Polymer viscoelasticity and residual stress effects on nanoimprint lithography

Advanced Materials

Volumn 19, Issue 10, 2007, Pages 1377-1382

  Ding, Yifu ^a   Ro, Hyun Wook ^a   Douglas, Jack F ^a   Jones, Ronald L ^a   Hine, Daniel R ^b   Karim, Alamgir ^a   Soles, Christopher L ^a  

^a NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

^b LABORATORY FOR PHYSICAL SCIENCES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIFFRACTION GRATINGS; KINETICS; NANOIMPRINT LITHOGRAPHY; POLYMETHYL METHACRYLATES; POLYSTYRENES; SHEAR VISCOSITY; SILICA; SILICON WAFERS; SOLVENTS; THERMODYNAMICS; VISCOELASTICITY; X RAY SCATTERING;

LINE-AND-SPACE GRATINGS; MOLTEN POLYMERS; PATTERN STABILITY;

RESIDUAL STRESSES;

LITHOGRAPHY; SILICA; VISCOELASTICITY; VISCOSITY;

EID: 34547237905     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200601998     Document Type: Article

References (32)

1. M. D. Austin, H. X. Ge, W. Wu, M. T. Li, Z. N. Yu, D. Wasserman, S. A. Lyon, S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 5299.
2. F. Hua, Y. G. Sun, A. Gaur, M. A. Meitl, L. Bilhaut, L. Rotkina, J. F. Wang, P. Geil, M. Shim, J. A. Rogers, A. Shim, Nano Lett. 2004, 4, 2467.
3. G. Reiter, Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 75.
4. J. Bischoff, D. Scherer, S. Herminghaus, P. Leiderer, Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 1536.
5. Y. Hirai, S. Yoshida, N. Takagi, J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 2765.
6. Y. Hirai, S. Yoshida, N. Takagi, Y. Tanaka, H. Yabe, K. Sasaki, H. Sumitani, K. Yamamoto, J. Appl. Phys. 2003, 42, 3863.
7. H. B. Cao, P. F. Nealey, W. D. Domke, J. Vac. Sci. Technol. B 2000, 18, 3303.
8. K. Van Workum, J. J. de Pablo, Nano Lett. 2003, 3, 1405.
9. C. M. Stafford, B. D. Vogt, C. Harrison, D. Julthongpiput, R. Huang, Macromolecules 2006, 39, 5095.
10. R. L. Jones, T. Hu, E. K. Lin, W L. Wu, R. Kolb, D. M. Casa, P. J. Bolton, G. G. Barclay, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4059.
11. T. J. Hu, R. L. Jones, W. L. Wu, E. K. Lin, Q. H. Lin, D. Keane, S. Weigand, J. Quintana, J. Appl. Phys. 2004, 96, 1983.
12. R. L. Jones, T. J. Hu, C. L. Soles, E. K. Lin, W Hu, R. M. Reano, S. W Pang, D. M. Casa, J. Microlithogr. Microfabr. Microsyst. 2005, 5, 013 001.
13. H. J. Lee, C. L. Soles, H. W. Ro, R. L. Jones, E. K. Lin, W. L. Wu, D. R. Hines, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 263 111.
14. H. J. Lee, H. W. Ro, C. L. Soles, R. L. Jones, E. K. Lin, W. L. Wu, D. R. Hines, J. Vac. Sci. Technol. 2005, 23, 3023.
15. R. L. Jones, T. J. Hu, C. L. Soles, E. K. Lin, R. M. Reano, S. M. Casa, Nano Lett. 2006, 6, 1723.
16. M. Hamdorf, D. Johannsmann, J. Chem. Phys. 2000, 112, 4262.
17. E. Buck, K. Petersen, M. Hund, G. Krausch, D. Johannsmann, Macromolecules 2004, 37, 8647.
18. G. T. Dee, B. B. Sauer, Adv. Phys. 1998, 47, 161.
19. J. D. Ferry, Viscoelastic Properties of Polymers, 3rd ed., John Wiley & Sons, New York, 1980.
20. H. Schulz, M. Wissen, N. Bogdanski, H. C. Scheer, K. Mattes, C. Friedrich, Microelectron. Eng. 2006, 83, 259.
21. H. D. Rowland, A. C. Sun, P. R. Schunk, W. P. King, J. Micromech. Microeng. 2005, 15, 2414.
22. Z. N. Yu, H. Gao, S. Y. Chou, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4166.
23. H. C. Scheer, N Bogdanski, M. Wissen, T. Konishi, Y. Hirai, J. Vac. Sci. Technol. B 2005, 23, 2963.
24. J. C. Majeste, J. P. Montfort, A. Allal, G. Marin, Rheol. Acta 1998, 37, 486.
25. O. Takeshi, K. Sekimoto, Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 108301.
26. R. A. Stratton, A. F. Butcher, J. Polym. Sci. Polym. Phys. Ed. 1973, 11, 1747.
27. P. G. Santangelo, C. M. Roland, Macromolecules 1998, 31, 4581.
28. C. M. Stafford, C. Harrison, K. L. Beers, A. Karim, E. J. Amis, M. R. Vanlandingham, H. C. Kim, W. Volksen, R. D. Miller, E. E. Simonyi, Nat. Mater. 2004, 3, 545.
29. E. N. Da C. Andrade, Proc. R. Soc. Ser. A 1910, 84, 1.
30. L. C. E. Struik, Physical Ageing in Amorphous Polymers and Other Materials, Elsevier, Amsterdam, 1978.
31. D. J. Plazek, N. Raghupathi, V. N. O'Rourke, J. Polym. Sci. Polym. Phys. Ed. 1980, 18, 1837.
32. L. G. Parratt, Phys. Rev. 1954, 95, 359.