-
1
-
-
3242729293
-
-
0018-9219
-
R. Nötzel, T. Mano, Q. Gong, and J. H. Wolter, in Nanoelectronics and Nanoscale Processing, special issue of Proc. IEEE 0018-9219 91, 1898 (2003), and references therein.
-
(2003)
Nanoelectronics and Nanoscale Processing
, vol.91
, pp. 1898
-
-
Nötzel, R.1
Mano, T.2
Gong, Q.3
Wolter, J.H.4
-
2
-
-
0000494852
-
-
W. Seifert, N. Carlsson, A. Petersson, L.-E. Wernersson, and L. Samuelson, Appl. Phys. Lett. 68, 1684 (1996).
-
(1996)
Appl. Phys. Lett.
, vol.68
, pp. 1684
-
-
Seifert, W.1
Carlsson, N.2
Petersson, A.3
Wernersson, L.-E.4
Samuelson, L.5
-
3
-
-
23044522764
-
-
H. Lee, J. A. Johnson, J. S. Speck, and P. M. Petroff, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 2193 (2000).
-
(2000)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.18
, pp. 2193
-
-
Lee, H.1
Johnson, J.A.2
Speck, J.S.3
Petroff, P.M.4
-
4
-
-
0036644966
-
-
Y. Nakamura, O. G. Schmidt, N. Y. Jin-Phillipp, S. Kiravittaya, C. Müller, K. Eberl, H. Gräbeldinger, and H. Schweizer, J. Cryst. Growth 242, 339 (2002).
-
(2002)
J. Cryst. Growth
, vol.242
, pp. 339
-
-
Nakamura, Y.1
Schmidt, O.G.2
Jin-Phillipp, N.Y.3
Kiravittaya, S.4
Müller, C.5
Eberl, K.6
Gräbeldinger, H.7
Schweizer, H.8
-
5
-
-
79955993622
-
-
T. Mano, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 81, 1705 (2002).
-
(2002)
Appl. Phys. Lett.
, vol.81
, pp. 1705
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Hamhuis, G.J.3
Eijkemans, T.J.4
Wolter, J.H.5
-
6
-
-
3242694425
-
-
T. v. Lippen, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, and J. H. Wolter, Appl. Phys. Lett. 85, 118 (2004).
-
(2004)
Appl. Phys. Lett.
, vol.85
, pp. 118
-
-
Lippen, T.V.1
Nötzel, R.2
Hamhuis, G.J.3
Wolter, J.H.4
-
7
-
-
0005834097
-
-
Q. Xie, A. Madhukar, P. Chen, and N. P. Kobayashi, Phys. Rev. Lett. 75, 2542 (1995).
-
(1995)
Phys. Rev. Lett.
, vol.75
, pp. 2542
-
-
Xie, Q.1
Madhukar, A.2
Chen, P.3
Kobayashi, N.P.4
-
8
-
-
0005580628
-
-
G. S. Solomon, J. A. Trezza, A. F. Marshall, and J. S. Harris, Jr., Phys. Rev. Lett. 76, 952 (1996).
-
(1996)
Phys. Rev. Lett.
, vol.76
, pp. 952
-
-
Solomon, G.S.1
Trezza, J.A.2
Marshall, A.F.3
Harris Jr., J.S.4
-
9
-
-
19944432394
-
-
T. Mano, R. Nötzel, D. Zhou, G. J. Hamhuis, T. J. Eijkemans, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 97, 014304 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.97
, pp. 014304
-
-
Mano, T.1
Nötzel, R.2
Zhou, D.3
Hamhuis, G.J.4
Eijkemans, T.J.5
Wolter, J.H.6
-
10
-
-
33947322509
-
-
E. Selcuk, T. v. Lippen, G. J. Hamhuis, and R. Nötzel, J. Cryst. Growth 301-302, 701 (2007).
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.301-302
, pp. 701
-
-
Selcuk, E.1
Lippen, T.V.2
Hamhuis, G.J.3
Nötzel, R.4
-
11
-
-
0342799877
-
-
R. Nötzel, M. Ramsteiner, J. Menniger, A. Trampert, H.-P. Schönherr, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Appl. Phys. 80, 4108 (1996).
-
(1996)
J. Appl. Phys.
, vol.80
, pp. 4108
-
-
Nötzel, R.1
Ramsteiner, M.2
Menniger, J.3
Trampert, A.4
Schönherr, H.-P.5
Däweritz, L.6
Ploog, K.H.7
-
12
-
-
19944432394
-
-
T. v. Lippen, R. Nötzel, G. J. Hamhuis, and J. H. Wolter, J. Appl. Phys. 97, 014304 (2005).
-
(2005)
J. Appl. Phys.
, vol.97
, pp. 014304
-
-
Lippen, T.V.1
Nötzel, R.2
Hamhuis, G.J.3
Wolter, J.H.4
|