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Hone, M.2
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Tapec, R.2
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Dobson, J.4
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Tago, T.1
Hatsuta, T.2
Miyajima, K.3
Kishida, M.4
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Hah, H.J.1
Um, J.I.2
Han, S.H.3
Koo, S.M.4
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Hyeon, T.1
Lee, S.S.2
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Yi, D.K.1
Selvan, S.T.2
Lee, S.S.3
Papaefthymiou, G.C.4
Kundaliya, D.5
Ying, J.Y.6
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Tan, T.T.2
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Kim, M.1
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Schmidt, W.4
Bill, E.5
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Nakahara, Y.4
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Barbe, C.1
Bartlett, J.2
Kong, L.3
Finnie, K.4
Lin, H.Q.5
Larkin, M.6
Calleja, S.7
Bush, A.8
Calleja, G.9
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Roy, I.1
Ohulchanskyy, T.Y.2
Pudavar, H.E.3
Bergey, E.J.4
Oseroff, A.R.5
Morgan, J.6
Dougherty, T.J.7
Prasad, P.N.8
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Scher, E.C.2
Alivisatos, A.P.3
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0034867043
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Crooks, R. M.; Zhao, M.; Sun, L.; Chechik, V.; Yeung, L. K. Acc. Chem. Res. 2001, 34, 181.
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Antipov, A.A.1
Sukhorukov, G.B.2
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Hartmann, J.4
Giersig, M.5
Möhwald, H.6
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Kamata, K.; Lu, Y.; Xia, Y. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 2384.
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Kamata, K.1
Lu, Y.2
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