Crystallographic and microstructural studies of BaTiO3 thin films grown on SrTiO3 by laser molecular beam epitaxy

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 15, Issue 2, 1997, Pages 275-278

  Cui, Da Fu ^a   Wang, Hui Sheng ^a   Chen, Zheng Hao ^a   Zhou, Yue Liang ^a   Lu, Hui Bin ^a   Yang, Guo Zhen ^a   Ma, Kun ^a   Chen, Hong ^a   Li, Lin ^a   Liu, Wei ^a   Zhang, Yun ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 4043057910     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580524     Document Type: Article

References (20)

1. G. M. Davis and M. C. Gower, Appl. Phys. Lett. 55, 112 (1989).
2. T. W. Kim, M. Jung, H. J. Kim, Y. S. Yoon, W. N. Kang, and S. S. Yom, Appl. Phys. Lett. 62, 1788 (1993).
3. W. J. Lin, T. Y. Tseng, H. B. Lu, S. L. Tu, S. J. Yang, and I. N. Lin, J. Appl. Phys. 77, 6466 (1995).
4. P. K. Singh, S. Cochrane, W.-T. Liu, K. Chen, D. B. Knorr, J. M. Borrego, E. J. Rymaszewski, and T. M. Lu, Appl. Phys. Lett. 66, 3683 (1995).
5. D. H. Kim and H. S. Kwok, Appl. Phys. Lett. 67, 1803 (1995).
6. H. A. Lu, L. A. Wills, B. W. Wessels, W. P. Lin, T. G. Zhang, G. K. Wong, D. A. Neumayer, and T. J. Marks, Appl. Phys. Lett. 62, 1314 (1993).
7. T. Okada, Y. Nakada, H. Kaibara, and M. Maeda, Jpn. J. Appl. Phys. 34, L1536 (1995).
8. L. D. Rotter, D. L. Kaiser, and M. D. Vaudin, Appl. Phys. Lett. 68, 310 (1996).
9. S. Kim, S. Hishita, Y. M. Kang, and S. Baik, J. Appl. Phys. 78, 5604 (1995).
10. M. Kuwabara, S. Takahashi, and T. Kurod, Appl. Phys. Lett. 62, 3372 (1993).
11. J. Zhang, Z. H. Chen, D. F. Cui, H. B. Lu, Y. L. Zhou, L. Li, G. Z. Yang, N. Jinag, and J. M. Hao, Appl. Phys. Lett. 66, 2069 (1995).
12. K. Ma, J. Zhang, J. Z. Lui, D. F. Cui, Z. H. Chen, Y. L. Zhou, and L. Li, Phys. Status Solidi A 152, K11 (1995).
13. M. B. Lee, M. Kawasaki, M. Yoshimoto, and H. Koimuma, Appl. Phys. Lett. 66, 1331 (1995).
14. M. Kanai, T. Kawai, and S. Kawai, Appl. Phys. Lett. 58, 771 (1991).
15. H. Koinuma, H. Nagata, T. Tsukahara, S. Gonda, and M. Yoshimoto, Appl. Phys. Lett. 58, 2027 (1991).
16. T. Frey, C. C. Chi, C. C. Tsuei, T. Shaw, and F. Bozso, Phys. Rev. B 49, 3483 (1994)
17. D. F. Cui, C. L. Li, K. Ma, Y. L. Zhou, Y. W. Liu, Z. H. Chen, J. W. Ma, and L. Li, Appl. Phys. Lett. 68, 750 (1995).
18. Y. M. Kang, J. K. Ku, and S. Baik, J. Appl. Phys. 78, 2601 (1995).
19. C. M. Foster, Z. Li, M. Buckett, D. Miller, P. M. Baldo, L. E. Rehn, G. R. Bai, D. Guo, H. You, and K. L. Merkle, J. Appl. Phys. 78, 2607 (1995).
20. H. S. Wang, K. Ma, D. F. Cui, Z. Q. Peng, Y. L. Zhou, H. B. Lu, Z. H. Chen, L. Li, and G. Z. Yang, J. Cryst. Growth 174 (in press).