Inhibition of O2 reduction on AA2024-T3 using a Zr(IV)-octadecyl phosphonate coating system

Electrochemical and Solid-State Letters

Volumn 11, Issue 2, 2008, Pages

  Dufek, Eric J ^a,b   Buttry, Daniel A ^a,b  

^a UNIVERSITY OF WYOMING   (United States)

^b ELECTROCHEMICAL SOCIETY

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; COATINGS; MONOLAYERS; SELF ASSEMBLY; SURFACE TREATMENT;

OCTADECYL CHAINS; OCTADECYL PHOSPHONATE; THIN-FILM COATINGS;

THIN FILMS;

EID: 37549037791     PISSN: 10990062     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2820398     Document Type: Article

References (42)

1. J. Zhao, L. Xia, A. Sehgal, D. Lu, R. L. McCreery, and G. S. Frankel, Surf. Coat. Technol., 140, 51 (2001).
2. W. R. McGovern, P. Schmutz, R. G. Buchheit, and R. L. McCreery, J. Electrochem. Soc., 147, 4494 (2000).
3. P. Campestrini, G. Goeminne, H. Terryn, J. Vereecken, and J. H. W. de Wit, J. Electrochem. Soc., 151, B59 (2004).
4. M. A. Jakab, F. Presuel-Moreno, and J. R. Scully, J. Electrochem. Soc., 153, B244 (2006).
5. K. A. Yasakau, M. L. Zheludkevich, S. V. Lamaka, and M. G. S. Ferreira, J. Phys. Chem. B, 110, 5515 (2006).
6. P. Campestrini, H. Terryn, A. Hovestad, and J. H. W. de Wit, Surf. Coat. Technol., 176, 365 (2004).
7. M. A. Jakab and J. R. Scully, Nat. Mater., 4, 667 (2005).
8. A. M. Cabral, R. G. Duarte, M. F. Montemor, and M. G. S. Ferreira, Prog. Org. Coat., 54, 322 (2005).
9. M. L. Zheludkevich, K. A. Yasakau, S. K. Poznyak, and M. G. S. Ferreira, Corros. Sci., 47, 3368 (2005).
10. D. Wang, Y. Ni, Q. Huo, and D. E. Tallman, Thin Solid Films, 471, 177 (2004).
11. J. C. Seegmiller, J. E. Pereira da Silva, D. A. Buttry, S. I. Cordoba de Torresi, and R. M. Torresi, J. Electrochem. Soc., 152, B45 (2005).
12. D. Ho, N. Brack, J. Scully, T. Markley, M. Forsyth, and B. Hinton, J. Electrochem. Soc., 153, B392 (2006).
13. V. Palanivel, Y. Huang, and W. J. van Ooij, Prog. Org. Coat., 53, 153 (2005).
14. R. C. Bazito and D. A. Buttry, in Surface Oxide Films, V. I. Birss, L. D. Burke, A. R. Hellman, and, R. S. Lillard, Editors, PV 2003-25, p. 241, The Electrochemical Society Proceedings Series, Pennington, NJ (2004).
15. F. J. Presuel-Moreno, M. A. Jakab, and J. R. Scully, J. Electrochem. Soc., 152, B376 (2005).
16. N. Birbilis, R. G. Buchheit, D. L. Ho, and M. Forsyth, Electrochem. Solid-State Lett., 8, C180 (2005).
17. J. C. Seegmiller, R. C. Bazito, and D. A. Buttry, in Corrosion and Protection of Light Metal Alloys, R. G. Buchheit, R. G. Kelley, N. A. Missert, and, B. A. Shaw, Editors, PV 2003-23, p. 29, The Electrochemical Society Proceedings Series, Pennington, NJ (2004).
18. J. C. Seegmiller and D. A. Buttry, J. Electrochem. Soc., 150, B413 (2003).
19. M. B. Vukmirovic, N. Dimitrov, and K. Sieradzki, J. Electrochem. Soc., 149, B428 (2002).
20. R. G. Buchheit, R. P. Grant, P. F. Hlava, B. McKenzie, and G. L. Zender, J. Electrochem. Soc., 144, 2621 (1997).
21. R. G. Buchheit, L. P. Montes, M. A. Martinez, J. Michael, and P. F. Hlava, J. Electrochem. Soc., 146, 4424 (1999).
22. E. J. Dufek, J. C. Seegmiller, R. C. Bazito, and D. A. Buttry, J. Electrochem. Soc., 154, C458 (2007).
23. H. Byrd, J. K. Pike, and D. R. Talham, Chem. Mater., 5, 709 (1993).
24. H. Byrd, J. L. Snover, and M. E. Thompson, Langmuir, 11, 4449 (1995).
25. H. Byrd, S. Whipps, J. K. Pike, J. Ma, S. E. Nagler, and D. R. Talham, J. Am. Chem. Soc., 116, 295 (1994).
26. A. Clearfield, J. D. Wang, Y. Tian, E. Stein, and C. Bhardwaj, J. Solid State Chem., 117, 275 (1995).
27. G. A. Neff, M. R. Helfrich, M. C. Clifton, and C. J. Page, Chem. Mater., 12, 2363 (2000).
28. T. M. Putvinski, M. L. Schilling, H. E. Katz, C. E. D. Chidsey, A. M. Mujsce, and A. B. Emerson, Langmuir, 6, 1567 (1990).
29. M. A. Rodrigues, D. F. S. Petri, M. J. Politi, and S. Brochsztain, Thin Solid Films, 371, 109 (2000).
30. M. L. Schilling, H. E. Katz, S. M. Stein, S. F. Shane, W. L. Wilson, S. B. Ungashe, G. N. Taylor, T. M. Putvinski, C. E. D. Chidsey, and S. Buratto, Langmuir, 9, 2156 (1993).
31. H. G. Hong, D. D. Sackett, and T. E. Mallouk, Chem. Mater., 3, 521 (1991).
32. H. Lee, L. J. Kepley, H. G. Hong, S. Akhter, and T. E. Mallouk, J. Phys. Chem., 92, 2597 (1988).
33. G. Cao, H. G. Hong, and T. E. Mallouk, Acc. Chem. Res., 25, 420 (1992).
34. H. Lee, F. Xu, C. S. Jeffcoate, and H. S. Isaacs, Electrochem. Solid-State Lett., 4, B31 (2001).
35. J. C. Seegmiller, R. C. Bazito, and D. A. Buttry, Electrochem. Solid-State Lett., 7, B1 (2004).
36. A. Roberts, D. Engelberg, Y. Liu, G. E. Thompson, and M. R. Alexander, Surf. Interface Anal., 33, 697 (2002).
37. P. E. Laibinis, G. M. Whitesides, D. L. Allara, Y. T. Tao, A. N. Parikh, and R. G. Nuzzo, J. Am. Chem. Soc., 113, 7152 (1991).
38. M. D. Porter, T. B. Bright, D. L. Allara, and C. E. D. Chidsey, J. Am. Chem. Soc., 109, 3559 (1987).
39. W. Gao, L. Dickinson, C. Grozinger, F. G. Morin, and L. Reven, Langmuir, 12, 6429 (1996).
40. S. Pawsey, K. Yach, and L. Reven, Langmuir, 18, 5205 (2002).
41. J. Randon, P. Blanc, and R. Paterson, J. Membr. Sci., 98, 119 (1995).
42. S. R. Holmes-Farley, R. H. Reamey, R. Nuzzo, T. J. McCarthy, and G. M. Whitesides, Langmuir, 3, 799 (1987).