Design and synthesis of TiO2 nanorod assemblies and their application for photovoltaic devices

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 21, 2006, Pages 5080-5087

  Wei, Qingshuo ^a   Hirota, Kouske ^a,b   Tajima, Keisuke ^a   Hashimoto, Kazuhito ^a  

^a UNIVERSITY OF TOKYO   (Japan)

^b MITSUI CHEMICALS INC   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MICELLES; PHOTOVOLTAIC EFFECTS; SOL-GELS; SYNTHESIS (CHEMICAL); TITANIUM DIOXIDE; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

EXCITON COLLECTORS; NANORODS; PHOTOVOLTAIC DEVICES;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33750531032     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm061697b     Document Type: Article

References (39)

1. Yu, G.; Gao, J.; Hummelen, J. C.; Wudl, F.; Heeger, A. J. Science 1995, 270, 1789.
2. Brabec, C. J.; Sariciftci, N. S.; Hummelen, J. C. Adv. Funct. Mater. 2001, 11, 15.
3. Spanggaard, H.; Krebs, F. C. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2004, 83, 125.
4. Shaheen, S. E.; Brabec, C. J.; Sariciftci, N. S.; Pudinger, F.; Fromherz, T.; Hummelen, J. C. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 841.
5. Ma, W. L.; Yung, C. Y.; Gong, X.; Lee, K.; Heeger, A. J. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 1617.
6. Reyes-Reyes, M.; Kim, K.; Carroll, D. L., Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 083506.
7. Salafsky, J. S. Solid-State Electron. 2001, 45, 53.
8. Kannan, B.; Castelino, K.; Mujumdar, A. Nano Lett. 2003, 3, 1729.
9. Coakley, K. M.; McGehee, M. D. Chem. Mater. 2004, 16, 4533.
10. Coakley, K. M.; Liu, Y. X.; Goh, C.; McGehee, M. D. MRS Bull. 2005, 30. 37.
11. Olson, D. C.; Piris, J.; Collins, R. T.; Shaheen, S. E.; Ginley, D. S. Thin Solid Films 2006, 496, 26.
12. Friend, R. H.; Denton, G. J.; Halls, J. J. M.; Harrison, N. T.; Holmes, A. B.; Kohler, A.; Lux, A.; Moratti, S. C.; Pichler, K.; Tessler, N.; Towns, K.; Wittmann, H. F. Solid State Commun. 1997, 102, 249.
13. Savenije, T. J.; Wurman, J. M.; Goossens, A. Chem. Phys. Lett. 1998, 287, 148.
14. Arungo, A. C.; Johnson, L. R.; Bliznyuk, V. N.; Schlesinger, Z.; Carter, S. A.; Horhold, H. H. Adv. Mater. 2000, 12, 1689.
15. Breeze, A. J.; Schlesinger, Z.; Carter, S. A.; Brock, P. J. Phys. Rev. B 2001, 64, 125205.
16. Fan, Q.; McQuillin, B.; Bradley, D. D. C.; Whitelegg, S.; Seddon, A. B. Chem. Phys. Lett. 2001, 347, 325.
17. Grant, C. D.; Schwartzberg, A. M.; Smestad, G. P.; Kowalik, J.; Tolbert, L. M.; Zhang, J. Z. J. Electroanal. Chem. 2002, 522, 40.
18. Liu, J. S.; Kadnikova, E. N.; Liu, Y. X.; McGehee, M. D.; Frechet, J. M. J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 9486.
19. Salafsky, J. S. Phys. Rev. B 1999, 59, 10885.
20. van Hal, P. A.; Wienk, M. M.; Kroon, J. M.; Verhees, W. J. H.; Slooff, L. H.; van Gennip, W. J. H.; Jonkheijm, P.; Janssen, R. A. J. Adv. Mater. 2003, 15, 118.
21. Kwong, C. Y.; Choy, W. C. H.; Djurisic, A. B.; Chui, P. C.; Cheng, K. W.; Chan, W. K. Nanotechnology 2004, 15, 1156.
22. Kwong, C. Y.; Djurisic, A. B.; Chui, P. C.; Cheng, K. W.; Chan, W. K. Chem. Phys. Lett. 2004, 384, 372.
23. Petrella, A.; Tamborra, M.; Cozzoli, P. D.; Curri, M. L.; Striccoli, M.; Cosma, P.; Farinola, G. M.; Babudri, E.; Naso, F.; Agostiano, A. Thin Solid Films 2004, 451-452, 64.
24. Slooff, L. H.; Wienk, M. M.; Kroon, J. M. Thin Solid Films 2004, 451-52, 634.
25. Slooff, L. H.; Kroon, J. M.; Loos, J.; Koetse, M. M.; Sweelssen, J. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 689.
26. Coakley, K. M.; Liu, Y. X.; McGehee, M. D.; Frindell, K. L.; Stucky, G. D. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 301.
27. Coakley, K. M.; McGehee, M. D. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 3380.
28. Ravirajan, P.; Haque, S. A.; Poplavskyy, D.; Durrant, J. R.; Bradley, D. D. C.; Nelson, J. Thin Solid Films 2004, 451-452, 624.
29. Ravirajan, P.; Haque, S. A.; Durrant, J. R.; Poplavskyy, D.; Bradley, D. D. C.; Nelson, J. J. Appl. Phys. 2004, 95, 1473.
30. Ravirajan, P.; Bradley, D. D. C.; Nelson, J.; Haque, S. A.; Durrant, J. R.; Smit, H. J. P.; Kroon, J. M. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 143101.
31. Ravirajan, P.; Haque, S. A.; Durrant, J. R.; Bradley, D. D. C.; Nelson, J. Adv. Funct. Mater. 2005, 15, 609.
32. Wang, H.; Oey, C. C.; Djurisic, A. B.; Xie, M. H.; Leung, Y. H.; Man, K. K. Y.; Chan, W. K.; Pandey, A.; Nunzi, J. M.; Chui, P. C. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 023507.
33. Cozzoli, P. D.; Kornowski, A.; Weller, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14539.
34. The background amorphous pattern comes from the epoxy resin that we used for the TEM sample preparation.
35. -2. and the volume occupied by the nanostructures is estimated to be around 20%. leading to 45 nm thickness when the absorbance of the film is 0.26. The thickness of the active layer was also confirmed by FE-SEM cross-sectional images.
36. Stubinger, T.; Brutting, W. J. Appl. Phys. 2001, 90, 3632.
37. Markov, D. E.; Tanase, C.; Blom, P. W. M.; Wildeman, J. Phys. Rev. B 2005, 72, 045217.
38. Markov, D. E.; Amsterdam, E.; Blom, P. W. M.; Sieval, A. B.; Hummelen, J. C. J. Phys. Chem. A 2005, 109, 5266.
39. Halls, J. J. M.; Pichler, K.; Friend, R. H.; Moratti, S. C.; Holmes, A. B. Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 3120.