Highly efficient organic devices based on electrically doped transport layers

Chemical Reviews

Volumn 107, Issue 4, 2007, Pages 1233-1271

  Walzer, Karsten ^a   Männig, Bert ^a   Pfeiffer, Martin ^a   Leo, Karl ^a  

^a DRESDEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARRIER MOBILITY; CRYSTALLINE MATERIALS; EVAPORATION; FERMI LEVEL; LIGHT EMITTING DIODES; OHMIC CONTACTS; SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS; SOLAR CELLS;

COEVAPORATION; CRYSTALLINE INORGANIC SEMICONDUCTORS;

SEMICONDUCTOR DOPING;

EID: 34248386828     PISSN: 00092665     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cr050156n     Document Type: Review

References (217)

1. Forrest, S. R. Chem. Rev. 1997, 97, 1793.
2. Hung, L. S.; Chen, C. H. Mater. Sci. Eng. 2002, R 39, 143.
3. Berner, D.; Houili, H.; Leo, W.; Zuppiroli, L. Phys. Status Solidi A 2005, 202, 9.
4. Chem. Mater. 2004, 16 (23), Special issue on organic electronics.
5. Peumans, P.; Yakimov, A.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2003, 93, 3693.
6. MRS Bull., 2005, 30 (1), Special issue: Organic Based Photovoltaics.
7. Karl, N. Defect Control in Semiconductors; North Holland: Amsterdam, 1990; Vol. II.
8. Tang, C. W. Appl. Phys. Lett. 1986, 48, 183.
9. Tang, C. W.; Van Slyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913.
10. Pfeiffer, M.; Beyer, A.; Fritz, T.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 3202.
11. Zhou, X.; Pfeiffer, M.; Blochwitz, J.; Werner, A.; Nollau, A.; Fritz, T.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 410.
12. Blochwitz, J.; Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Leo, K.; Alloway, D. M.; Lee, P. A.; Armstrong, N. R. Org. Electron. 2001, 2, 97.
13. Maennig, B.; Pfeiffer, M.; Nollau, A.; Zhou, X.; Leo, K.; Simon, P. Phys. Rev. B 2001 64, 195208.
14. Nollau, A.; Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Leo, K. J. Appl. Phys. 2000, 87, 4340.
15. Werner, A. G.; Li, F.; Harada, K.; Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4495.
16. Werner, A.; Li, F.; Harada, K.; Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Leo, K.; Machill, S. Adv. Funct. Mater. 2004, 14, 255.
17. Li, F.; Werner, A.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Liu, X. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 17076.
18. Harada, K.; Werner, A. G.; Pfeiffer, M.; Bloom, C. J.; Elliott, C. M.; Leo, K. Phys. Rev. Lett. 2005, 94, 036601.
19. Pope, M.; Swenberg, C. E. Electronic processes in organic molecular crystals; Oxford University Press: New York, 1982.
20. Seeger, K. Semiconductor Physics; Springer-Verlag: Berlin Heidelberg New York, 1997.
21. Yamamoto, Y.; Yoshino, K.; Inuishi, Y. J. Phys. Soc. Jpn. 1979, 47, 1887.
22. Parthasarathy, G.; Shen, C.; Kahn, A.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2001, 89, 4986.
23. Kido, J.; Matsumoto, T. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2866.
24. Endo, J.; Matsumoto, T.; Kido, J. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 2002, 41 (3B), L358.
25. Kearns, D. R.; Tollin, G.; Calvin, M. J. Chem. Phys. 1960, 32, 1020.
26. Maitrot, M.; Guillaud, G.; Boudjema, B.; André, J. J.; Simon, J. J. Appl. Phys. 1986, 60, 2396.
27. Andre, J. J.; Simon, J.; Even, R.; Boudjema, B.; Guillaud, G.; Maitrot, M. Synth. Met. 1987, 18, 683.
28. Marks, T. J. Science 1985, 227, 881.
29. Lous, E. J.; Blom, P. W. M.; Molenkamp, L. W.; de Leeuw, D. M. Phys. Rev. B 1995, 51, 17251.
30. Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Blochwitz, J.; Nollau, A.; Plönnigs, B.; Beyer, A.; Leo, K. Adv. Solid State Phys. 1999, 39, 77.
