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Volumn 58, Issue 1, 1985, Pages 535-540

Hydrogen content of amorphous silicon films deposited in a multipole plasma

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EID: 36549098278     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.335658     Document Type: Article
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References (41)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.