In situ epitaxial growth of TiO2 on RuO2 nanorods with reactive sputtering

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 4, 2006, Pages 1-3

  Cheng, Kai Wen ^a   Lin, Yu Tsun ^a   Chen, Chun Yu ^a   Hsiung, Chang Po ^a   Gan, Jon Yiew ^a   Yeh, Jien Wei ^a   Hsieh, Chin Hua ^a   Chou, Li Jen ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EPITAXIAL GROWTH; MORPHOLOGY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; RUTHENIUM COMPOUNDS; SPUTTER DEPOSITION; TEMPERATURE DISTRIBUTION; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

HETERONANOSTRUCTURES; NANORODS; SUBSTRATE TEMPERATURE;

TITANIUM DIOXIDE;

EID: 31544466278     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2166481     Document Type: Article

References (15)

1. X. Xia, P. Yang, Y. Sun, Y. Wu, B. Mayers, B. Gates, Y. Yin, F. Kim, and H. Yan, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 15, 353 (2003).
2. P. Yang, Y. Wu, and R. Fan, Int. J. Nanosci. 1, 1. (2002).
3. A. Kolmakov, D. O. Klenov, Y. Lilach, S. Stemmer, and M. Moskovits, Nano Lett. 5, 667 (2005).
4. R. S. Chen, Y. S. Huang, Y. M. Liang, C. S. Hsieh, D. S. Tsai, and K. K. Tiong, Appl. Phys. Lett. 84, 1552 (2004).
5. Y. Lei, L. D. Zhang, G. W. Meng, G. H. Li, X. Y. Zhang, C. H. Liang, W. Chen, and S. X. Wang, Appl. Phys. Lett. 78, 1125 (2001).
6. S. O. Obare, N. R. Jana, and C. J. Murphy. Nano Lett. 1, 601 (2001).
7. M. S. Sander, M. J. Cote, W. Gu, B. M. Kile, and C. P. Tripp Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 16, 2052 (2004).
8. R. He, M. Law, R. Fan, F. Kim, and P. Yang, Nano Lett. 2, 1109 (2002).
9. C. Ducati, S. Han, C. Li, Z. Liu, B. Lei, D. Zhang, W. Jin, X. Liu, T. Tang, and C. Zhou, Nano Lett. 4, 1241 (2004).
10. J. M. D. Zhang, Z. Liu, S. Han, C. Li, B. Lei, M. P. Stewart, J. M. Tour, and C. Zhou, Nano Lett. 4, 2151 (2004).
11. H. M. Lin, Y. L. Chen, J. Yang, Y. C. Liu, K. M. Yin, J. J. Kai, F. R. Chen, L. C. Chen, Y. F. Chen, and C. C. Chen, Nano Lett. 3, 537 (2003).
12. S. A. Chambers, S. Thevuthasan, R. F. Farrow, R. F. Marks, J. U. Thiele, L. Folks, A. J. Kellock, N. Ruzycki, D. L. Ederer, and R. Diebold, Appl. Phys. Lett. 79, 1947 (2001).
13. Y. Matsumoto, R. Takahashi, M. Murakame, T. Koida, X.-J. Fan, T. Hasegawa, T. T. Fukumura, M. Kawasaki, S. Koshihara, and H. Koinuma, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 40, L1204 (2002).
14. W.-K. Park, R. J. Oretga-Hertogs, J. S. Moodera, A. Punnoose, and M. S. Seehra, J. Appl. Phys. 91, 8093 (2002).
15. Y. Matsumoto, M. Marukami, T. Shono, T. Hasegawa, T. Fukumura, M. Kawasaki, P. Ahmet, T. Chikyow, S.-Y. Koshihara, and H. Koinuma, Science 91, 8093 (2002).