31. Blochwitz, J.; Pfeiffer, M.; Fritz, T.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 729.
32. Huang, J. S.; Pfeiffer, M.; Werner, A.; Blochwitz, J.; Leo, K.; Liu, S. Y. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 139.
33. Zhou, X.; Pfeiffer, M.; Huang, J. S.; Blochwitz-Nimoth, J.; Qin, D. S.; Werner, A.; Drechsel, J.; Maennig, B.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 922.
34. Blochwitz, J.; Pfeiffer, M.; Hofmann, M.; Leo, K. Synth. Met. 2002, 127, 169.
35. Pfeiffer, M.; Beyer, A.; Plönnigs, B.; Nollau, A.; Fritz, T.; Leo, K.; Schlettwein, D.; Hiller, S.; Wöhrle, D. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 63, 83.
36. Gebeyehu, D.; Maennig, B.; Drechsel, J.; Leo, K.; Pfeiffer, M. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 79, 81.
37. Fritzsche, H. Solid State Commun. 1971, 9, 1813.
38. Pfeiffer, M.; Leo, K.; Zhou, X.; Huang, J. S.; Hofmann, M.; Werner, A.; Blochwitz-Nimoth, J. Org. Electron. 2003, 4, 89.
39. Shirota, Y.; Kuwabara, Y,; Inada, H. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 807.
40. Gao, W.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 4040.
41. Yoshida, M.; Fujii, A.; Ohmori, Y.; Yoshino, K. Appl. Phys. Lett. 1996, 69, 734.
42. Shirota, Y. J. Mater. Chem. 2000, 10, 1.
43. Borsenberger, P. M.; Fitzgerald, J. J. J. Phys. Chem. 1993, 97, 4815.
44. Krause, R. Diploma Thesis, TU Dresden, 2005.
45. Adachi, C.; Kwong, R.; Forrest, S. R. Org. Electron. 2001, 2, 37.
46. Görlich, P.; Schneider, H. G.; Hamann, C. Organische Festkörper und dünne Schichten; Akademische Verlagsgesellschaft: Berlin, 1978.
47. Hiller, S.; Schlettwein, D.; Armstrong, N. R.; Wöhrle, D. J. Mater. Chem. 1998, 8, 945.
48. Hoffmann, M.; Schmidt, K.; Fritz, T.; Hasche, T.; Agranovich, V. M.; Leo, K. Chem. Phys. Lett. 2000, 258, 73.
49. Pfeiffer, M. Ph.D. thesis, TU Dresden, 1999.
50. Garnier, F.; Horowitz, G.; Peng, X. Z.; Fichou, D. Synth. Met. 1991, 45, 163.
51. Sze, S. M. Physics of Semiconductor Devices; Wiley: New York, 1981.
52. Cheon, K. O.; Shinar, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1738.
53. Vissenberg, M. C. J. M.; Matters, M. Phys. Rev. B 1998, 57, 12964.
54. Schmechel, R. Phys. Rev. B 2002, 66, 235206.
55. Schmechel, R. J. Appl. Phys. 2003, 93, 4653.
56. Ivory, D. M.; Miller, G. G.; Sowa, J. M.; Shacklette, L. W.; Chance, R. R.; Baughman, R. H. J. Chem. Phys. 1979, 71, 1506.
57. Ramsey, M. G.; Steinmüller, D.; Netzer, F. P. Phys. Rev. B 1990, 42, 5902.
58. Itoh, Y.; Tomikawa, N.; Kobayashi, S.; Minato, T. Extended Abstracts. The 51th Autumn Meeting, The Japan Society of Applied Physics, Tokyo, 1990; p 1040.
59. Kido, J.; Nagai, K.; Okamoto, Y. IEEE Trans. Electron Devices 1993, 40, 1342.
60. Mason, M. G.; Tang, C. W.; Hung, L. S.; Raychaudhuri, P.; Madathil, J.; Giesen, D. J.; Yan, L.; Le, Q. T.; Gao, Y.; Lee, S. T.; Liao, L. S.; Cheng, L. F.; Salaneck, W. R.; dos Santos, D. A.; Bredas, J. L. J. Appl. Phys. 2001, 89, 2756.
