Site specific Eu 3+ stimulated emission in GaN host

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 1, 2006, Pages

  Park, J H ^a   Steckl, A J ^a  

^a University of Cincinnati   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EMISSION PEAKS; EU LASER STRUCTURES; FAST DECAY TIME CONSTANT; GAN HOST;

DEUTERIUM COMPOUNDS; EUROPIUM COMPOUNDS; LASER APPLICATIONS; OPTICAL PUMPING; STIMULATED EMISSION; THRESHOLD ELEMENTS;

GALLIUM NITRIDE;

EID: 33645536713     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2161159     Document Type: Article

References (23)

1. A. J. Steckl and J. M. Zavada, Mater. Res. Bull. 24, 33 (1999).
2. A. J. Steckl, J. C. Heikenfeld, D. S. Lee, M. J. Garter, C. C. Baker, Y. Wang, and R. A. Jones, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 8, 749 (2002).
3. J. C. Heikenfeld, M. Garter, D. S. Lee, R. Birkhahn, and A. J. Steckl, Appl. Phys. Lett. 75, 1189 (1999).
4. E. Nyein, U. Hommerich, J. Heikenfeld, D. S. Lee, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, Appl. Phys. Lett. 82, 1655 (2003).
5. U. Hommerich, E. Nyein, D. S. Lee, J. Heikenfeld, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, Mater. Sci. Eng., B 105, 91 (2003).
6. C. W. Lee, H. O. Everitt, D. S. Lee, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, J. Appl. Phys. 95, 7717 (2004).
7. H. Bang, S. Morishima, Z. Li, K. Akimoto, M. Nomura, and E. Yagi, Phys. Status Solidi B 228, 318 (2001).
8. Z. Li, H. Bang, G. Piao, J. Sawahata, and K. Akimoto, J. Cryst. Growth 240, 382 (2002).
9. H. Bang, S. Morishima, Z. Li, K. Akimoto, M. Nomura, and E. Yagi, J. Cryst. Growth 237-239, 1027 (2002).
10. H. Y. Peng, C. W. Lee, H. O. Everitt, D. S. Lee, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, Appl. Phys. Lett. 86, 051110 (2005).
11. C. Munasinghe, A. J. Steckl, E. Nyein, U. Hommerich, H. Y. Peng, H. O. Everitt, Z. Fleischman, V. Dierolf, and J. M. Zavada, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 866, 41 (2005).
12. E. Nyein, U. Hommerich, C. Munasinghe, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 866, 67 (2005).
13. V. Dierolf, Z. Fleischman, C. Sandmann, A. Wakahara, T. Fujiwara, C. Munasinghe, and A. J. Steckl, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 866, 73 (2005).
14. K. Wang, R. W. Martin, K. P. O'Donnell, V. Katchkanov, E. Nogales, K. Lorenz, E. Alves, S. Ruffenach, and O. Briot, Appl. Phys. Lett. 87, 112107 (2005).
15. J. H. Park and A. J. Steckl, Appl. Phys. Lett. 85, 4588 (2004).
16. J. H. Park and A. J. Steckl, J. Appl. Phys. 98, 056108 (2005).
17. K. Lorenz, R. Vianden, R. Birkhahn, A. J. Steckl, M. F. da Silva, J. C. Soares, and E. Alves, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 161-163, 946 (2000).
18. E. Alves, K. Lorenz, R. Vianden, C. Boemare, M. J. Soares, and T. Monteiro, Mod. Phys. Lett. B 15, 1281 (2001).
19. T. Monteiro, C. Boemare, M. J. Soares, R. A. Sa Ferreira, L. D. Carlos, K. Lorenz, R. Vianden, and E. Alves, Physica B 308-310, 22 (2001).
20. L. Bodiou, A. Braud, J.-L. Doualan, R. Moncorge, K. Lorenz, and E. Alves, Opt. Mater. (Amsterdam, Neth.) (in press).
21. K. L. Shaklee, R. E. Nahory, and R. F. Leheny, J. Lumin. 7, 284 (1973).
22. C. Munasinghe and A. J. Steckl, Thin Solid Films 496, 636 (2006).
23. C. W. Lee, H. O. Everitt, D. L. Lee, A. J. Steckl, and J. M. Zavada, J. Appl. Phys. 95, 7717 (2004).