Role of ambient gas and laser fluence in governing the dynamics of the plasma plumes produced by laser blow off of LiF-C thin film

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 10, 2007, Pages

  Singh, R K ^a   Kumar, Ajai ^a   Patel, B G ^b   Subramanian, K P ^b  

^a INSTITUTE FOR PLASMA RESEARCH   (India)

^b PHYSICAL RESEARCH LABORATORY   (India)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRON EMISSION; IONIZATION; LASER PRODUCED PLASMAS; LITHIUM ALLOYS; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; THIN FILMS;

AMBIENT GAS; LASER FLUENCE; PLASMA PLUMES;

THERMAL PLUMES;

EID: 34249893086     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2732446     Document Type: Article

References (44)

1. M. Bertolotti, Physical Processes in Laser-Materials Interaction (Plenum, New York, 1980).
2. D. B. Chrisey and G. K. Hubler, Laser Deposition of Thin Films (Wiley, New York, 1994).
3. R. Kelly, A. Miotello, B. Braren, A. Gupta, and K. Casey, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 65, 187 (1992).
4. F. J. Adrian, J. Bohandy, B. F. Kim, A. N. Jette, and P. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 1490 (1987).
5. R. J. Baseman and N. M. Froberg, Appl. Phys. Lett. 55, 1841 (1989).
6. A. Miotello and R. Kelly, Appl. Phys. Lett. 67, 3535 (1995).
7. J. Bohandy, B. F. Kim, and F. J. Adrian, J. Appl. Phys. 60, 1538 (1986).
8. A. B. Bullock, P. R. Bolton, and F. J. Mayer, J. Appl. Phys. 82, 1828 (1997).
9. R. Koppmann, S. M. Refaei, and A. Pospieszczyk, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 79 (1986).
10. Y. T. Lie, A. Pospieszczyk, and J. A. Tagle, Fusion Technol. 6, 447 (1984).
11. J. F. Friichtenicht, Rev. Sci. Instrum. 45, 51 (1974).
12. S. Suckewer, J. L. Cecchi, S. Cohen, R. Fonck, and E. Hinnov, Phys. Lett. A 80, 259 (1980).
13. M. Mattioli, M. Erba, T. Dudok De Wit, A.-L. Pecquet, J.-L. Segui, and J. C. Vallet, Nucl. Fusion 38, 1629 (1998).
14. A. Pospieszczyk, F. Aumayr, E. Hintz, and B. Schweer, J. Nucl. Mater. 162-164, 574 (1989).
15. Abhilasha, P. S. R. Prasad, and R. K. Thareja, Phys. Rev. E 48, 2929 (1993).
16. T. Kerdja, S. Abdelli, D. Ghobrini, and S. Malek, J. Appl. Phys. 80, 5365 (1996).
17. Y. Nakata, W. K. A. Kumuduni, T. Okada, and M. Meada, Appl. Phys. Lett. 66, 3206 (1995).
18. D. B. Geohegan and A. A. Puretzky, Appl. Phys. Lett. 67, 197 (1995).
19. Y.-K. Choi, H.-S. Im, and K.-W. Jung, Bull. Korean Chem. Soc. 20, 1501 (1999).
20. S. S. Harilal, C. V. Bindhu, M. S. Tillack, F. Najmabadi, and A. C. Gaeris, J. Appl. Phys. 93, 2380 (2003).
21. J. Gonzalo, F. Vega, and C. N. Afonso, J. Appl. Phys. 77, 6588 (1995).
22. S. Amoruso, R. Bruzzese, N. Spinelli, R. Velotta, M. Vitiello, and X. Wang, Phys. Rev. B 67, 224503 (2003).
23. J. S. Bakos, P. N. Ignacz, J. Szigeti, and J. Kovacs, Appl. Phys. Lett. 51, 734 (1987).
24. R. J. Baseman, N. M. Froberg, J. C. Andreshak, and Z. Schlesinger, Appl. Phys. Lett. 56, 1412 (1990).
25. A. B. Bullock and P. R. Bolton, J. Appl. Phys. 85, 460 (1999).
26. A. Kumar, R. K. Singh, K. P. Subramanian, B. G. Patel, S. Sunil, and I. A. Prajapati, J. Phys. D 39, 4860 (2006).
27. J. Herman, A. L. Thoman, C. Boulmer-Lebourgne, B. Dubreuil, H. L. De Giorgi, A. Peronne, A. Luches, and I. N. Mihailescu, J. Appl. Phys. 77, 2928 (1995).
28. R. K. Singh, O. W. Holland, and J. Narayan, J. Appl. Phys. 68, 233 (1990).
29. S. S. Harilal, B. O'Shay, Y. Tao, and M. S. Tillack, J. Appl. Phys. 99, 083303 (2006).
30. A. V. Gurevich, L. V. Parriskaya, and L. P. Pitaevskii, Sov. Phys. JETP 36, 274 (1973).
31. P. T. Rumsby and J. W. M. Paul, Plasma Phys. 16, 247 (1974).
32. C. Timmer, S. K. Srivastava, T. E. Hall, and A. Fucaloro, J. Appl. Phys. 70, 1888 (1991).
33. H. P. Gu, Q. H. Lou, N. H. Cheung, S. C. Chen, Z. Y. Wang, and P. K. Liu, Appl. Phys. B: Lasers Opt. 58, 143 (1994).
34. R. H. McFarland, Phys. Rev. 139, A40 (1965).
35. D. C. Griffin, D. M. Mitnik, J. Colgan, and M. S. Pindzola, Phys. Rev. A 64, 032718 (2001).
36. W. D. Westwood, J. Vac. Sci. Technol. 15, 1 (1978).
37. R. F. Wood, J. N. Leboeuf, D. B. Geohegan, A. A. Puretzky, and K. R. Chen, Phys. Rev. B 58, 1533 (1998).
38. S. Amoruso, B. Toftmann, J. Schou, R. Velotta, and X. Wang, Thin Solid Films 453-454, 562 (2004).
39. T. E. Itina, J. Hermann, P. Delaporte, and M. Sentis, Phys. Rev. E 66, 066406 (2002).
40. V. Y. Barnov, O. N. Derkach, V. G. Grishina, M. F. Kanevskii, and A. Y. Sebrant, Phys. Rev. E 48, 1324 (1993).
41. W. K. A. Kumuduni, Y. Nakayama, Y. Nakata, T. Okada, and M. Meada, J. Appl. Phys. 74, 7510 (1993).
42. J. C. S. Kools, J. Appl. Phys. 74, 6401 (1993).
43. P. E. Dyer and J. Sidhu, J. Appl. Phys. 64, 4657 (1988).
44. H. W. Kroto, A. N. Allat, and S. P. Balm, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 91, 1213 (1991).