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Volumn 51, Issue 12, 1987, Pages 919-921

Study of thermally oxidized yttrium films on silicon

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EID: 36549102892     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.98801     Document Type: Article
Times cited : (133)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.