Origin of luminescence from Ga2 O3 nanostructures studied using x-ray absorption and luminescence spectroscopy

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 75, Issue 12, 2007, Pages

  Zhou, X T ^a   Heigl, F ^b   Ko, J Y P ^a   Murphy, M W ^a   Zhou, J G ^a   Regier, T ^c   Blyth, R I R ^c   Sham, T K ^a  

^a UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

^b UNIVERSITY OF WISCONSIN MADISON   (United States)

^c CANADIAN LIGHT SOURCE INC   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 33847414663     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.75.125303     Document Type: Article

References (44)

1. R. Roy, V. G. Hill, and E. F. Osborn, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 0002-7863 10.1021/ja01123a039 74, 719 (1952).
2. H. H. Tippins, Phys. Rev. PRVAAH 0096-8250 10.1103/PhysRev.140.A316 140, A316 (1965).
3. L. Binet and D. Gourier, J. Phys. Chem. Solids JPCSAW 0022-3697 10.1016/S0022-3697(98)00047-X 59, 1241 (1998).
4. C. H. Liang, G. W. Meng, G. Z. Wang, Y. W. Wang, and L. D. Zhang, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1374498 78, 3202 (2001).
5. E. Nogales, B. Mendez, and J. Piqueras, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1883713 86, 113112 (2005).
6. Y. P. Song, H. Z. Zhang, C. Lin, Y. W. Zhu, G. H. Li, F. H. Yang, and D. P. Yu, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.69.075304 69, 075304 (2004).
7. M. Fleisher and H. Meixner, Sens. Actuators B SABCEB 0925-4005 10.1016/0925-4005(91)80148-D 4, 437 (1991).
8. A. L. Petre, A. Auroux, P. Gelin, M. Caldararu, and N. I. Ionescu, Thermochim. Acta THACAS 0040-6031 379, 177 (2001).
9. T. Miyata, T. Nakatani, and T. Minami, J. Lumin. JLUMA8 0022-2313 87-89, 1183 (2000).
10. P. C. Chang, Z. Y. Fan, W. Y. Tseng, A. Rajagopal, and J. G. Lu, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.2135867 87, 222102 (2005).
11. X. Xiang, C. B. Cao, and H. S. Zhu, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 279, 122 (2005).
12. N. H. Kim and H. W. Kim, Appl. Surf. Sci. ASUSEE 0169-4332 242, 29 (2005).
13. S. Sharma and M. K. Sunkara, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 0002-7863 10.1021/ja027086b 124, 12288 (2002).
14. G. Gundiah, A. Govindaraj, and C. N. R. Rao, Chem. Phys. Lett. CHPLBC 0009-2614 10.1016/S0009-2614(01)01372-0 351, 189 (2002).
15. H. W. Kim and N. H. Kim, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 0947-8396 10.1007/s00339-004-3049-4 A80, 537 (2005).
16. L. Fu, Y. Q. Liu, P. A. Hu, K. Xiao, G. Yu, and D. B. Zhu, Chem. Mater. CMATEX 0897-4756 10.1021/cm0343655 15, 4287 (2003).
17. J. Hu, Q. Li, X. M. Meng, C. S. Lee, and S. T. Lee, J. Phys. Chem. B JPCBFK 1089-5647 106, 9536 (2002).
18. K. W. Chang and J. J. Wu, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 0947-8396 76, 629 (2003).
19. J. Zhang and F. H. Jiang, Chem. Phys. CMPHC2 0301-0104 10.1016/S0301-0104(03)00045-4 289, 243 (2003).
20. J. Zhang, F. H. Jiang, and L. D. Zhang, Phys. Lett. A PYLAAG 0375-9601 10.1016/j.physleta.2004.01.043 322, 363 (2004).
21. X. C. Wu, W. H. Song, W. D. Hung, M. H. Pu, B. Zhao, Y. P. Sun, and J. J. Du, Chem. Phys. Lett. CHPLBC 0009-2614 10.1016/S0009-2614(00)00899-X 328, 5 (2000).
22. H. J. Chun, Y. S. Choi, S. Y. Bae, H. W. Seo, S. J. Hong, J. H. Park, and H. Yang, J. Phys. Chem. B JPCBFK 1089-5647 10.1021/jp034728o 107, 9042 (2003).
