Effect of substrate temperature on the structural and luminescent characteristics of RF-Magnetron-Sputtered ZnGa2 O4: Dy3+ thin films

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 154, Issue 11, 2007, Pages

  Krishna, K Mini ^a   Anoop, G ^a,b   Jayaraj, M K ^a  

^a Department of Physics   (India)

^b ELECTROCHEMICAL SOCIETY

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; MAGNETRON SPUTTERING; PHOTOLUMINESCENCE; QUARTZ; SUBSTRATES; SURFACE MORPHOLOGY;

POLYCRYSTALLINE FILMS; QUARTZ SUBSTRATES; WHITE LUMINESCENCE;

THIN FILMS;

EID: 34848837707     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2780859     Document Type: Article

References (28)

1. I. K. Jeong, H. L. Park, and S. Mho, Solid State Commun., 105, 179 (1997).
2. S. Itoh, H. Toki, Y. Sato, K. Morimoto, and T. Kishino, J. Electrochem. Soc., 138, 1509 (1991).
3. L. Satyanarayana, C. V. Gopal Reddy, S. V. Manorama, and V. J. Rao, Sens. Actuators B, 46, 1 (1998).
4. J. S. Kim, S. G. Lee, H. L. Park, J. Y. Park, and S. D. Han, Mater. Lett., 58, 1354 (2004).
5. T. Minami, Y. Kuroi, T. Miyata, H. Yamada, and S. Takata, J. Lumin., 72-74, 997 (1997).
6. T. Minami, T. Maeno, Y. Kuroi, and S. Takata, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 34, L684 (1995).
7. T. Minami, Y. Kuroi, and S. Takata, J. Vac. Sci. Technol. A, 14, 1736 (1996).
8. Y. S. Jeong, J. S. Kim, and H. L. Park, Solid State Commun., 139, 157 (2006).
9. I. J. Hsieh, K. T. Chu, C. F. Yu, and M. S. Feng, J. Appl. Phys., 76, 3735 (1994).
10. L. E. Shea, R. K. Datta, and J. J. Brown, Jr., J. Electrochem. Soc., 141, 2198 (1994).
11. T. K. Tran, W. Park, J. W. Tomm, B. K. Wagner, S. M. Jacobsen, C. J. Summers, P. N. Yocom, and S. K. McClelland, J. Appl. Phys., 78, 5691 (1995).
12. T. Abritta and F. H. Blak, J. Lumin., 48-49, 558 (1991).
13. P. D. Rack, J. J. Peterson, and M. D. Potter, J. Mater. Res., 16, 1429 (2001).
14. C. F. Yu and P. Lin, J. Appl. Phys., 79, 7191 (1996).
15. Z. Xu, Y. Li, Z. Liu, and D. Wang, J. Alloys Compd., 391, 202 (2005).
16. J. B. Gruber, B. Zandi, U. V. Valiev, and S. A. Rakhimov, J. Appl. Phys., 94, 1030 (2003).
17. B. Liu, C. Shi, and Z. Qi, Appl. Phys. Lett., 86, 191111 (2005).
18. E. Loh, Phys. Rev., 147, 332 (1966).
19. W. Y. Shen, M. L. Pang, J. Lin, and J. Fang, J. Electrochem. Soc., 152, H25 (2005).
20. X. Liu, C. Lin, Y. Luo, and J. Lin, J. Electrochem. Soc., 154, J21 (2007).
21. J. Lin and Q. Su, J. Alloys Compd., 210, 159 (1994).
22. W. Y. Shen, M. L. Pang, J. Lin, and J. Fang, J. Electrochem. Soc., 152, H25 (2005).
23. M. L. Pang, W. Y. Shen, and J. Lin, J. Appl. Phys., 97, 033511 (2005).
24. K. Mini Krishna, G. Anoop, and M. K. Jayaraj, J. Electrochem. Soc., 154, J310 (2007).
25. Y. J. Kim, Y. H. Jeong, K. D. Kim, S. G. Kang, K. G. Lee, J. I. Han, Y. K. Park, and K. I. Cho, J. Vac. Sci. Technol. B, 16, 1239 (1998).
26. Y. E. Lee, D. P. Norton, J. D. Budai, C. M. Rouleau, and J. W. Park, J. Electroceram., 4, 293 (2000).
27. I. J. Hsieh, M. S. Feng, K. T. Kuo, and P. Lin, J. Electrochem. Soc., 141, 1671 (1994).
28. Q. Su, Z. Pei, L. Chi, H. Zhang, Z. Zhang, and F. Zou, J. Alloys Compd., 192, 25 (1993).