Magnetic, electrical, and microstructural characterization of ZnO thin films codoped with Co and Cu

Journal of Applied Physics

Volumn 101, Issue 5, 2007, Pages

  Chakraborti, D ^a   Ramachandran, S ^a   Trichy, G ^a   Narayan, J ^a   Prater, J T ^b  

^a North Carolina State University   (United States)

^b U S ARMY RESEARCH OFFICE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COBALT; MICROSTRUCTURE; SEMICONDUCTOR DOPING; THIN FILMS;

LATTICE SITES; OPTICAL MEASUREMENTS; ROOM TEMPERATURE;

ZINC OXIDE;

EID: 33947322993     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2711082     Document Type: Article

References (31)

1. S. A. Wolf, D. D. Awschalom, R. A. Buhrman, J. M. Daughton, S. von Molnar, M. L. Roukes, A. Y. Chtchelkanova, and D. M. Treger, Science 294, 1488 (2001).
2. G. A. Prinz, Science 282, 1660 (1998).
3. H. Ohno, Science 281, 951 (1998).
4. A. M. Nazmul, S. Sugahara, and M. Tanaka, Phys. Rev. B 67, 241308 (2003).
5. S. G. Yang, A. B. Pakhomov, S. T. Hung, and C. Y. Wong, IEEE Trans. Magn. 38, 2877 (2002).
6. T. Dietl, H. Ohno, F. Matsukura, J. Cibert, and D. Ferrand, Science 287, 1019 (2000).
7. K. Ueda, H. Tabata, and T. Kawai, Appl. Phys. Lett. 79, 988 (2001).
8. H.-J. Lee, S.-Y. Jeong, C. R. Cho, and C. H. Park, Appl. Phys. Lett. 81, 4020 (2002).
9. Y. M. Cho, W. K. Choo, H. Kim, D. Kim, and Y. Ihm, Appl. Phys. Lett. 80, 3358 (2002).
10. S. Ramachandran, A. Tiwari, and J. Narayan, Appl. Phys. Lett. 84, 5255 (2004).
11. J. H. Kim, H. Kim, D. Kim, Y. E. Ihm, and W. K. Choo, J. Appl. Phys. 92, 6066 (2002).
12. J. H. Park, M. G. Kim, H. M. Jang, S. Ryu, and Y. M. Kim, Appl. Phys. Lett. 84, 1338 (2004).
13. Y. Belghazi, G. Schmerber, S. Colis, J. L. Rehspringer, A. Dinia, and A. Berrada, Appl. Phys. Lett. 89, 122504 (2006).
14. K. Sato and H. Katayama-Yoshida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 39, L555 (2000).
15. M. S. Park and B. I. Min, Phys. Rev. B 68, 224436 (2003).
16. C. H. Chien, S. H. Chiou, G. Y. Gao, and Y. D. Yao, J. Magn. Magn. Mater. 282, 275 (2004).
17. C. H. Cho, J. Y. Hwang, J. P. Kim, S. Y. Jeong, M. S. Jang, W. J. Lee, and D. H. Kim, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 43, L1383 (2004).
18. D. B. Buchholz, R. P. H. Chang, J. H. Song, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 87, 82504 (2005).
19. D. Chakraborti, J. T. Prater, and J. Narayan, Appl. Phys. Lett. 90, 062504 (2007).
20. M. Wei, N. Braddon, D. Zhi, P. A. Midgley, S. K. Chen, M. G. Blamire, and J. L. MacManus-Driscoll, Appl. Phys. Lett. 86, 72514 (2005).
21. N. A. Spaldin, Phys. Rev. B 69, 125201 (2004).
22. O. D. Jayakumar, I. K. Gopalakrishnan, and S. K. Kulshreshtha, J. Mater. Chem. 15, 3514 (2005).
23. H.-T. Lin, T.-S. Chin, J.-C. Shih, S.-H. Lin, T.-M. Hong, R.-T. Huang, F.-R. Chen, and J.-J. Kai, Appl. Phys. Lett. 85, 621 (2004).
24. P. Hirsch, A. Howie, R. B. Nicholoson, D. W. Pashley, and M. J. Whelan, Electron Microscopy of Thin Crystals, 2nd ed. (Krieger, Malabar, FL, 1977), p. 317.
25. P. Koidl, Phys. Rev. B 15, 2493 (1977).
26. K. J. Kim and Y. R. Park, Appl. Phys. Lett. 81, 1420 (2002).
27. J. T. Prater, S. Ramachandran, A. Tiwari, and J. Narayan, J. Electron. Mater. 35, 852 (2006).
28. A. F. Kohan, G. Ceder, D. Morgan, and C. G. Van de Walle, Phys. Rev. B 61, 15019 (2000).
29. A. Janotti and C. G. Van de Walle, Appl. Phys. Lett. 87, 122102 (2005).
30. J. M. D. Coey, A. P. Douvalis, C. B. Fitzgerald, and M. Venkatesan, Appl. Phys. Lett. 84, 1332 (2004).
31. S. A. Chambers, T. Droubay, C. M. Wang, A. S. Lea, R. F. C. Farrow, L. Folks, V. Deline, and S. Anders, Appl. Phys. Lett. 82, 1257 (2003).