61. Grozea, D.; Turak, A.; Feng, X. D.; Lu Z. H.; Johnson, D.; Wood, R., Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3173.
62. T. Mori, T.; Fujikawa, H.; Tokito, S.; Taga, Y. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2763.
63. Kido, J.; Matsumoto, T. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 2866.
64. Tanaka, S.; Kanai, K.; Kawabe, E.; Iwahashi, T.; Nishi, T.; Ouchi, Y.; Seki, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 3760.
65. Chan, C. K.; Amy, F.; Zhang, Q.; Barlow, S.; Marder, S.; Kahn, A. Chem. Phys. Lett. 2006, 431, 67.
66. Bloom, C. J.; Elliott, C. M.; Schroeder, P. G.; France, C. B.; Parkinson, B. A. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 2933.
67. See www.novaled.com.
68. Morris, D. E.; Hanck, K. W.; de Armond, M. K. J. Electroanal. Chem. 1983, 149, 115.
69. Redox potentials can be related to an absolute energy scale by O V vs. Ag/Ag+ = 4.7 eV, see: Bard, A.; Faulkner, L. R. Electrochemical methods; Wiley: New York, 2001.
70. Schlettwein, D.: Hesse, K.; Gruhn, N. E.; Lee, P. A.; Nebesny, K. W.; Armstrong, N. R. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 4791.
71. Gregg, B. A.; Chen, S.; Branz, H. M. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 1707.
72. Chan, C.; Kim, E.-G.; Brédas, J.-L.; Kahn, A. Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 831.
73. Lewis, E. S.; Perry, J. M.; Grinstein, R. H. J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 899.
74. Naguib, Y. M. A.; Cohen, S. G.; Steel, C. J. Am. Chem. Soc. 1986, 108, 128.
75. Yamamoto, S.; Sakurai, T.; Liu, Y. J.; Sueishi, Y. Phys. Chem. Chem. Phys. 1999, 1, 833.
76. Maennig, B.; Drechsel, J.; Gebeyehu, D.; Simon, P.; Kozlowski, F.; Werner, A.; Li, F.; Grundmann, S.; Sonntag, S.; Koch, M.; Leo, K.; Pfeiffer, M.; Hoppe, H.; Meissner, D.; Saricifci, N. S.; Riedel, I.; Parisi, J. Appl. Phys. A 2004, 79, 1.
77. Gao, W.; Kahn, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4815.
78. Seki, K.; Yanagi, H.; Kobayashi, Y.; Ohta, T.; Tani, T. Phys. Rev. B 1994, 49, 2760.
79. Hirose, Y.; Kahn, A.; Aristov, V.; Soukiassian, P. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 217.
80. Hill, I. G.; Rajagopal, A.; Kahn, A.; Hu, Y. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 662.
81. Koch, N.; Kahn, A.; Ghijsen, J.; Pireaux, J.-J.; Schwartz, J.; Johnson, R. L.; Elschner, A. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 70.
82. Cahen, D.; Kahn, A. Adv. Mater. 2003, 15, 271.
83. Vazquez, H.; Flores, F.; Oszwaldowski, R.; Ortega, J.; Perez, R.; Kahn, A. Appl. Surf. Sci. 2004, 234, 107.
84. Gao, W.; Kahn, A. J. Phys.: Condens. Matter 2003, 15, 82757.
85. Xue, J.; Forrest, S. R. Phys. Rev. B 2004, 69, 245322.
86. Koch, N.; Duhm, S.; Rabe, J. P.; Vollmer, A.; Johnson, R. L. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 237601.
87. Yamashita, K.; Kunugi, Y.; Harima, Y.; Chowdhury, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 3794.
88. Hamm, S.; Wachtel, H. J. Chem. Phys. 1995, 103, 10689.
89. Shockley, W. Bell Syst. Tech. J. 1949, 28, 435.
90. van Berkel, C.; Powell, M. J.; Franklin, A. R.; French, I. D. J. Appl. Phys. 1993, 73, 5264.
