Low-voltage electrodeposition of fullerol thin films from aqueous solutions

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 153, Issue 7, 2006, Pages

  Kleiman Shwarsctein, Alan ^a   Jaramillo, Thomas F ^a   Baeck, Sung Hyeon ^c   Sushchikh, Michael ^b   McFarland, Eric W ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b University of California   (United States)

^c Inha University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRODEPOSITION; ENERGY GAP; FULLERENES; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; THICKNESS MEASUREMENT; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CATHODIC ELECTRODEPOSITION; FILM THICKNESS; FULLEROL; OPTICAL BANDGAP;

THIN FILMS;

EID: 33744802241     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2196671     Document Type: Article

References (52)

1. H. Peng, F. S. M. Leung, A. X. Wu, Y. P. Dong, Y. Q. Dong, N. T. Yu, X. D. Feng, and B. Z. Tang, Chem. Mater., 16, 4790 (2004).
2. P. Innocenzi, G. Brusatin, M. Guglielmi, R. Signorini, M. Meneghetti, R. Bozio, M. Maggini, G. Scorrano, and M. Prato, J. Sol-Gel Sci. Technol., 19, 263 (2000).
3. B. S. Sherigara, W. Kutner, and F. D'Souza, Electroanalysis, 15, 753 (2003).
4. N. Camaioni, G. Ridolfi, G. Casalbore-Miceli, G. Possamai, and M. Maggini, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 14, 1735 (2002).
5. E. A. Katz, D. Faiman, S. Goren, S. Shtutina, S. Mishori, and Y. Shapira, Fullerene Sci. Technol., 6, 103 (1998).
6. V. Dyakonov, D. Godovsky, J. Parisi, C. J. Brabec, N. S. Sariciftci, J. C. Hummelen, J. DeCeuster, and E. Goovaerts, Synth. Met., 121, 1529 (2001).
7. C. J. Brabec, N. S. Sariciftci, and J. C. Hummelen, Adv. Funct. Mater., 11, 15 (2001).
8. Z. Shi, Y. Li, S. Wang, Z. Guo, C. Du, S. Xiao, N. Sun, J. Yao, D. Zhu, E. Gao, and S. Cai, Chem. Phys. Lett., 336, 19 (2001).
9. M. Maggini, A. Dono, G. Scorrano, and M. Prato, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 18, 845 (1995).
10. H. Imahori and S. Fukuzumi, Adv. Funct. Mater., 14, 525 (2004).
11. H. Imahori, M. Kimura, K. Hosomizu, and S. Fukuzumi, J. Photochem. Photobiol., A, 166, 57 (2004).
12. D. Faiman, S. Goren, E. A. Katz, M. Koltun, N. Melnik, A. Shames, and S. Shtutina, Thin Solid Films, 295, 283 (1997).
13. H. Y. Zhang, C. Y. Wu, L. Z. Liang, Y. Y. He, Y. J. Zhu, Y. M. Chen, N. Ke, J. B. Xu, S. P. Wong, A. X. Wei, and S. Q. Peng, J. Phys.: Condens. Matter, 13, 2883 (2001).
14. C. A. Mirkin and W. B. Caldwell, Tetrahedron, 14, 5113 (1996).
15. M. E. Rincon, H. Hu, J. Campos, and J. Ruiz-Garcia, J. Phys. Chem. B, 107, 4111 (2003).
16. R. Castillo, S. Ramos, and J. Ruiz-Garcia, J. Phys. Chem., 100, 15235 (1996).
17. A. Kuzume, E. Herrero, J. M. Feliu, R. J. Nichols, and D. J. Schiffrin, Phys. Chem. Chem. Phys., 6, 619 (2004).
18. X. B. Shi, W. B. Caldwell, K. Chen, and C. A. Mirkin, J. Am. Chem. Soc., 116, 11598 (1994).
19. C. Jehoulet, Y. S. Obeng, Y. T. Kim, and A. J. Bard, J. Am. Chem. Soc., 114, 4237 (1992).
20. B. Miller, J. M. Rosamilia, G. Dabbagh, R. Tycko, R. C. Haddon, A. J. Muller, W. Wilson, D. W. Murphy, and A. F. Hebard, J. Am. Chem. Soc., 113, 6291 (1991).
21. C. Y. Yang and A. J. Heeger, Synth. Met., 83, 85 (1996).
22. G. Brusatin and P. Innocenzi, J. Sol-Gel Sci. Technol., 22, 189 (2001).
23. E. Nakamura and H. Isobe, Acc. Chem. Res., 36, 807 (2003).
