Surface composition and electrical and electrochemical properties of freshly deposited and acid-etched indium tin oxide electrodes

Langmuir

Volumn 23, Issue 22, 2007, Pages 11089-11099

  Brumbach, Michael ^a   Veneman, P Alex ^a   Matrikar, F Saneeha ^a,b   Schulmeyer, Thomas ^a,c   Simmonds, Adam ^a,d   Xia, Wei ^a,e   Lee, Paul ^a   Armstrong, Neal R ^a  

^a University of Arizona   (United States)

^b Huntsman International LLC   (United States)

^c Advanced Mask Technology Center   (Germany)

^d Sion Power Corporation   (United States)

^e Digital Instruments   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBONACEOUS IMPURITIES; HYDROXYL SPECIES; STOICHIOMETRIC INDIUM OXIDE LATTICE;

ELECTROCHEMICAL PROPERTIES; INDIUM COMPOUNDS; SURFACE PROPERTIES; WATER VAPOR; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ELECTROCHEMICAL ELECTRODES;

EID: 35948992622     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la701754u     Document Type: Article

References (74)

1. Kim, J. S.; Ho, P. K. H.; Thomas, D. S.; Friend, R. H.; Cacialli, F.; Bao, G. W.; Li, S. F. Y. Chem. Phys. Lett. 1999, 315, 307.
2. Kim, J. S.; Friend, R. H.; Cacialli, F. J. Appl. Phys. 1999, 86, 2774.
3. Kim, J. S.; Lagel, B.; Moons, E.; Johansson, N.; Baikie, I. D.; Salaneck, W. R.; Friend, R. H.; Cacialli, F. Synth. Met. 2000, 111, 311.
4. Kim, J. S.; Cacialli, F.; Friend, R. Thin Solid Films 2003, 445, 358.
5. Popovich, N. D.; Wong, S. S.; Yen, B. K. H.; Yeom, H. Y.; Paine, D. C. Anal. Chem. 2002, 74, 3127.
6. Popovich, N. D.; Wong, S. S.; Ufer, S.; Sakhrani, V.; Paine, D. J. Electrochem. Soc. 2003, 150, H255.
7. Swint, A. L.; Bohn, P. W. Langmuir 2004, 20, 4076.
8. Swint, A. L.; Bohn, P. W. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 61.
9. Gassenbauer, Y.; Klein, A. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 4793.
10. Gassenbauer, Y.; Schafranek, R.; Klein, A.; Zafeiratos, S.; Havecker, M.; Knop-Gericke, A.; Schlogl, R. Phys. Rev. B 2006, 73, 245312.
11. Gassenbauer, Y.; Klein, A. Solid State Ionics 2004, 173, 141.
12. Armstrong, N. R.; Lin, A. W. C.; Fujihira, M.; Kuwana, T. Anal. Chem. 1916, 48, 741.
13. Armstrong, N. R.; Carter, C.; Donley, C.; Simmonds, A.; Lee, P.; Brumbach, M.; Kippelen, B.; Domercq, B.; Yoo, S. Thin Solid Films 2003, 445, 342.
14. Donley, C.; Dunphy, D.; Paine, D.; Carter, C.; Nebesny, K.; Lee, P.; Alloway, D.; Armstrong, N. R. Langmuir 2002, 18, 450.
15. Carter, C.; Brumbach, M.; Donley, C.; Hreha, R. D.; Marder, S. R.; Domercq, B.; Yoo, S.; Kippelen, B.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 25191.
16. Marrikar, F. S.; Brumbach, M.; Evans, D.; Lebron-Paler, A.; Pemberton, J.; Wysocki, R.; Armstrong, N. Langmuir 2006, 23, 1530.
17. Xia, W. Ph.D. Thesis, University of Arizona, 2005.
18. Brumbach, M. Ph.D. Thesis, University of Arizona, 2007.
