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Volumn 24, Issue 1, 2007, Pages 46-48

Study of the effect of substrate bias on the electrical properties of sputtered HfO2 thin film deposited on silicon substrate

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Electrical conductivity; Substrates; Thin films

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EID: 33846949435     PISSN: 13565362     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1108/13565360710725946     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.