Integrated shadow mask method for patterning small molecule organic semiconductors

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 10, 2006, Pages

  De Vusser, Stijn ^a,b   Steudel, Soeren ^a   Myny, Kris ^a   Genoe, Jan ^a   Heremans, Paul ^a  

^a IMEC   (Belgium)

^b UNIVERSITY OF LEUVEN   (Belgium)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DEPOSITION; ELECTRONIC EQUIPMENT; PHOTORESISTS; THIN FILM TRANSISTORS;

MOLECULE SEMICONDUCTOR; ORGANIC ELECTRONICS; PHOTORESIST EDGE;

SEMICONDUCTING ORGANIC COMPOUNDS;

EID: 33644899387     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2182008     Document Type: Article

References (16)

1. D. J. Gundlach, H. Klauk, C. D. Sheraw, C. C. Kuo, J. R. Huang, and T. N. Jackson, 1999 Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet. 1999, 111 (1999).
2. H. Klauk, M. Halik, U. Zschieschang, G. Schmid, W. Radlik, and W. Weber, J. Appl. Phys. 92, 5259 (2002).
3. T. W. Kelley, L. D. Boardman, T. D. Dunbar, D. V. Muyres, M. J. Pellerite, and T. P. Smith, J. Phys. Chem. B 107, 5877 (2003).
4. T. W. Kelley, D. V. Muyres, P. F. Baude, T. P. Smith, and T. D. Jones, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 771, L6.5.1 (2003).
5. H. E. A. Huitema, G. H. Gelinck, J. B. P. H. van der Putten, K. E. Kuijk, C. M. Hart, E. Cantatore, P. T. Herwig, A. J. J. M. van Breemen, and D. M. de Leeuw, Nature (London) 414, 599 (2001).
6. C. D. Sheraw, L. Zhou, J. R. Huang, D. J. Gundlach, T. N. Jackson, M. G. Kane, I. G. Hill, M. S. Hammond, J. Campi, B. K. Greening, J. Francl, and J. West, Appl. Phys. Lett. 80, 1088 (2002).
7. G. H. Gelinck, H. E. A. Huitema, E. van Veenendaal, E. Cantatore, L. Schrijnemakers, J. B. P. H. van der Putten, T. C. T. Geuns, M. Beenhakkers, J. B. Giesbers, B.-H. Huisman, E. J. Meijer, E. M. Benito, F. J. Touwslager, A. W. Marsman, B. J. E. Van Rens, and D. M. de Leeuw, Nat. Mater. 3, 106 (2004).
8. H. E. A. Huitema, G. H. Gelinck, J. B. P. H. van der Putten, K. E. Kuijk, K. M. Hart, E. Cantatore, and D. M. de Leeuw, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 14, 1201 (2002).
9. M. G. Kane, J. Campi, M. S. Hammond, F. P. Cuomo, B. Greening, C. D. Sheraw, J. A. Nichols, D. J. Gundlach, J. R. Huang, C. C. Kuo, L. Jia, H. Klauk, and T. N. Jackson, IEEE Electron Device Lett. 21, 534 (2000).
10. I. Kymissis, C. D. Dimitrakopoulos, and S. Purushothaman, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 956 (2002).
11. P. F. Baude, D. A. Ender, M. A. Haase, T. W. Kelley, D. V. Muyres, and S. D. Theiss, Appl. Phys. Lett. 82, 3964 (2003).
12. H. Klauk, D. J. Gundlach, M. Bonse, C. C. Kuo, and T. N. Jackson, Appl. Phys. Lett. 76, 1692 (2000).
13. C. Py, D. Roth, I. Lávesque, J. Stapledon, and A. Donat-Bouillud, Synth. Met. 122, 225 (2001).
14. J. M. Shaw, J. D. Gelorme, N. C. LaBianca, W. E. Conley, and S. J. Holmes, IBM J. Res. Dev. 41, 81 (1997).
15. Z. Bao, A. J. Lovinger, and J. Brown, J. Am. Chem. Soc. 120, 207 (1998).
16. C. R. Newman, C. D. Frisbie, D. A. da Silva Filho, J.-L. Brádas, P. C. Ewbank, and K. R. Mann, Chem. Mater. 16, 4436 (2004).