23. N. H. Kim, H. W. Kim, C. Seoul, and C. Lee, Mater. Sci. Eng., B MSBTEK 0921-5107 10.1016/j.mseb.2004.04.002 111, 131 (2004).
24. P. Guha, S. Chakrabarti, and S. Chaudhuri, Physica E (Amsterdam) PELNFM 1386-9477 23, 81 (2005).
25. H. W. Kim, N. H. Kim, and C. M. Lee, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. JSMEEV 0957-4522 10.1007/s10854-005-6458-z 16, 103 (2005).
26. K. W. Chang and J. J. Wu, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) ADVMEW 0935-9648 10.1002/adma.200306299 16, 545 (2004).
27. S. Y. Cho, J. W. Lee, I. Y. Park, and S. T. Kim, Mater. Lett. MLETDJ 0167-577X 57, 1004 (2002).
28. H. W. Kim and N. H. Kim, Appl. Surf. Sci. ASUSEE 0169-4332 230, 301 (2004).
29. E. G. Villora, K. Hatanaka, H. Odaka, T. Sugawara, T. Miura, H. Fukumura, and T. Fkada, Solid State Commun. SSCOA4 0038-1098 127, 385 (2003).
30. A. Rogalev and J. Goulon, in Chemical Applications of Synchotron Radiation, edited by, Tsun-Kong Sham, (World Scientific, Singapore, 2002), p. 707.
31. T. K. Sham, D. T. Jiang, I. Coulthard, J. W. Lorimer, X. H. Feng, K. H. Tan, S. P. Frigo, R. A. Rosenberg, D. C. Houghton, and B. Bryskiewicz, Nature (London) NATUAS 0028-0836 10.1038/363331a0 363, 332 (1993).
32. T. K. Sham, S. J. Naftel, P. S. G. Kim, R. Sammynaiken, Y. H. Tang, I. Coulthard, A. Moewes, J. W. Freeland, Y. F. Hu, and S. T. Lee, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.70.045313 70, 045313 (2004).
33. R. A. Rosenberg, G. K. Shenoy, F. Heigl, S. T. Lee, P. S. G. Kim, X. T. Zhou, and T. K. Sham, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1984096 86, 263115 (2005).
34. F. Heigl, S. Lam, T. Regier, I. Coulthard, and T. K. Sham, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 0002-7863 10.1021/ja060243c 128, 3906 (2006).
35. F. Heigl, A. Juergensen, X. T. Zhou, S. Lam, M. Murphy, J. Y. P. Ko, T. K. Sham, R. A. Rosenberg, R. Gordon, D. Brewe, T. Regier, and L. Armelao, SRI2006, Korea.
36. P. Zhang and T. K. Sham, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1494120 81, 736 (2002).
37. K. Nishi, K. I. Shimizu, M. Takamatsu, H. Yoshida, A. Satsuma, T. Tanaka, S. Yoshida, and T. Hattori, J. Phys. Chem. B JPCBFK 1089-5647 10.1021/jp982704p 102, 10190 (1998).
38. F. Tourtin, P. Armand, A. Ibanez, G. Tourillon, and E. Philippot, Thin Solid Films THSFAP 0040-6090 332, 85 (1998).
39. K. Shimizu, M. Takamatsu, K. Nishi, H. Yoshida, A. Satsuma, and T. Hattori, Chem. Commun. (Cambridge) CHCOFS 1359-7345 1996, 1827 (1996).
40. T. van Buuren, L. N. Dinh, L. L. Chase, W. J. Siekhaus, and L. J. Terminello, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.80.3803 80, 3803 (1998).
41. X. T. Zhou, F. Heigl, M. W. Murphy, T. K. Sham, T. Regier, I. Coulthard, and R. I. R. Blyth, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 89, 213109 (2006).
42. S. Emura, T. Moriga, J. Takizawa, M. Nomura, K. R. Bauchspiess, T. Murata, K. Harada, and H. Maeda, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.47.6918 47, 6918 (1993).
43. D. T. Jiang, I. Coulthard, T. K. Sham, J. W. Lorimer, X. H. Feng, and R. A. Rosenberg, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.355156 74, 6335 (1993).
44. P. A. Rodnyi, Physical Processes in Inorganic Scintillators (CRC Press, New York, 1997).