Stable perfluorosilane self-assembled monolayers on copper oxide surfaces: Evidence of siloxy-copper bond formation

Chemistry of Materials

Volumn 19, Issue 4, 2007, Pages 798-804

  Hoque, E ^a   Derose, J A ^a   Houriet, R ^a   Hoffmann, P ^a   Mathieu, H J ^a  

^a EPFL   (Switzerland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONDENSATION; COPPER OXIDES; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; REACTION KINETICS; SODIUM COMPOUNDS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

BOILING NITRIC ACID SOLUTION; OXIDIZED COPPER; SESSILE DROP STATIC CONTACT ANGLES;

SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

EID: 33947277460     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm062318h     Document Type: Article

References (44)

1. Pellerite, M. J.; Wood, E. J.; Jones, V. W. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 4746.
2. Jennings, G. K.; Laibinis, P. E. Colloids Surf., Physicochem. Eng. Aspects 1996, 116, 105.
3. Laiho, T.; Leiro, J. A.; Heinonen, M. H.; Mattila, S. S.; Lukkari, J. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2005, 142, 105.
4. Love, J. C.; Estroff, L. A.; Kriebel, J. K.; Nuzzo, R. G.; Whitesides, G. M. Chem. Rev. 2005, 105, 1103.
5. Sung, M. M.; Kim, Y. Bull. Korean Chem. Soc.: 2001, 22, 748.
6. Whelan, C. M.; Kinsella, M.; Ho, H. M.; Maex, K. J. Electrorhem. Soc. 2004, 151, B33.
7. Tan, Y. S.; Srinivasan, M. P.; Pehkonen. S. O.; Chooi, S. Y. M. J. Vac. Sci. Technol. A 2004, 22, 1917.
8. Tremont, R.; De Jesus-Cardona, H.; Garcia-Orozco, J.; Castro, R. J.; Cabrera, C. R. J. Appl. Electrochem. 2000, 30, 737.
9. Skolnik, A. M.; Hughes, W. C.; Augustine. B. H. Chem. Educator 2000, 5, 8.
10. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 9022.
11. Rose, J. W. J. Power Energy: Proc. Inst. Mech. Engrs., Part A 2002, 216, 115.
12. Hoque, E.; DeRose, J. A.; Hoffmann, P.; Mathieu, H. J. Surf. Interface Anal. 2006, 38, 62.
13. Das, A. K.; Kitty, H. P.; Marto, P. J.; Andeen, G. B.; Kumar, K. Trans. ASME, J. Heat Transfer 2000, 122. 278.
14. Kallury, K. M. R.; Krull, U. J.; Thompson, M. Org. Mass Spectrom. 1991, 26, 81.
15. Briggs, D. D.; Seah, M. P. Practical Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelec. Spec.; John Wiley & Sons: New York, 1983.
16. Hoque, E.; DeRose, J. A.; Hoffmann, P.; Mathieu, H. J.; Bhushan, B.; Cichomski, M. J. Chem. Phys. 2006, 124, 174710-1.
17. Fairley, N.; Carrick, A. The Casa CookBook: Recipes for XPS Data Processing; Acolyte Science: Chesire: UK, 2005.
18. Hoque, E.; DeRose, J. A.; Kulik, G.; Hoffmann, P.; Mathieu, H. J.: Bhushan, M. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 10855.
19. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. E.; Bomben, K. D. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; Perkin-Elmer Corporation: Eden Prarie, MN, 1992.
20. Xu, X.; He, J.-W.; Goodman, D. W. Surf. Sci. 1993, 284, 103.
21. da Cruz, R. S.; de. S. e Silva, J. M.; Arnold, U.; Sercheli, M. S.; Schuchardt, U. J. Braz. Chem. Soc. 2002, 13, 170.
22. Du, T.; Luo, Y.; Desai, V. Microelectron. Eng. 2004, 71, 90.
23. Rosencwaig, A.; Wertheim, G. K.; Guggenheim, H. J. Phys. Rev. Lett. 1971, 27, 479.
24. Raiker, G. N.; Gregory, J. C.; Peters, P. N. Oxid. Met. 1994, 42, 1.
25. Neson, A. J.; Reynolds, J. G.; Roos, J. W. J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 1072.
26. Frost, D. C.; Ishitani, A.; McDowell, C. A. Mol. Phys. 1972, 24, 861.
27. Du, T.; Tamboli, D.; Desai, V.; Seal, S. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G230.
28. Hernandez, J.; Wrschka, P.; Oehrlein, G. S. J. Electrochem. Soc. 2001, 148, G389.
29. Schnyder, B.; Lippert, T.; Kotz, R.; Wokaun, A.; Graubner, V.-M.; Nuyken, O. Surf. Sci. 2003, 552-555, 1067.
30. Leung, Y. L.; Zhou, M. Y.; Wong, P. C.; Mitchell, K. A. R. Appl. Surf. Sci. 1992, 59, 23.
31. Wagner, C. D.; Passoja, D. E.; Hillery, H. F.; Kinisky, T. G.; Six, H. A.; Jansen, W. T.; Taylor, J. A. J. Vac. Sci. Technol. 1982, 21, 933.
32. Hoffmann, P. W.; Stelzle, M.; Rabolt, J. F. Langmuir 1997, 13, 1877.
33. Cano, E.; Torres, C. L.; Bastidas, J. M. Mater. Corros. 2001, 52, 667.
34. Chao, S. S.; Takagi, Y.; Lukovsky, G.; Pai, P.; Custer, R. C.; Tyler, J. E.; Keem, J. E. Appl. Surf. Sci. 1986, 26, 575.
35. Raider, S. L; Ritsch, R. J. Electrochem. Soc. Solid-State Sci. Technol. 1976, 123, 154.
36. Pellerite, M. J.; Dunbar, T. D.; Boardman, L. D.; Wood, E. J. J. Phys. Chem. B 2003, 707, 11726.
37. Greenler, R. G. J. Chem. Phys. 1966, 44, 310-315.
38. MacPhail, R. A.; Strauss, H. L.; Snyder, R. G.; Elliger, C. A. J. Phys. Chem. 1984, 88, 334.
39. Laibinis, P. E.; Whitesides, G. M.; Allara, D. L.; Tao, Y. T.; Parikh, A. N.; Nuzzo, R. G. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 7152.
40. Lenk, T. J.; Hallmark, V. M.; Hoffmann, C. L.; Rabolt, J. F.; Castner, D. G.; Erdelen, C.; Ringsdorf, H. Langmuir 1994, 10, 4610.
41. Tsao, M. W.; Hoffmann, C. L.; Rabolt, J. F.; Johnson, H. E.; Castner, D. G.; Erdelen, C.; Ringdorf, H. Langmuir 1997, 13, 4317.
42. Fukushima, H.; Seki, S.; Nishikawa, T.; Takiguchi, H.; Tamada, K.; Abe, K.; Colorado, R.; Graupe, M., Jr.; Shmakova, O. E.; Lee, T. R. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 7417.
43. Bittner, A. M.; Epple, M.; Kuhnke, K.; Houriet, R.; Heusler, A.; Vogel, H.; Seitsonen, A. P.; Kern, K. J. Electroanal. Chem. 2003, 550-557, 113.
44. Williams, A. A.; Scott Day, B.; Kite, B. L.; McPherson, M. K.; Slebodnick, C.; Morris, J. R.; Gandour, R. D. Chem. Commun. 2005, 40, 5053.