack, K. Yoshioka, G. Cuan, P. A. Flinn, D. B. Fraser. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 265, 219 (1992).
181. R. V. Smilgys, E. Takmura, I. L. Singer, S. W. Robey, D. A. Kirkpatrick. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 388, 311 (1995).
182. E. Baclez, B. Mutel, O. Dessaux, P. Goudmand, J. Grimblot, L. Gengembre. Thin Solid Films 303, 156-166 (1997).
183. N. Randall (Ed.). CSEM Instruments, Advanced Mechanical Surface Testing, Applications Bulletin 3 (1997), CSEM Instruments, Neuchâtel, Switzerland, 〈http://www.csem.ch/instrum〉.
184. S. D. Dvorak, O. D. Greenwood, W. N. Unertl, R. J. Lad. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 522, 439-444 (1998).
185. th International Plansee Seminar, G. Kneringer, P. Rödhammer, H. Wildner (Eds.), 4, GT48, 216-228 (2001).
186. T. Kolber, K. Piplits, S. Dreer, E. Mersdorf, R. Haubner, H. Hutter. Appl. Surf. Sci. 167, 79 (2000).