19. Donley, C. L. Ph.D. Thesis, University of Arizona, 2003.
20. Milliron, D. J.; Hill, I. G.; Shen, C.; Kahn, A.; Schwartz, J. J. Appl. Phys. 2000, 87, 572.
21. Purvis, K. L.; Lu, G.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2000, 722, 1808.
22. Bruner, E. L.; Koch, N.; Span, A. R.; Bernasek, S. L.; Kahn, A.; Schwartz, J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 3192.
23. Guo, J.; Koch, N.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3966.
24. Hanson, E. L.; Guo, J.; Koch, N.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 10058.
25. Bermudez, V. M.; Berry, A. D.; Kim, H.; Pique, A. Langmuir 2006, 22, 11113.
26. Karsi, N.; Lang, P.; Chehimi, M.; Delamar, M.; Horowitz, G. Langmuir 2006, 22, 3118.
27. Hwang, J. H.; Edwards, D. D.; Kammler, D. R.; Mason, T. O. Solid State Ionics 2000, 129, 135.
28. Warschkow, O.; Ellis, D. E.; Gonzalez, G. B.; Mason, T. O. J. Am. Ceram. Soc. 2003, 86, 1700.
29. Harvey, S. P.; Mason, T. O.; Gassenbauer, Y.; Schafranek, R.; Klein, A. J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 3959.
30. Warschkow, O.; Miljacic, L.; Ellis, D. E.; Gonzalez, G. B.; Mason, T. O. J. Am. Ceram. Soc. 2006, 89, 616.
31. Nakao, T.; Nakada, T.; Nakayama, Y.; Miyatani, K.; Kimura, Y.; Saito, Y.; Kaito, C. Thin Solid Films 2000, 370, 155.
32. Kobayashi, T.; Kimura, Y.; Suzuki, H.; Sato, T.; Tanigaki, T.; Saito, Y.; Kaito, C. J. Cryst. Growth 2002, 243, 143.
33. Ge, C. H.; Doherty, W. J.; Mendes, S. B.; Armstrong, N. R.; Saavedra, S. S. Talanta 2005, 65, 1126.
34. Tengstedt, C.; Crispin, A.; Hsu, C. H.; Zhang, C.; Parker, I. D.; Salaneck, W. R.; Fahman, M. Org. Electron. 2005, 6, 21.
35. de Jong, M. P.; van Ijzendoorn, L. J.; de Voigt, M. J. A. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2255.
36. Cao, Y.; Yu, G.; Zhang, C.; Menon, R.; Heeger, A. J. Synth. Met. 1997, 87, 171.
37. Greczynski, G.; Kugler, T.; Keil, M.; Osikowicz, W.; Fahlman, M.; Salaneck, W. R. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2001, 121, 1.
38. Liau, Y. H.; Scherer, N. F.; Rhodes, K.J. Phys. Chem. B2001, 105, 3282.
39. Vandenmeerakker, J.; Baarslag, P. C.; Scholten, M. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 2321.
40. Scholten, M.; Vandenmeerakker, J. J. Electrochem. Soc. 1993, 140, 471.
41. Shigesato, Y.; Paine, D. C. Thin Solid Films 1994, 238, 44.
42. Song, P. K.; Shigesato, Y.; Yasui, I.; Ow-Yang, C. W.; Paine, D. C. Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 1998, 37, 1870.
43. Nicholson, R. S. Anal. Chem. 1965, 37, 1351.
44. Breen, T. L.; Fryer, P. M.; Nunes, R. W.; Rothwell, M. E. Langmuir 2002, 18, 194.
45. Huang, C. J.; Su, Y. K.; Wu, S. L. Mater. Chem. Phys. 2004, 84, 146.
46. Monk, P. M. S.; Man, C. M. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 1999, 10, 101.
