High-performance, spin-coated zinc tin oxide thin-film transistors

Electrochemical and Solid-State Letters

Volumn 10, Issue 5, 2007, Pages 135-138

  Chang, Y J ^a,c   Lee, D H ^a   Herman, G S ^b   Chang, C H ^a,c  

^a Oregon State University   (United States)

^b HEWLETT PACKARD COMPANY   (United States)

^c ELECTROCHEMICAL SOCIETY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FIELD-EFFECT MOBILITY; INKJET PRINTING; TRANSPARENT CONDUCTING OXIDES; ZINC TIN OXIDE;

AMORPHOUS MATERIALS; DEPOSITION; ELECTRIC CURRENTS; METAL INSULATOR BOUNDARIES; SPIN COATING; TIN OXIDES;

THIN FILM TRANSISTORS;

EID: 33947313009     PISSN: 10990062     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2666588     Document Type: Article

References (30)

1. Y.-J. Chang, C. L. Munsee, G. S. Herman, J. F. Wager, P. Mugdur, D.-H. Lee, and C.-H. Chang, Surf. Interface Anal., 37, 398 (2005).
2. Y.-J. Chang, P. H. Mugdur, A. A. Morrone, S.-Y. Han, S. O. Ryu, T.-J. Lee, and C.-H. Chang, Electrochem. Solid-State Lett., 9, G174 (2006).
3. C. Voss, Y.-J. Chang, S. Subramanian, S. O. Ryu, T.-J. Lee, and C.-H. Chang, J. Electrochem. Soc., 151, C655 (2004).
4. B. A. Ridley, B. Nivi, and J. M. Jacobson, Science, 286, 746 (1999).
5. D. B. Mitzi, L. L. Kosbar, C. E. Murray, M. Copel, and A. Afzali, Nature (London), 428, 299 (2004).
6. D. B. Mitzi, M. Copel, and S. J. Chey, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 17, 1285 (2005).
7. T. Shimoda, Y. Matsuki, M. Furusawa, T. Aoki, T. Yudasaka, H. Tanaka, H. Iwasawa, D. Wang, M. Miyasaka, and Y. Takeuchi, Nature (London), 440, 783 (2006).
8. Mrs. Bull. 25, 22 (2000).
9. M. W. J. Prins, K.-O. Grosse-Holz, G. Muller, J. F. M. Cillessen, J. B. Giesbers, R. P. Weening, and R. M. Wolf., Appl. Phys. Lett., 68, 3650 (1996).
10. R. L. Hoffman, J. Appl. Phys., 95, 5813 (2004).
11. R. L. Hoffman, B. J. Norris, and J. F. Wager, Appl. Phys. Lett., 82, 733 (2003).
12. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, and G. Nunes, Jr., Appl. Phys. Lett., 82, 1117 (2003).
13. E. M. C. Fortunato, P. M. C. Barquinha, A. C. M. B. G. Pimentel, A. M. F. Goncalves, A. J. S. Marques, R. F. P. Martins, and L. M. N. Pereira, Appl. Phys. Lett., 85, 2541 (2004).
14. S. Masuda, K. Kitamura, Y. Okumura, S. Miyatake, and T. Kawai, J. Appl. Phys., 93, 1624 (2003).
15. B. J. Norris, J. Anderson, J. F. Wager, and D. A. Keszler, J. Phys. D, 36, L105 (2003).
16. B. Sun and H. Sirringhaus, Nano Lett., 5, 2408 (2005).
17. T. Minami, J. Vac. Sci. Technol. A, 17, 1765 (1999).
18. T. Minami, S. Tsukada, Y. Minamino, and T. Miyata, J. Vac. Sci. Technol. A, 23, 1128 (2005).
19. T. Minami, T. Miyata, and T. Yamamoto, Surf. Coat. Technol., 108-109, 583 (1998).
20. H. Q. Chiang, J. F. Wager, R. L. Hoffman, J. Jeong, and D. A. Kezler, Appl. Phys. Lett., 86, 013503 (2005).
21. H. Hosono, N. Kikuchi, N. Ueda, and H. Kawazoe, J. Non-Cryst. Solids, 198-200, 165 (1996).
22. H. Hosono, M. Yasukawa, and H. Kawazoe, J. Non-Cryst. Solids, 203, 334 (1996).
23. K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono, Nature (London), 432, 488 (2004).
24. D. L. Young, H. Moutinho, Y. Yan, and T. J. Coutts, J. Appl. Phys., 92, 310 (2002).
25. T. Minami, S. Takata, H. Sato, and H. Sonohara, J. Vac. Sci. Technol. A, 13, 1095 (1995).
26. J. D. Perkins, J. A. del Cueto, J. L. Alleman, C. Warmsingh, B. M. Keyes, L. M. Gedvilas, P. A. Parilla, B. To, D. W. Readey, and D. S. Ginley, Thin Solid Films, 411, 152 (2002).
27. T. Minami, H. Sonohara, S. Takata, and H. Sato, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 33, L1693 (1994).
28. W. B. Jackson, R. L. Hoffman, and G. S. Herman, Appl. Phys. Lett., 87, 193503 (2005).
29. D. K. Schroder, Semiconductor Material and Device Characterization, 2nd ed., Wiley & Sons, New York (1998).
30. R. F. Pierret, Field Effect Devices, 2nd ed., Addison-Wesley, New York (1990).