24. K. Winkler, D. A. Costa, W. R. Fawcett, and A. L. Balch, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 9, 153 (1997).
25. E. P. Krinichnaya, A. P. Moravsky, O. Efimov, J. W. Sobczak, K. Winkler, W. Kutner, and A. L. Balch, J. Mater. Chem., 15, 1468 (2005).
26. M. Fedurco, D. A. Costa, A. L. Balch, and W. R. Fawcett, Angew. Chem., Int. Ed. Engl., 34, 194 (1995).
27. K. Winkler, D. A. Costa, A. L. Balch, and W. R. Fawcett, J. Phys. Chem., 99, 17431 (1995).
28. A. L. Balch, D. A. Costa, and K. Winkler, J. Am. Chem. Soc., 120, 9614 (1998).
29. K. Winkler, K. Noworyta, A. de Bettencourt-Dias, J. W. Sobczak, C. T. Wu, L. C. Chen, W. Kutner, and A. L. Balch, J. Mater. Chem., 13, 518 (2003).
30. K. Winkler, A. de Bettencourt-Dias, and A. L. Balch, Chem. Mater., 11, 2265 (1999).
31. H. L. Anderson, C. Boudon, F. Diederich, J. P. Gisselbrecht, M. Gross, and P. Seiler, Angew. Chem., Int. Ed. Engl., 33, 1628 (1994).
32. T. Benincori, E. Brenna, F. Sannicolo, L. Trimarco, G. Zotti, and P. Sozzani, Angew. Chem., Int. Ed. Engl., 35, 648 (1996).
33. M. E. Plonska, A. Makar, K. Winkler, and A. L. Balch, Pol. J. Chem., 78, 1431 (2004).
34. Y. Murata, M. Suzuki, and K. Komatsu, Org. Biomol. Chem., 1, 2624 (2003).
35. P. V. Kamat, S. Barazzouk, K. G. Thomas, and S. Hotchandani, J. Phys. Chem. B, 104, 4014 (2000).
36. S. Barazzouk, S. Hotchandani, and P. V. Kamat, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 13, 1614 (2001).
37. Y.-G. Guo, C.-J. Li, L.-J. Wan, D.-M. Chen, C.-R. Wang, C.-L. Bai, and Y.-G. Wang, Adv. Funct. Mater., 13, 626 (2003).
38. H. Mohan, D. K. Palit, J. P. Mittal, L. Y. Chiang, K. D. Asmus, and D. M. Guldi, J. Chem. Soc., Faraday Trans., 94, 359 (1998).
39. S. H. Baeck, T. F. Jaramillo, G. D. Stucky, and E. W. McFarland, Nano Lett., 8, 831 (2002).
40. D. M. Poirier, T. R. Ohno, G. H. Kroll, Y. Chen, P. J. Benning, J. H. Weaver, L. P. F. Chibante, and R. E. Smalley, Science, 253, 646 (1991).
41. T. Pauporte, A. Goux, A. Kahn-Harari, N. de Tacconi, C. R. Chenthamarakshan, K. Rajeshwar, and D. Lincot, J. Phys. Chem. Solids, 64, 1737 (2003).
42. S. H. Baeck, T. F. Jaramillo, D. H. Jeong, and E. W. McFarland, Chem. Commun. (Cambridge), 4, 390 (2004).
43. L. Y. Chiang, R. B. Upasani, J. W. Swirczewski, and S. Soled, J. Am. Chem. Soc., 115, 5453 (1993).
44. S. Tougaard, W. Braun, E. Holubkrappe, and H. Saalfed, Surf. Interface Anal., 13, 225 (1988).
45. T. R. Ohno, Y. Chen, S. E. Harvey, G. H. Kroll, J. H. Weaver, R. E. Haufler, and R. E. Smalley, Phys. Rev. B, 44, 13747 (1991).
46. J. A. Leiro, M. H. Heinonen, T. Laiho, and I. G. Batirev, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 128, 205 (2003).
47. J. H. Weaver, J. L. Martins, T. Komeda, Y. Chen, T. R. Ohno, G. H. Kroll, N. Troullier, R. E. Haufler, and R. E. Smalley, Phys. Rev. Lett., 66, 1741 (1991).
48. E. Rotenberg, C. Enkvist, P. A. Bruhwiler, A. J. Maxwell, and N. Martensson, Phys. Rev. B, 54, R5279 (1996).
49. G. M. Xing, J. Zhang, Y. L. Zhao, J. Tang, B. Zhang, X. F. Gao, Y. Yuan, L. Qu, W. B. Cao, Z. F. Chai, K. Ibrahim, and R. Su, J. Phys. Chem. B, 108, 11473 (2004).
50. H. Mohan, L. Y. Chiang, and J. P. Mittal, Res. Chem. Intermed., 23, 403 (1997).
51. G. Socrates, Infrared Characteristic Group Frequencies, 1st ed., John Wiley & Sons, New York (1980).
52. M. Wohlers, H. Werner, D. Herein, T. SchedelNiedrig, and A. Bauer, Synth. Met., 77, 299 (1996).