91. Kroon, M. A.; van Swaaij, R. A. C. M. M. J. Appl. Phys. 2001, 90, 994.
92. Taretto, K.; Rau. U.; Werner, J. H. Appl. Phys. A 2003, 77, 865.
93. Bernanose, A.; Comte, M.; Vouaux, P. J. Chim. Phys. 1953, 50, 64.
94. Bernanose, A.; Vouaux, P. J. Chim. Phys. 1953, 50, 261.
95. Tang, C. W.; Van Slyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913.
96. Burroughes, J. H.; Bradley, D. D. C.; Brown, A. R.; Marks, R. N.; Mackay, K.; Friend, R. H.; Burn, P. L.; Holmes, A. B. Nature 1990, 347, 539.
97. Prototypes announced in press releases by Seiko-Epson (2004) and Samsung (2005).
98. Meerheim, R.; Walzer, K.; He, G.; Pfeiffer, M.; Leo, K. Proc. SPIE 2006, 6192, 61920P/1.
99. Kawamura, Y.; Goushi, K.; Brooks, J.; Brown, J. J.; Sasabe, H.; Adachi, C. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 071104.
100. Baldo, M. A.; O'Brien, D. F.; You, Y.; Shoustikov, A.; Sibley, S.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Nature 1998, 395, 151.
101. O'Brien, D. F.; Baldo, M. A.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 442.
102. Baldo, M. A.; Lamansky, S.; Burrows, P. E.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 4.
103. Yersin, H. Top. Curr. Chem. 2004, 241, 1.
104. Greenham, N. C.; Friend, R. H.; Bradley, D. C. C. Adv. Mater. 1994, 6, 491.
105. Shiga, T.; Fujikawa, H.; Taga, Y. J. Appl. Phys. 2003, 93, 19.
106. Feng, J.; Okamoto, T.; Kawata, S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 241109.
107. Tsutsui, T.; Yahiro, M.; Yokogawa, H.; Kawano, K. Adv. Mater. 2001, 13, 1149.
108. Lupton, J. M.; Matterson, B. J.; Samuel, I. D. W.; Jory, M. J.; Barnes, W. L. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3340.
109. Huang, Q.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Hofmann, M.; Stübinger, T. J. Appl. Phys. 2006, 100, 064507.
110. Sun, Y.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2006, 100, 073106.
111. Lu, M. H.; Sturm, J. C. J. Appl. Phys. 2002, 91, 595.
112. Drechsel, J.; Pfeiffer, M.; Zhou, X.; Nollau, A.; Leo, K. Synth. Met. 2002, 127, 201.
113. Drechsel, J.; Petrich, A.; Koch, M.; Pfützner, S.; Meerheim, R.; Scholz, S.; Drechsel, J.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K. SID Symp Dig. Tech. Pap. 2006, 37, 1692.
114. Yamamori, A.; Adachi, Ch.; Koyama, T.; Taniguchi, Y. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 2147.
115. Shirota, Y.; Kobata, T.; Noma, N. Chem. Lett. 1989, 7, 1145.
116. Shirota, Y. J. Mater. Chem. 2005, 15, 75.
117. Zhou, X.; Blochwitz, J.; Pfeiffer, M.; Nollau, A.; Fritz, T.; Leo, K. Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 310.
118. Hung, L. S.; Tang, C. W.; Mason, M. G. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 152.
119. Pfeiffer, M.; Forrest, S. R.; Leo, K.; Thompson, M. E. Adv. Mater. 2002, 14, 1633.
120. Meerheim, R.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 061111.
121. Zhou, X.; Qin, D. S.; Pfeiffer, M.; Blochwitz-Nimoth, J.; Werner, A.; Drechsel, J.; Maennig, B.; Leo, K.; Bold, M.; Erk, P.; Hartmann, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 4070.
122. He, G.; Schneider, O.; Qin, D.; Zhou, X.; Pfeiffer, M.; Leo, K. J. Appl. Phys. 2004, 95, 5773.
123. He, G.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Hofmann, M.; Birnstock, J.; Pudzich, R.; Salbeck, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3911.
