Strain-relaxation in NH 3-source molecular beam epitaxy of AlN epilayers on GaN epitaxial templates

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 203, Issue 7, 2006, Pages 1603-1606

  Koyama, T ^a,b   Sugawara, M ^a   Uchinuma, Y ^a   Kaeding, J F ^c   Sharma, R ^c   Onuma, T ^a,b   Nakamura, S ^b,c   Chichibu, S F ^a,b  

^a UNIVERSITY OF TSUKUBA   (Japan)

^b JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

^c University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALN EPILAYERS; GAN EPITAXIAL TEMPLATES; STRAIN-RELAXATION;

ALUMINUM NITRIDE; CRACKS; GALLIUM NITRIDE; MOLECULAR BEAM EPITAXY; PHOTOLUMINESCENCE; TENSILE STRESS;

AMMONIA;

EID: 33745032579     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200565289     Document Type: Article

References (17)

1. C. R. Elsass, I. P. Smorchkova, B. Heying, E. Haus, P. Fini, K. Maranowski, J. P. Ibbetson, S. Keller, P. M. Petroff, S. P. DenBaars, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett. 74, 3528 (1999).
2. S. E. Hooper, M. Kauer, V. Bousquet, K. Johnson, C. Zellweger, and J. Heffernan, J. Cryst. Growth 278, 361 (2005).
3. K. Kusakabe, K. Kishino, A. Kikuchi, T. Yamada, D. Sugihara, and S. Nakamura, J. Cryst. Growth 230, 387 (2001).
4. M. Sakai, H. Ishikawa, T. Egawa, T. Jimbo, M. Umeno, T. Shibata, K. Asai, S. Sumiya, Y. Kuraoka, M. Tanaka, and O. Oda, J. Cryst. Growth 244, 6 (2002).
5. T. Koida, Y. Uchinuma, J. Kikuchi, K. R. Wang, M. Terazaki, T. Onuma, J. F. Kaeding, R. Sharma, S. Nakamura, and S. F. Chichibu, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 2158 (2004).
6. S. Yoshida, S. Misawa, and S. Gonda, Appl. Phys. Lett. 42, 427 (1983).
7. J. W. Matthews, J. Vac. Sci. Technol. 12, 126 (1975).
8. A. D. Bykhovski, B. L. Gelmont, and M. S. Shur, J. Appl. Phys. 78, 3691 (1995).
9. S. Chichibu, S. Shirakata, M. Uchida, Y. Harada, T. Wakiyama, S. Matsumoto, H. Higuchi, and S. Isomura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 3991 (1995).
10. K. Shimada, T. Sota, and K. Suzuki, J. Appl. Phys. 84, 4951 (1998).
11. H. P. Maruska and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett. 15, 327 (1969).
12. W. M. Yim and R. J. Paff, J. Appl. Phys. 45, 1456 (1974).
13. T. Shibata, K. Asai, T. Nagai, S. Sumiya, M. Tanaka, O. Oda, H. Miyake, and K. Hiramatsu, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 693, 541 (2002).
14. T. Shibata, K. Asai, S. Sumiya, M. Mouri, M. Tanaka, O. Oda, H. Katsukawa, H. Miyake, and K. Hiramatsu, phys. stat. sol. (c) 0, 2023 (2003).
15. B. Heying, X. H. Wu, S. Keller, Y. Li, D. Kapolnek, B. P. Keller, S. P. DenBaars, and J. S. Speck, Appl. Phys. Lett. 68, 643 (1996).
16. E. Silveira, J. A. Freitas, Jr., O. J. Glembocki, G. A. Slack, and L. J. Schowalter, Phys. Rev. B 71, 041201 (2005).
17. T. Onuma, S. F. Chichibu, T. Sota, K. Asai, S. Sumiya, T. Shibata, and M. Tanaka, Appl. Phys. Lett. 81, 652 (2002).