Growth of vertical nanorods with a MgZnO ternary phase through thermal evaporation

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 50, Issue 6, 2007, Pages 1701-1705

  Kong, Bo Hyun ^a   Kim, Dong Chan ^a   Kim, Yong Yi ^a   Cho, Hyung Koun ^a  

^a Sungkyunkwan University   (South Korea)

Author keywords

MgZnO; Nanorod; Thermal evaporation; Two step growth

Indexed keywords

EID: 34547298848     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.50.1701     Document Type: Article

References (23)

1. M. H. Huang, S. Mao, H. Feick, H. Q. Yan, Y. Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo and P. D. Yang, Science 292, 1897 (2001).
2. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
3. R. F. Service, Science 276, 895 (1997).
4. Y. Xia, P. Yang, Y. Sun, Y. Wu, B. Mayers, B. Gates, Y. Yin, F. Kim and H. Yan, Adv. Mater. 15, 353 (2003).
5. T. E. Park and H. K. Cho, J. Korean Phys. Soc. 47, S493 (2005).
6. B. H. Kong, D. C. Kim, Y. Y. Kim and H. K. Cho, J. Korean Phys. Soc. 49, S741 (2006).
7. P. Yu, Z. K. Tang, G. K. L. Wong, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma and Y. Segawa, Solid State Commun. 103, 459 (1997).
8. D. M. Bagnall, Y. F. Chen, Z. Zhu, T. Yao, S. Koyama, M. Y. Shen and T. Goto, Appl. Phys. Lett. 70, 2230 (1997).
9. J. Narayan, A. K. Sharama, A. Kvit, C. Jin, J. F. Muth and O. W. Holland, Solid State Commun. 121, 9 (2002).
10. A. Ohtomo, M. Kawasaki, T. Koida, K. Masubuchi, H. Koinuma, Y. Sakurai, Y. Yoshida, T. Yasuda and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 2466 (1998).
11. S. Choopun, R. D. Vispute, W. Yang, R. P. Sharma, T. Venkatesan and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 80, 1529 (2002).
12. N. B. Chen, H. Z. Wu and D. J. Qiu, Acta Phys. Sin. 53, 311 (2004).
13. S. H. Park, J. Korean Phys. Soc. 50, 16 (2007).
14. J. F. Sarver, F. L. Katnack and F. A. Hummel, J. Electrochem. Soc. 106, 960 (1959).
15. E. R. Segnit and A. E. Holland, J. Am. Ceram. Soc. 48, 412 (1965).
16. W. Yang, S. S. Hullavarad, B. Nagaraj, I. Takeuchi, R. P. Sharma, T. Venkatesan, R. D. Vispute and H. Shen, Appl. Phys. Lett. 82, 3424 (2003).
17. T. Makino, Y. Segawa, M. Kawasaki and H. Koinuma, Semicond. Sci. Technol. 20, S78 (2005).
18. E. S Jang, J. Y. Bae, J. Yoo, W. I. Park, D. W. Kim, G. C. Yi, T. Yatsui and M. Ohtsu, Appl. Phys. Lett. 88, 023102 (2006).
19. M. Zhi, L. Zhu, Z. Ye, F. Wang and B. Zhao, J. Phys. Chem. B109, 23930 (2005).
20. L. Zhu, M. Zhi, Z. Ye and B. Zhao, Appl. Phys. Lett. 88, 113106 (2006).
21. J. A. Van Vechten and T. K. Bergstresser, Phys. Rev. B 1, 3351 (1970).
22. Y. S. Chang, C. T. Chien, C. W. Chena, T. Y. Chu, H. H. Chiang, C. H. Ku, J. J. Wu, C. S. Lin, L. C. Chen and K. H. Chen, J. Appl. Phys. 101, 033502 (2007).
23. J. W. Kim, H. S. Kang, J. H. Kim and S. Y. Lee, J. Appl. Phys. 100, 033701 (2006).