124. Watanabe, S.; Agata, Y.; Tanaka, D.; Kido, J. J. Photopolym. Sci. Technol. 2005, 18, 83.
125. Gebeyehu, D.; Walzer, K.; He, G.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Brandt, J.; Gerhard, A.; Stössel, P.; Vestweber, H. Synth. Met. 2005, 148, 205.
126. Ben Kalifa, M.; Vaufrey, D.; Tardy, J. Org. Electron. 2004, 5, 187.
127. Wellmann, Ph.; Hofmann, M.; Zeika, O.; Werner, A.; Birnstock, J.; Meerheim, R.; He, G.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K. J. Soc. Inf. Display 2005, 13, 393.
128. Birnstock, J.; Hofmann, M.; Murano, S.; Vehse, M.; Blochwitz-Nimoth, J.; Huang, Q.; He, G.; Pfeiffer, M.; Leo, K. SID Int. Symp. Dig. Tech. Pap. 2005, 36, 40.
129. He, G.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Pudzich, R.; Salbeck, J. Proc. SPIE 2004, 5519, 42.
130. Birnstock, J.; Lux, A.; Ammann, M.; Wellmann, P.; Hofmann, M.; Stübinger, Th. SID Int. Symp. Dig. Tech. Pap. 2006, 37, 1866.
131. Tanaka, D.; Sasabe, H.; Li, Y. J.; Su, S. J.; Takeda, T.; Kido, J. Jpn. J. Appl. Phys. 2007, 46, L10.
132. Kido, J.; Kimura, M.; Nagai, K. Science 1995, 267, 1332.
133. Deshpande, R. S.; Bulovic, V.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 888.
134. Cheon, K. O.; Shinar, J. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 1738.
135. Xie, Z. Y.; Huang, J. S.; Li, C. N.; Liu, S. Y.; Wang, Y.; Li, Y. Q.; Shen, J. C. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 641.
136. Jiang, X.; Zhang, Z.; Zhao, W.; Zhu, W.; Zhang, B.; Xu, S. J. Phys. D: Appl. Phys. 2000, 33, 473.
137. Adamovich, V.; Brooks, J.; Tamayo, A.; Alexander, A. M.; Djurovich, P. I.; D'Andrade, B. W.; Adachi, C.; Forrest, S. R.; Thompson, M. E. New J. Chem. 2002, 26, 1171.
138. Tokito, S.; Iijima, T.; Tsuzuki, T.; Sato, F. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2459.
139. D'Andrade, B. W.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2003, 94, 3101.
140. Cheng, G.; Li, F.; Duan, Y.; Feng, J.; Liu, S.; Qiu, S.; Lin, D.; Ma, Y.; Lee, S. T. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 4224.
141. Qin, D.; Tan, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 113507.
142. Schwartz, G.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Leo, K. Proc. SPIE 2006, 6192, 61920Q/1.
143. Sun, Y.; Giebink, N. C.; Kanno, H.; Ma, B.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Nature 2006, 440, 908.
144. Schwartz, G.; Fehse, K.; Pfeiffer, M.; Walzer, K.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 083509.
145. Thompson, J.; Blyth, R. I. R.; Mazzeo, M.; Anni, M.; Gigli, G.; Cingolani, R. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 560.
146. Mazzeo, M.; Pisignano, D.; Della Sala, F.; Thompson, J.; Blyth, R. I. R.; Gigli, G.; Cingolani, R.; Sotgiu, G.; Barbarella, G. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 334.
147. Duggal, A. R.; Shiang, J. J.; Heller, C. M.; Foust, D. F. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 3470.
148. D'Andrade, B. W.; Forrest, S. R. Adv. Mater. 2004, 16, 1585.
149. Huang, Y. S.; Jou, J. H.; Weng, W. K.; Liu, J. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2782.
150. Chuen, C. H.; Tao, Y. T.; Wu, F. I.; Shu, C. F. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4609.
151. Gue, F.; Ma, D.; Wang, L.; Jin, X.; Wang, F. Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, 310.
152. Li, G.; Shinar, J. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5359.
153. Kanno, H.; Sun, Y.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 263502.
154. D'Andrade, B. W.; Forrest, S. R.; Chwang, A. B. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3858.
155. Huang, Q.; Walzer, K.; Pfeiffer, M.; Lyssenko, V.; He, G.; Leo, K. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 113515.
