Copper phthalocyanine thin-film transistor with a polycarbonate gate dielectric layer

Shinku/Journal of the Vacuum Society of Japan

Volumn 50, Issue 3, 2007, Pages 155-157

  Zhang, Qiang ^a   Ochiai, Shizuyasu ^a   Sawa, Goro ^a   Ohashi, Asao ^a   Kojima, Kenzo ^a   Uchida, Yoshiyuki ^a   Mizutani, Teruyoshi ^a  

^a AICHI INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER PHTHALOCYANINE; GATE DIELECTRIC LAYER; ORGANIC THIN-FILM TRANSISTOR;

COPPER COMPOUNDS; DIELECTRIC MATERIALS; LIGHT TRANSMISSION; POLYCARBONATES; THRESHOLD VOLTAGE; X RAY DIFFRACTION;

THIN FILM TRANSISTORS;

EID: 34250787549     PISSN: 05598516     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3131/jvsj.50.155     Document Type: Article

References (28)

1. A. Tsumura, H. Koezuka and T. Ando: Appl. Phys. Lett., 49 (1986) 1210.
2. J. A. Rogers, Z. Bao, K. Baldwin, A. Dodabalapur, B. Crone, V. R. Raju, V. Kuck, H. Katz, K. Amundson, J. Ewing and P. Drzaic: Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A., 98 (2001) 4835.
3. G. H. Gelinck, H. Edzer, A. Huitema, E. Van Veenendaal, E. Cantatore, L. Schrijnemakers, J. B. P. H. Van Der Putten, T. C. T. Geuns, M. Beenhakkers, J. B. Giesbers, B. H. Huisman, E. M. Benito, F. J. Touwslager, A. W. Marsman, B. J. E. Van Rens and D. M. De Leeuw: Nat. Mater., 3 (2004) 106.
4. C. D. Sheraw, L. Zhou, J. R. Huang, D. J. Gundlach, T. N. Jackson, M. G. Kane, I. G. Hill, M. S. Hammond, J. Campi, B. K. Greening, J. Francl and J. West: Appl. Phys. Lett., 80 (2002) 1088.
5. R. Schroeder, L. A. Majewski and M. Grell: Appl. Phys. Lett., 83 (2003) 3201.
6. D. Voss: Nature, 407 (2000) 442.
7. M. H. Choo, Jac Hoon Kim and Seongil Im: Appl. Phys. Lett., 81 (2002) 4640.
8. Q. Zhang, S. Ochiai, Y. Uehida, A. Ohashi. K. Kojima and T. Mizutani: Shinku (J. Vac. Soc. Jpn), 49 (2006) 446.
9. G. Guillaud, J. Simon and J. P. Germain: Coord. Chem. Rev., 180 (1998) 1433.
10. Z. Bao, A. J. Lovinger and A. Dodabalapur: Appl. Phys. Lett., 69 (1996) 3066.
11. K. Kudo, M. Iizuka, S. Kuniyoshi and K. Tanaka: Thin Solid Films, 393 (2001) 362.
12. J. Zhang, J. Wang and D. Yan: Appl. Phys. Lett., 84 (2004) 142.
13. R. Zeis, T. Siegrist and C. Kloc: Appl. Phys. Lett., 86 (2005) 022103.
14. R. W. I. de Boer, A. F. Stassen, M, F. Cracius, C. L. Mulder, A. Molinari, S. Rogge and A. F. Morpurgo: Appl. Phys. Lett., 86 (2005) 262109.
15. R. Wisnieff: Nature, 394 (1998) 225.
16. S. Ochiai, Q. Zhang, Y. Uehida, A. Ohashi, K. Kojima and T. Mizutani: Proc. SPIE, Optical & photonics, San Diego, CA, USA., 2006, p. 191.
17. Q. Zhang, S. Ochiai, Y. Uehida, A. Ohashi, K. Kojima and T. Mizutani: Proc. The Thirteenth International Workshop On Active-Matrix Flatpanel Displays and Device, Tokyo, Japan, 2006, P. 259.
18. T. Nonaka, Y. Nakagawa, Y. Mori, M. Hirai, T. Matsunobe, M. Nakamura, T. Takahagi and A. Ishitani: Thin Solid Films, 256 (1995) 262.
19. J. Puigdollers, C. Voz, M. Fonrodona, S. Cheylan, M. Stella, J. Andreu, M. Vetter and R. Alcubilla: Non-Crystalline Solids, 352 (2006) 1778-1782.
20. M. K. Debe, R. J. Poirier and K. K. Kam: Thin Solid Films, 197 (1991) 335.
21. C. D. Dimitrakopoulos, A. R. Brown and A. Pomp: J. Appl. Phys., 80 (1996) 2501.
22. T. Jentzsch, H. J. Juepner, K. W. Brzezinka and A. Lau: Thin Solid Films, 315 (1998) 273.
23. L. Edwards and M. Gouterman: J. Mol. Spectrosc., 33 (1970) 292.
24. S. Ambily and C. S. Menon: Thin Solid Films, 747 (1999) 284.
25. A. T. Davidson: J. Chem. Phys., 77 (1982) 168.
26. C. D. Dimitrakopoulous and P. R. L. Malenfant: Adv. Mater., 14 (2002) 99.
27. K. Yamada, J. Takeya. K. Shigeto, K. Tsukagoshi, Y. Aoyagi and Y. Iwasa: Appl. Phys. Lett., 88 (2006) 122110.
28. M. Ofuji, K. Ishikawa, H. Takezoe, K. Inaba and K. Omote: Appl. Phys. Lett., (2005) 062114.