Growth dynamics and cell migration in ferroelectric thin films

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 15, 2006, Pages

  Li, Yan Rong ^a   Li, Jin Long ^a   Jun, Zhu ^a   Ying, Zhang ^a   Zeng, Hui Zhong ^a   Wei, Xianhua ^a   Tang, Jin Long ^a  

^a UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DIFFUSION; HIGH ENERGY ELECTRON DIFFRACTION; MATHEMATICAL MODELS; OXIDES; STRONTIUM COMPOUNDS;

CELL MIGRATION; GROWTH DYNAMICS; OXIDE THIN FILM;

FERROELECTRIC THIN FILMS;

EID: 33646161704     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2171478     Document Type: Article

References (23)

1. W. H. Ma and D. Hesse, Appl. Phys. Lett. 85, 3214 (2004).
2. J. C. Jiang, Y. Lin, C. L. Chen, C. W. Chu, and E. I. Meletis, J. Appl. Phys. 91, 3188 (2002).
3. C. L. Chen, H. H. Feng, Z. Zhang, A. Brazeikis, Z. J. Huang, W. K. Chu, and C. W. Chu, Appl. Phys. Lett. 75, 412 (1999).
4. K. Kato, D. S. Fu, K. Suzuki, K. Tanaka, K. Nishizawa, and T. Miki, Appl. Phys. Lett. 84, 3771 (2004).
5. M. Hong, J. Kwo, A. R. Kortan, J. P. Mannaerts, and A. M. Sergent, Science 283, 1897 (1999).
6. C. R. Cho and A. Grishin, Appl. Phys. Lett. 75, 268 (1999).
7. M. Lippmaa, N. Nakagawa, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 76, 2439 (2000).
8. G. Koster, G. J. H. M. Rijnders, D. H. A. Blank, and H. Rogalla, Appl. Phys. Lett. 74, 3729 (1999).
9. C. L. Chen, J. Shen, S. Y. Chen, G. P. Luo, and C. W. Chu, Appl. Phys. Lett. 78, 652 (2001).
10. Y. R. Li, J. L. Li, Y. Zhang, X. H. Wei, X. W. Deng, and X. Z. Liu, J. Appl. Phys. 96, 1640 (2004).
11. Y. R. Li, J. L. Li, Y. Zhang, X. W. Deng, X. Z. Liu, and B. W. Tao, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 1935 (2004).
12. M. Kawasaki, K. Takahashi, T. Maeda, R. Tsuchiya, M. Shinohara, O. Ishiyama, T. Yonezawa, M. Yoshimoto, and H. Koinuma, Science 266, 1540 (1994).
13. J. P. Zheng, Z. Q. Huang, D. T. Shaw, and H. S. Kowk, Appl. Phys. Lett. 54, 280 (1989).
14. R. K. Singh and J. Narayan, Phys. Rev. B 41, 8843 (1990).
15. J. L. Sudijono, M. D. Johnson, C. W. Snyder, M. B. Elowitz, and B. G. Orr, Phys. Rev. Lett. 69, 2811 (1992).
16. J. H. Neave, P. J. Dobson, B. A. Joyce, and J. Zhang, Appl. Phys. Lett. 47, 100 (1985).
17. M. D. Johnson, J. L. Sudijono, A. W. Hunt, and B. G. Orr, Appl. Phys. Lett. 64, 484 (1994).
18. P. Delugas and V. Fiorentini, Phys. Rev. B 69, 085203 (2004).
19. N. E. B. Cowern, G. F. A. Van de Walle, D. J. Gravesteijn, and C. J. Vriezema, Phys. Rev. Lett. 67, 212 (1991).
20. B. Sadigh, T. J. Lenosky, S. K. Theiss, M.-J. Caturla, T. Diaz de la Rubia, and M. A. Foad, Phys. Rev. Lett. 83, 4341 (1999).
21. C. L. Chen and T. T. Tsong, Phys. Rev. Lett. 64, 3147 (1990).
22. C. L. Chen and T. T. Tsong, Phys. Rev. B 41, 12403 (1990).
23. W. Windl, M. M. Bunea, R. Stumpf, S. T. Dunham, and M. P. Masquelier, Phys. Rev. Lett. 83, 4345 (1999).