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Volumn 71, Issue 1, 1992, Pages 113-117

Numerical simulation of plasma sheath expansion, with applications to plasma-source ion implantation

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EID: 36449008738     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.350740     Document Type: Article
Times cited : (98)

References (12)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.