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Volumn 19, Issue 2-4, 1997, Pages 293-298

Effect of uniaxial stress on the lattice spacing of silicon at low temperatures

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EID: 33749452183     PISSN: 03926737     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/BF03040985     Document Type: Article
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References (18)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.