Magnetic-dipolar-interaction-induced self-assembly affords wires of hollow nanocrystals of cobalt selenide

Angewandte Chemie - International Edition

Volumn 45, Issue 8, 2006, Pages 1220-1223

  Gao, Jinhao ^a   Zhang, Bei ^a   Zhang, Xixiang ^a   Xu, Bing ^a  

^a HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Hong Kong)

Author keywords

Chalcogenides; Cobalt; Magnetic properties; Nanostructures; Self assembly

Indexed keywords

COBALT; COBALT COMPOUNDS; CRYSTALS; FERROMAGNETIC MATERIALS; MAGNETIC PROPERTIES; SYNTHESIS (CHEMICAL); TEMPERATURE DISTRIBUTION; WIRE;

CHALCOGENIDES; CURIE TEMPERATURE; NANOCRYSTAL; SELF-ASSEMBLY;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33746190647     PISSN: 14337851     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/anie.200503486     Document Type: Article

References (43)

1. a) S. H. Park, D. Qin, Y. Xia, Adv. Mater. 1998, 10, 1028;
2. b) B. Gates, Y. Xia, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3178.
3. a) S. Sun, C. B. Murray, D. Weller, L. Folks, A. Moser, Science 2000, 287, 1989;
4. b) V. F. Puntes, P. Gorostiza, D. M. Aruguete, N. G. Bastus, A. P. Alivisatos, Nat. Mater. 2004, 3, 263;
5. c) T. Hyeon, Chem. Commun. 2003, 927.
6. J. C. Love, L. A. Estroff, J. K. Kriebel, R. G. Nuzzo, G. M. Whitesides, Chem. Rev. 2005, 105, 1103.
7. a) T. C. Holmes, S. de Lacalle, X. Su, G. S. Liu, A. Rich, S. G. Zhang, Proc. Natl. Acad. Sci. USA 2000, 97, 6728;
8. b) G. A. Silva, C. Czeisler, K. L. Niece, E. Beniash, D. A. Harrington, J. A. Kessler, S. I. Stupp, Science 2004, 303, 1352;
9. c) B. G. Xing, C. W. Yu, K. H. Chow, P. L. Ho, D. G. Fu, B. Xu, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 14 846;
10. d) Z. M. Yang, H. W. Gu, Y. Zhang, L. Wang, B. Xu, Chem. Commun. 2004, 208.
11. a) Z. Y. Tang, N. A. Kotov, M. Giersig, Science 2002, 297, 237;
12. b) Z. Y. Tang, N. A. Kotov, Adv. Mater. 2005, 17, 951.
13. a) J. C. Love, A. R. Urbach, M. G. Prentiss, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 12 696;
14. b) A. R. Urbach, J. C. Love, M. G. Prentiss, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 12 704.
15. a) S. L. Tripp, S. V. Pusztay, A. E. Ribbe, A. Wei, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 7914;
16. b) S. L. Tripp, R. E. Dunin-Borkowski, A. Wei, Angew. Chem. 2003, 115, 5749;
17. Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 5591.
18. a) T. Hyeon, S. S. Lee, J. Park, Y. Chung, H. Bin Na, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 12 798;
19. b) J. Park, K. J. An, Y. S. Hwang, J. G. Park, H. J. Noh, J. Y. Kim, J. H. Park, N. M. Hwang, T. Hyeon, Nat. Mater. 2004, 3, 891;
20. c) J. Park, E. Lee, N. M. Hwang, M. S. Kang, S. C. Kim, Y. Hwang, J. G. Park, H. J. Noh, J. Y. Kini, J. H. Park, T. Hyeon, Angew. Chem. 2005, 117, 2932;
21. Angew. Chem. Int. Ed. 2005, 44, 2872.
22. Y. D. Yin, A. P. Alivisatos, Nature 2005, 437, 664.
23. Y. D. Yin, R.M. Rioux, C. K. Erdonmez, S. Hughes, G. A. Somorjai, A. P. Alivisatos, Science 2004, 304, 711.
24. a) J. Chen, F. Saeki, B. J. Wiley, H. Cang, M. J. Cobb, Z. Y. Li, L. Au, H. Zhang, M. B. Kimmey, X. D. Li, Y. Xia, Nano Lett. 2005, 5,473;
25. b) Y. Sun, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 3892;
26. c) L. Rapoport, N. Fleischer, R. Tenne, Adv. Mater. 2003, 15, 651;
27. d) L. Rapoport, Y. Bilik, Y. Feldman, M. Homyonfer, S. R. Cohen, R. Tenne, Nature 1997, 387, 791;
28. e) N. A. Dhas, K. S. Suslick, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 2368;
29. f) D. Goll, A. E. Berkowitz, H. N. Bertram, Phys. Rev. B 2004, 70;
30. g) R. Tenne, Prog. Inorg. Chem. 2001, 50, 269;
31. h) Y. G. Sun, B. Mayers, Y. N. Xia, Adv. Mater. 2003, 15, 641;
32. i) X. M. Sun, Y. D. Li, Angew. Chem. 2004, 116, 3915;
33. Angew. Chem. Int. Ed. 2004, 43, 3827;
34. j) X. Wang, Y. D. Li, Angew. Chem. 2003, 115, 3621;
35. Angew. Chem. Int. Ed. 2003, 42, 3497.
36. K. N. Tu, U. Gosele, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 09311.
37. V. F. Puntes, K. M. Krishnan, A. P. Alivisatos, Science 2001, 291, 2115.
38. H. van der Heide, R. Hemmel, C. F. van Bruggen, C. Haas, J. Solid State Chem. 1980, 33, 17.
39. C. E. M. Campos, J. C. de Lima, T. A. Grandi, K. D. Machado, V. Drago, P. S. Pizani, Solid State Commun. 2004, 131, 265.
40. B. Gates, Y. Yin, Y. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 12 582.
41. K.-S. Cho, D. V. Talapin, W. Gaschler, C. B. Murray, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 7140.
42. a) H. W. Gu, R. K. Zheng, X. X. Zhang, B. Xu, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 5664;
43. b) H. W. Gu, Z. M. Yang, J. H. Gao, C. K. Chang, B. Xu, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 34.