Field emission from multiwall carbon nanotubes on paper substrates

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 17, 2007, Pages

  Lyth, S M ^a   Silva, S R P ^a  

^a UNIVERSITY OF SURREY   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD EMISSION; INK; PAPER PRODUCTS; SURFACE ROUGHNESS;

COMPOSITE ELECTRODES; FIELD EMISSION THRESHOLD FIELDS; NANOTUBE FILMS;

MULTIWALLED CARBON NANOTUBES (MWCN);

INK; PAPER PRODUCTS;

EID: 34248596050     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2734379     Document Type: Article

References (20)

1. W. A. Deheer, A. Chatelain, and D. Ugarte, Science 270, 1179 (1995).
2. A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, and R. E. Smalley, Science 269, 1550 (1995).
3. W. B. Choi, D. S. Chung, J. H. Kang, H. Y. Kim, Y. W. Jin, I. T. Han, Y. H. Lee, J. E. Jung, N. S. Lee, G. S. Park, and J. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 75, 3129 (1999).
4. R. C. Smith, J. D. Carey, C. H. P. Poa, D. C. Cox, and S. R. P. Silva, J. Appl. Phys. 95, 3153 (2004).
5. R. H. Baughman, A. A. Zakhidov, and W. A. Deheer, Science 297, 787 (2002).
6. J. M. Bonard, T. Stockli, F. Maier, W. A. de Heer, A. Chatelain, J. P. Salvetat, and L. Forro, Phys. Rev. Lett. 81, 1441 (1998).
7. Q. H. Wang, A. A. Setlur, J. M. Lauerhaas, J. Y. Dai, E. W. Seelig, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 72, 2912 (1998).
8. R. C. Smith, D. C. Cox, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 87, 103112 (2005).
9. S. M. Lyth, R. A. Hatton, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 90, 013120 (2007).
10. K. Krisztian, T. Mustonen, G. Toth, H. Jantunen, M. Lajunen, C. Soldano, S. Talapatra, S. Kar, R. Vajita, and P. M. Ajayan, Small 2, 1021 (2006).
11. J. Wang and M. Musameh, Analyst (Cambridge, U.K.) 129, 1 (2004).
12. Z. J. Fan, T. Wei, G. H. Luo, and F. Wei, J. Mater. Sci. 40, 5075 (2005).
13. H. Y. Shin, W. S. Chung, K. H. Kim, Y. R. Cho, and B. C. Shin, J. Vac. Sci. Technol. B 23, 2369 (2005).
14. A. P. Burden, H. E. Bishop, M. Brierley, J. M. Friday, C. Hood, P. G. A. Jones, A. Y. Khazov, W. Lee, R. J. Riggs, V. L. Shaw, and R. A. Tuck, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 900 (2000).
15. H. Ago, T. Kugler, F. Cacialli, W. R. Salaneck, M. S. P. Shaffer, A. H. Windle, and R. H. Friend, J. Phys. Chem. B 103, 8116 (1999).
16. L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L. Schlapbach, H. Kind, J. M. Bonard, and K. Kern, Appl. Phys. Lett. 76, 2071 (2000).
17. R. C. Smith, R. D. Forrest, J. D. Carey, W. K. Hsu, and S. R. P. Silva, Appl. Phys. Lett. 87, 013111 (2005).
18. R. H. Fowler and L. Nordheim, Proc. R. Soc. London, Ser. A 119, 173 (1928).
19. N. P. Blanchard, R. A. Hatton, and S. R. P. Silva, Chem. Phys. Lett. 434, 92 (2006).
20. J. Y. Huang, K. Kempa, S. H. Jo, S. Chen, and Z. F. Ren, Appl. Phys. Lett. 87, 053110 (2005).