47. Vandenmeerakker, J.; Baarslag, P. C.; Walrave, W.; Vink, T. J.; Daams, J. L. C. Thin Solid Films 1995, 266, 152.
48. Paine, D. C.; Whitson, T.; Janiac, D.; Beresford, R.; Yang, C. O.; Lewis, B. J. Appl. Phys. 1999, 85, 8445.
49. Brumbach, M.; Armstrong, N. R. To be submitted for publication.
50. Sugiyama, K.; Ishii, H.; Ouchi, Y.; Seki, K. J. Appl. Phys. 2000, 87, 295.
51. Chaney, J. A.; Pehrsson, P. E. Appl. Surf. Sci. 2001, 180, 214.
52. Schlaf, R.; Murata, H.; Kafafi, Z. H. J. ElecronSpectrosc. Relat. Phenom. 2001, 120, 149.
53. Kim, J. S.; Cacialli, F.; Granstrom, M.; Friend, R. H.; Johansson, N.; Salaneck, W. R.; Daik, R.; Feast, W. J. Synth. Met. 1999, 101, 111.
54. Christou, V.; Etchells, M.; Renault, O.; Dobson, P. J.; Salata, O. V.; Beamson, G.; Egdell, R. G. J. Appl. Phys. 2000, 88, 5180.
55. Wertheim, G. K.; Dicenzo, S. B. J. Elecron Spectrosc. Relat. Phenom. 1985, 37, 57.
56. Wertheim, G. K. J. Elecron Spectrosc. Relat. Phenom. 1992, 60, 237.
57. Lin, A. W. C.; Armstrong, N. R.; Kuwana, T. Anal. Chem. 1977, 49, 1228.
58. Fu, Q.; Wagner, T.; Ruhle, M. Surf. Sci. 2006, 600, 4870.
59. Elam, J. W.; Nelson, C. E.; Cameron, M. A.; Tolbert, M. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 7008.
60. Klein, A. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2009.
61. Gonzalez, G. B.; Cohen, J. B.; Hwang, J.-H.; Mason, T. O.; Hodges, J. P.; Jorgensen, J. D. J. Appl. Phys. 2001, 89, 2550.
62. Gonzalez, G. B.; Mason, T. O.; Quintana, J. P.; Warschkow, O.; Ellis, D.E.; Hwang, J.-H.; Hodges, J.P.; Jorgensen, J.D.J. Appl. Phys. 2004, 96, 3912.
63. Brumbach, M. Unpublished work.
64. Kielwein, M.; Saiki, K.; Roth, G.; Fink, J.;Paasch, G.; Egdell, R.G. Phys. Rev. B 1995, 51, 10320.
65. Chazalviel, J.-N.; Champagna, M.; Wertheim, G. K. Phys. Rev. B 1977, 16, 697-705.
66. Wertheim, G. K.; Guggenheim, H. J. Phys. Rev. B 1980, 22, 4680-4683.
67. Bard, A. J.; Faulkner, L. R. Electrochemical Methods Fundamentals and Applications, 2nd ed.; John Wiley & Sons: New York, 2001.
68. Amatore, C.; Saveant, J. M.; Tessier, D. J. Electroanal. Chem 1983, 147, 39.
69. Amatore, C.; Saveant, J. M.; Tessier, D. J. Electroanal. Chem. 1983, 146, 37.
70. Duo, I.; Fujishima, A.; Comninellis, C. H. Electrochem. Commun 2003 5, 695.
71. Holt, K. B.; Bard, A. J.; Show, Y.; Swain, G. M. J. Phys. Chem. B 2004 108, 15117.
72. Popovich, N. D.; Yen, B. K.; Wong, S. S. Langmuir 2003, 79, 1324.
73. Williams, J. A.; Lee, D. H.; Vuong, K. D.; Tenpas, E. W.; Wu, V.; Moss, R.; Robert A. Condrate, S.; Wang, X. W. Atmospheric rf Plasma Coating of Indium and Tin Oxide Films. In Optical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion XIV; Lampert, C. M., Deb, S. K., Granqvist, C-G., Eds.; SPIE: Bellingham, WA, 1995; p 333.
74. Wu, C. C.; Wu, C. I.; Sturm, J. C.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1348.