Magnetization reversal in MnAs films: Magnetic force microscopy, SQUID magnetometry, and micromagnetic simulations

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 73, Issue 10, 2006, Pages

  Engel Herbert, R ^a   Hesjedal, T ^a,b   Mohanty, J ^a   Schaadt, D M ^a   Ploog, K H ^a  

^a PAUL DRUDE INSTITUT FÜR FESTKÖRPERELEKTRONIK   (Germany)

^b UNIVERSITY OF WATERLOO   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 33645228675     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.73.104441     Document Type: Article

References (33)

1. J. Shi, S. Gider, K. Babcock, and D. D. Awschalom, Science SCIEAS 0036-8075 271, 937 (1996).
2. J. L. Simonds, Phys. Today PHTOAD 0031-9228 48 (4), 26 (1995).
3. M. Lederman, S. Schultz, and M. Ozaki, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.73.1986 73, 1986 (1994).
4. R. D. Gomez, M. C. Shih, R. M. H. New, R. F. W. Pease, and R. L. White, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.362787 80, 342 (1996).
5. W. Wernsdorfer, E. B. Orozco, K. Hasselbach, A. Benoit, B. Barbara, N. Demoncy, A. Loiseau, H. Pascard, and D. Mailly, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.78.1791 78, 1791 (1997).
6. R. Ferré, K. Ounadjela, J. M. George, L. Piraux, and S. Dubois, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.56.14066 56, 14066 (1997).
7. M. Ramsteiner, H. Y. Hao, A. Kawaharazuka, H. J. Zhu, M. Kästner, R. Hey, L. Däweritz, H. T. Grahn, and K. H. Ploog, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.66.081304 66, 081304 (R) (2002).
8. C. Pampuch, A. K. Das, A. Ney, L. Däweritz, R. Koch, and K. H. Ploog, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 0031-9007 10.1103/PhysRevLett.91.147203 91, 147203 (2003).
9. L. Däweritz, L. Wan, B. Jenichen, C. Herrmann, J. Mohanty, A. Trampert, and K. H. Ploog, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1790576 96, 5056 (2004).
10. L. Däweritz, C. Herrmann, J. Mohanty, T. Hesjedal, K. H. Ploog, E. Bauer, A. Locatelli, S. Cherifi, R. Belkhou, A. Pavlovska, and S. Heun, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 0734-211X 10.1116/1.1978902 23, 1759 (2005).
11. K. Akeura, M. Tanaka, M. Ueki, and T. Nishinaga, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.115243 67, 3349 (1995).
12. M. Tanaka, J. P. Harbison, M. C. Park, Y. S. Park, T. Shin, and G. M. Rothberg, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.358304 76, 6278 (1994).
13. F. Schippan, A. Trampert, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 0734-211X 10.1116/1.590814 17, 1716 (1999).
14. B. T. M. Willis and H. P. Rooksby, Proc. Phys. Soc. London, Sect. B PPSBAP 0370-1301 10.1088/0370-1301/67/4/302 67, 290 (1954).
15. C. P. Bean and D. S. Rodbell, Phys. Rev. PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.126.104 126, 104 (1962).
16. R. H. Wilson and J. S. Kasper, Acta Crystallogr. ACCRA9 0365-110X 10.1107/S0365110X64000330 17, 95 (1964).
17. L. Däweritz, F. Schippan, M. Kästner, B. Jenichen, V. M. Kaganer, K. H. Ploog, B. Dennis, K.-U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, Proceedings of the 28th International Symposium on Compounds and Semiconductors, IOP Conf. Series No. 170, edited by, Y. Arakawa,,, Y. Hirayama,,, K. Kishino,, and, H. Yamaguchi,, (IOP, Bristol, 2002), p. 269.
18. T. Plake, M. Ramsteiner, V. M. Kaganer, B. Jenichen, M. Kästner, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1467699 80, 2523 (2002).
19. V. M. Kaganer, B. Jenichen, F. Schippan, W. Braun, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.66.045305 66, 045305 (2002).
20. A. Ney, T. Hesjedal, C. Pampuch, A. K. Das, L. Däweritz, R. Koch, K. H. Ploog, T. Toliński, J. Lindner, K. Lenz, and K. Baberschke, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.69.081306 69, 081306 (R) (2004).
21. R. W. De Blois and D. S. Rodbell, Phys. Rev. PHRVAO 0031-899X 10.1103/PhysRev.130.1347 130, 1347 (1963).
22. F. Schippan, G. Behme, L. Däweritz, K. H. Ploog, B. Dennis, K.-U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1287607 88, 2766 (2000).
23. F. Schippan, A. Trampert, L. Däweritz, K. H. Ploog, B. Dennis, K. U. Neumann, and K. R. A. Ziebeck, J. Cryst. Growth JCRGAE 0022-0248 201/202, 674 (1999).
24. J. Mohanty, R. Engel-Herbert, and T. Hesjedal, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 0947-8396 10.1007/s00339-005-3277-2 81, 1359 (2005).
25. R. Engel-Herbert, J. Mohanty, A. Ney, T. Hesjedal, L. Däweritz, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. APPLAB 0003-6951 10.1063/1.1645328 84, 1132 (2004).
26. E. Bauer, S. Cherifi, L. Daeweritz, M. Kaestner, S. Heun, and A. Locatelli, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 0734-211X 10.1116/1.1525005 20, 2539 (2002).
27. M. Kästner, C. Herrmann, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1512692 92, 5711 (2002).
28. R. Skomski, J. Phys.: Condens. Matter JCOMEL 0953-8984 10.1088/0953-8984/15/20/202 15, R841 (2003).
29. R. Skomski and J. M. D. Coey, Phys. Rev. B PRBMDO 0163-1829 10.1103/PhysRevB.48.15812 48, 15812 (1993).
30. R. W. DeBlois and C. D. Graham Jr., J. Appl. Phys. JAPIAU 0021-8979 10.1063/1.1723334 29, 931 (1958).
31. J. Miltat, G. Albuquerque, and A. Thiaville, Spin Dynamics in Confined Structures, chap. 1.
32. R. Engel-Herbert, T. Hesjedal, and D. M. Schaadt (unpublished).
33. J.-G. Zhu and Y. Zheng, in Topics in Applied Physics, edited by, B. Hillebrands, and, K. Ounadjela, (Springer, Berlin, 2002), Vol. 83.