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Volumn 28, Issue 12, 2005, Pages 26-

New 3-D chip interconnect technology
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CHEMICAL MECHANICAL POLISHING; SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURE; SILICA;

EID: 33644527893     PISSN: 01633767     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Short Survey
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.