156. Lin, C. L.; Cho, T. Y.; Chang, C. H.; Wu, C. C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 081114.
157. Cho, T. Y.; Lin, C. L.; Wu, C. C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 111106.
158. Pfeiffer, M.; Forrest, S. R.; Zhou, X.; Leo, K. Org. Electron. 2003, 4, 21.
159. Fehse, K.; Walzer, K.; He, G.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Lövenich, W.; Elschner, A. Proc. SPIE 2006, 6192, 61921Z/1.
160. Fehse, K.; Walzer, K.; Leo, K.; Lövenich, W.; Elschner, A. Adv. Mater. 2007, 19, 441.
161. Kreye, D.; Toerker, M.; Vogel, U.; Amelung, J. SID Int. Symp. Dig. Tech. Pap. 2006, 37 (2), 979.
162. Cho, T. Y.; Lin, C. L.; Wu, C. C. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 111106.
163. Ikai, M.; Tokito, S.; Sakamoto, Y.; Suzuki, T.; Taga, Y. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 156.
164. Huang, J.; Pfeiffer, M.; Blochwitz, J.; Werner, A.; Salbeck, J.; Liu, S.; Leo, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 6630.
165. Huang, J.; Blochwitz-Nimoth, J.; Pfeiffer, M.; Leo, K. J. Appl. Phys. 2003, 93, 838.
166. Dobbertin, T.; Werner, O.; Meyer, J.; Kammoun, A.; Schneider, D.; Riedl, T.; Becker, E.; Johannes, H.-H.; Kowalsky, W. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 5071.
167. Tardy, J.; Ben Khalifa, M.; Vaufrey, D. Mater. Sci. Eng. C 2006, 26, 196.
168. Zhu, X. L.; Sun, J. X.; Peng, H. J.; Meng, Z. G.; Wong, M.; Kwok, H. S. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 083504.
169. Shaheen, S. E.; Brabec, C. J.; Padinger, F.; Fromherz, T.; Hummelen, J. C.; Sariciftci, N. S. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 841.
170. Gebeyehu, D.; Brabec, C. J.; Padinger, F.; Fromherz, T.; Hummelen, J. C.; Badt, D.; Schindler, H.; Sariciftci, N. S. Synth. Met. 2001, 118, 1.
171. Brabec, C. J.; Sariciftci, N. S.; Hummelen, J. C. Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 15.
172. Padinger, F.; Rittberger, R. S.; Sariciftci, N. S. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 85.
173. O'Regan, B.; Grätzel, M. Nature 1991, 353, 737.
174. Loutfy, R. O.; Sharp, J. H. J. Chem. Phys. 1979, 71, 1211.
175. Antoniadis, H.; Hsieh, B. R.; Abkowitz, M. A.; Stolka, M.; Jenekhe, S. A. Polym. Prepr. 1993, 34, 490.
176. Antoniadis, H.; Hsieh, B. R.; Abkowitz, M. A.; Stolka, M.; Jenekhe, S. A. Synth. Met. 1994, 62, 265.
177. Riess, W.; Karg, S.; Dyakonov, V.; Meier, M.; Schwoerer, M. J. Lumin. 1994, 60, 906.
178. Yu, G.; Zhang, C.; Heeger, A. J. Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 1540.
179. Karg, S.; Riess, W.; Dyakonov, V.; Schwoerer, M. Synth. Met. 1993, 54, 427.
180. Tada, K.; Onoda, M.; Nakayama, H.; Yoshino, K. Synth. Met. 1999, 102, 982.
181. Jenekhe, S. A.; Yi, S. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2635.
182. Granström, M.; Petritsch, K.; Arias, A. C.; Lux, A.; Andersson, M. R.; Friend, R. H. Nature 1998, 395, 257.
183. Sariciftci, N. S.; Braun, D.; Zhang, C.; Srdanov, V. I.; Heeger, A. J.; Stucky, G.; Wudl, F. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 585.
