A statistical simulation approach for early stage thin-film growth from vapor-deposited atoms

Journal of Chemical Physics

Volumn 127, Issue 14, 2007, Pages

  Chen, Peilong ^a   Wang, T Y ^a   Luo, M F ^a  

^a NATIONAL CENTRAL UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPUTER SIMULATION; DEPOSITION RATES; MONTE CARLO METHODS; RANDOM PROCESSES; SUBSTRATES; VAPOR DEPOSITION;

ATOMIC SURFACE PROCESSES; LOW DEPOSITION RATES; STATISTICAL SIMULATION METHODS; THIN FILM GROWTHS;

FILM GROWTH;

EID: 35248887698     PISSN: 00219606     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2790435     Document Type: Article

References (33)

1. Z. Zhang and M. G. Lagally, Science 276, 377 (1997).
2. S. C. Wang and G. Ehrlich, Phys. Rev. Lett. 67, 2509 (1991).
3. G. L. Kellogg, Phys. Rev. Lett. 67, 216 (1991).
4. T. Y. Fu and T. T. Tsong, Phys. Rev. B 61, 4511 (2000).
5. T. T. Tsong, Prog. Surf. Sci. 67, 235 (2000).
6. B. Lewis and D. S. Campbell, J. Vac. Sci. Technol. 4, 209 (1967).
7. J. A. Venables, Philos. Mag. 27, 697 (1973).
8. Y. W. Mo, J. Kleiner, M. B. Webb, and M. G. Lagally, Phys. Rev. Lett. 66, 1998 (1991).
9. Y. W. Mo, J. Kleiner, M. B. Webb, and M. G. Lagally, Surf. Sci. 268, 275 (1992).
10. A. Pimpinelli, J. Villain, and D. E. Wolf, Phys. Rev. Lett. 69, 985 (1992).
11. M. C. Bartelt and J. W. Evans, Phys. Rev. B 46, 12675 (1992).
12. J. W. Evans and M. C. Bartelt, Langmuir 12, 217 (1996).
13. J. G. Amar and F. Family, Phys. Rev. Lett. 74, 2066 (1995).
14. J. A. Stroscio and D. T. Pierce, Phys. Rev. B 49, 8522 (1994).
15. D. D. Chambliss and K. E. Johnson, Phys. Rev. B 50, 5012 (1994).
16. Z. Zhang, X. Chen, and M. G. Lagally, Phys. Rev. Lett. 73, 1829 (1994).
17. J. A. Meyer, J. Vrijmoeth, H. A. van der Vegt, E. Vlieg, and R. J. Behm, Phys. Rev. B 51, 14790 (1995).
18. G. S. Bales and D. C. Chrzan, Phys. Rev. Lett. 74, 4879 (1995).
19. I. Markov, Phys. Rev. B 54, 17930 (1996).
20. P. Jensen, A.-L. Barabasi, H. Larralde, S. Havlin, and H. E. Stanley, Phys. Rev. B 50, 15316 (1994).
21. M. Schroeder and D. E. Wolf, Phys. Rev. Lett. 74, 2062 (1995).
22. Z. Gai, B. Wu, J. P. Pierce, G. A. Farnan, D. Shu, M. Wang, Z. Zhang, and J. Shen, Phys. Rev. Lett. 89, 235502 (2002).
23. H. H. Chang, M. Y. Lai, J. H. Wei, C. M. Wei, and Y. L. Wang, Phys. Rev. Lett. 92, 066103 (2004).
24. K. H. Ernst, A. Ludviksson, R. Zhang, J. Yoshihara, and C. T. Campbell, Phys. Rev. B 47, 13782 (1993).
25. C. T. Campbell, Surf. Sci. Rep. 27, 1 (1997).
26. H.-J. Freund, Surf. Sci. 500, 271 (2002).
27. M. F. Luo, C. I. Chiang, H. W. Hsiu, S. D. Sartale, and C. C. Kuo, Nanotechnology 17, 360 (2006).
28. M. F. Luo, C. I. Chiang, H. W. Shiu, S. D. Sartale, T. Y. Wang, P. Chen, and C. C. Kuo, J. Chem. Phys. 124, 164709 (2006).
29. S. D. Sartale, K. L. Lin, C. I. Chiang, M. F. Luo, and C. C. Kuo, Appl. Phys. Lett. 89, 063118 (2006).
30. S. D. Sartale, H. W. Shiu, M. H. Ten, J. Y. Huang, and M. F. Luo, Surf. Sci. 600, 4978 (2006).
31. J. P. DeVita and L. M. Sander, Phys. Rev. B 72, 205421 (2005).
32. P. Jensen, H. Larralde, and A. Pimpinelli, Phys. Rev. B 55, 2556 (1997).
33. T. R. Mattsson, G. Mills, and H. Metiu, J. Chem. Phys. 110, 12151 (1999).