Directed nucleation of ordered nanoparticle arrays on amorphous surfaces

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 24, Issue 4, 2006, Pages 1913-1917

  Coffee, Shawn S ^a   Stanley, Scott K ^a   Ekerdt, John G ^a  

^a The University of Texas at Austin   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMORPHOUS SURFACES; GERMANIUM NANOPARTICLE; NANOPARTICLE ARRAYS; NANOPARTICLE DENSITIES;

ARRAYS; BLOCK COPOLYMERS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; GERMANIUM; NUCLEATION; POLYSTYRENES; SEMICONDUCTOR GROWTH; SILICA; THIN FILMS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33746516264     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2221318     Document Type: Article

References (39)

1. H. Brune, Surf. Sci. Rep. 31, 121 (1998).
2. J. H. Zhu, W. T. Leach, S. K. Stanley, J. G. Ekerdt, and X. M. Yan, J. Appl. Phys. 92, 4695 (2002).
3. T. Baron, A. Fernandes, J. F. Damlencourt, B. De Salvo, F. Martin, F. Mazen, and S. Haukka, Appl. Phys. Lett. 82, 4151 (2003).
4. T. L Kamins and R. S. Williams, Appl. Phys. Lett. 71, 1201 (1997).
5. A. Olzierski, A. G. Nassiopoulou, I. Raptis, and T. Stoica, Nanotechnology 15, 1695 (2004).
6. T. Stoica, L. Vescan, and E. Sutter, J. Appl. Phys. 95, 7707 (2004).
7. T. Kitajima, B. Liu, and S. R. Leone, Appl. Phys. Lett. 80, 497 (2002).
8. K. Shiralagi, R. Zhang, and R. Tsui, J. Cryst. Growth 202, 1209 (1999).
9. T. Baron, F. Mazen, C. Busseret, A. Souifi, P. Mur, F. Fournel, M. N. Semeria, H. Moriceau, B. Aspard, and P. Gentile, Microelectron. Eng. 61-2,511 (2002).
10. J. Bloem, J. Cryst. Growth 50, 581 (1980).
11. C. Basa, M. Tinani, and E. A. Irene, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2466 (1998).
12. T. Baron, B. Pelissier, L. Perniola, F. Mazen, J. M. Hartmann, and G. Rolland, Appl. Phys. Lett. 83, 1444 (2003).
13. V. L. Dalal, Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 6, 455 (2002).
14. R. Gupta, W. J. Yoo, Y. Q. Wang. Z. Tan, G. Samudra, S. Lee, D. S. H. Chan, K. P. Loh, L. K. Bera, N. Balasubramanian, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 84, 4331 (2004).
15. D. W. Kim, S. B. Hwang, T. F. Edgar, and S. Banerjee, J. Electrochem. Soc. 150, G240 (2003).
16. S. K. Stanley, S. V. Joshi, S. K. Banerjee, and J. G. Ekerdt, J. Vac. Sci. Technol. A 24, 78 (2006).
17. Y. Q. Wang, J. H. Chen, W. J. Yoo, and Y. C. Yeo, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 830, D6.3.1 (2005).
18. H. G. Yang, Y. Shi, L. Pu, R. Zhang, B. Shen, P. Man, S. L. Gu, and Y. D. Zheng, Appl. Surf. Sci. 224, 394 (2004).
19. S. Y. Wang, W. L. Liu, Q. Wan, J. Y. Dai, P. F. Lee, L. Suhua, Q. W. Shen,M. Zhang, Z. T. Song, and C. L. Lin, Appl. Phys. Lett. 86, 113105 (2005).
20. S. K. Stanley, S. S. Coffee, and J. G. Ekerdt, Appl. Surf. Sci. 252, 878 (2005).
21. C. Park, J. Yoon, and E. L. Thomas, Polymer 44, 6725 (2003).
22. R. A. Segalman, Mater. Sci. Eng., R. 48, 191 (2005).
23. G. Kastle, H. G. Boyen, F. Weigl, G. Lengl, T. Herzog, P. Ziemann, S. Riethmuller, O. Mayer, C. Hartmann, J. P. Spatz, M. Moller, M. Ozawa, F. Banhart, M. G. Garnier, and P. Oelhafen, Adv. Funct. Mater. 13, 853 (2003).
24. S. Lastella, Y. J. Jung, H. C. Yang, R. Vajtai, P. M. Ajayan, C. Y. Ryu, D. A. Rider, and I. Manners, J. Mater. Chem. 14, 1791 (2004).
25. C. Hinderling, Y. Keles, T. Stockli, H. E. Knapp, T. de los Arcos, P. Oelhafen, I. Korczagin, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, R. L. Pugin, and H. Heinzelmann, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 16, 876 (2004).
26. Y. Lin, A. Boker, J. B. He, K. Sill, H. Q. Xiang, C. Abetz, X. F. Li, J. Wang, T. Emrick, S. Long, Q. Wang, A. Balazs, and T. P. Russell, Nature (London) 434, 55 (2005).
27. C. L. Zhang, T. Xu, D. Butterfield, M. J. Misner, D. Y. Ryu, T. Emrick, and T. P. Russell, Nano Lett. 5, 357 (2005).
28. K. W. Guarini, C. T. Black, Y. Zhang, H. Kim, E. M. Sikorski, and I. V. Babich, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 2788 (2002).
29. K. W. Guarini, C. T. Black, and S. H. I. Yeuing, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 14, 1290 (2002).
30. C. Harrison, M. Park, P. M. Chaikin, R. A. Register, and D. H. Adamson, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 544 (1998).
31. X. M. Yang, S. G. Xiao, C. Liu, K. Pelhos, and K. Minor, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 3331 (2004).
32. J. Chen, W. J. Yoo, Z. Tan, Y. Wang, and D. S. H. Chan, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 1552 (2004).
33. W. T. Leach, J. H. Zhu, and J. G. Ekerdt, J. Cryst. Growth 243, 30 (2002).
34. W. T. Leach, J. H. Zhu, and J. G. Ekerdt, J. Cryst. Growth 240, 415 (2002).
35. S. K. Stanley and J. G. Ekerdt, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 879E, Z3.23 (2005).
36. "Standard Thermodynamic Properties of Chemical Substances," in CRC Handbook of Chemistry and Physics, Internet Version 2005, edited by David L. Lide (http://www.hbcpnetbase.com) (CRC Press, Boca Raton, FL, 2005).
37. A. A. Shklyaev and M. Ichikawa, Surf. Sci. 514, 19 (2002).
38. C. L. Wang, S. Unnikrishnan, B. Y. Kim, D. L. Kwong, and A. F. Tasch, J. Electrochem. Soc. 143, 2387 (1996).
39. S. K. Stanley, S. S. Coffee, and J. G. Ekerdt, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 830, D1.8.1 (2005).