184. Yu, G.; Gao, J.; Hummelen, J. C.; Wudl, F.; Heeger, A. J. Science 1995, 270, 1789.
185. Ma, W.; Yang, C.; Gong, X.; Lee, K.; Heeger, A. J. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 1617.
186. Koster, L. J. A.; Mihailetchi, V. D.; Blom, P. W. M. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 093511.
187. Hiramoto, M.; Fujiwara, H.; Yokoyama, M. J. Appl. Phys. 1992, 72, 3781.
188. Hiramoto, M.; Suemori, K.; Yokoyama, M. Jpn. J. Appl. Phys. 2002, 41, 2763.
189. Pannemann, Ch.; Dyakonov, V.; Parisi, J.; Hild, O.; Wöhrle, D. Synth. Met. 2001, 121, 1585.
190. Murgia, M.; Biscarini, F.; Cavallini, M.; Taliani, C.; Ruani, G. Synth. Met. 2001, 121, 1533.
191. Rostalski, J.; Meissner, D. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 61, 87.
192. Wöhrle, D.; Meissner, D. Adv. Mater. 1991, 3, 129.
193. Petritsch, K.; Dittmer, J. J.; Marseglia, E. A.; Friend, R. H.; Lux, A.; Rozenberg, G. G.; Moratti, S. C.; Holmes, A. B. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 61, 63.
194. Peumans, P.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 126.
195. Peumans, P.; Yakimov, A.; Forrest, S. R. J. Appl. Phys. 2003, 93, 3693.
196. Hiramoto, M.; Suezaki, M.; Yokoyama, M. Chem. Lett. 1990, 19, 327.
197. Xue, J.; Uchida, S.; Rand, B. P.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5757.
198. Xue, J.; Rand, B. P.; Uchida, S.; Forrest, S. R. Adv. Mater. 2005, 17, 66.
199. Hiramoto, M.; Ihara, K.; Yokoyama, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 3803.
200. Hiramoto, M.; Ihara, K.; Fukusumi, H.; Yokoyama, M. J. Appl. Phys. 1995, 78, 7153.
201. Law, K.-Y. Chem. Rev. 1993, 93, 449.
202. Simon, J.; Andre, J.-J. Molecular Semiconductors; Springer-Verlag: Berlin, 1985.
203. Drechsel, J.; Maennig, B.; Kozlowski, F.; Pfeiffer, M.; Leo, K.; Hoppe, H. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 244102.
204. Meissner, D.; Rostalski, J. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 61, 87.
205. Petterson, L. A. A.; Roman, L. S.; Inganäs, O. J. Appl. Phys. 1999, 86, 487.
206. Harbecke, B. Appl. Phys. B 1986, 39, 165.
207. Heavens, O. S. Optical properties of thin solid films; Dover Publications: New York, 1991.
208. Furman, S. A.; Tikhonravov, A. V. Basics of Optics of Multilayer Systems; Frontiers: Paris, 1996.
209. Hoppe, H.; Arnold, N.; Sariciftci, N. S.; Meissner, D. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2003, 80, 105.
210. Staudigel, J.; Stössel, M.; Steuber, F.; Simmerer, J. J. Appl. Phys. 1999, 86, 3895.
211. Yakimov, A.; Forrest, S. R. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 1667.
212. Westphalen, M.; Kreibig, U.; Rostalski, J.; Luth, H.; Meissner, D. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2000, 61, 97.
213. Drechsel, J.; Männig, B.; Gebeyehu, D.; Hoppe, H.; Pfeiffer, M.; Leo, K. Org. Electron. 2004, 5, 175.
214. Schulze, K.; Uhrich, C.; Schüppel, R.; Leo, K.; Pfeiffer, M.; Brier, E.; Reinold, E.; Bäuerle, P. Proc. SPIE 2006, 6192, 32.
215. Sato, N.; Saito, Y.; Shinohara, H. Chem. Phys. 1992, 162, 433.
216. Reed, C. A.; Bolskar, R. D. Chem. Rev. 2000, 100, 1075.
217. Schulze, K.; Uhrich, C.; Schüppel, R.; Leo, K.; Pfeiffer, M.; Brier, E.; Reinold, E.; Bäuerle, P. Adv. Mater. 2006, 18, 2872.