Photostability of high μβ electro-optic chromophores at 1550 nm

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 108, Issue 25, 2004, Pages 8725-8730

  DeRosa, Michael E ^a   He, Mingqian ^a   Cites, Jeffrey S ^a   Garner, Sean M ^a   Tang, Y Ruby ^a  

^a Science and Technology Division ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRO-OPTIC POLYMERS; OPTICAL INTENSITY; PHOTOBLEACHING; PHOTOSTABILITY;

ABSORPTION; BLEACHING; ELECTROOPTICAL DEVICES; FIBERS; MODULATORS; SIGNAL PROCESSING; TELECOMMUNICATION; WAVELENGTH DIVISION MULTIPLEXING;

CHROMOPHORES;

EID: 3142686791     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp037907e     Document Type: Article

References (25)

1. Wang, W.; Chen, D.; Fetterman, H. R.; Shi, Y.; Steir, W. H.; Dalton, L. R. IEEE Photonics Technol. Lett. 1995, 7, 638.
2. Shi, Y.; Wang, W.; Lin, W.; Olson, D. J.; Bechtel, J. H. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 1342.
3. Oh, M.-C.; Zhang, H.; Erlig, H.; Chang, Y.; Tsap, B.; Chang, D.; Szep, A.; Steier, W. H.; Fetterman, H. R.; Dalton, L. R. IEEE J. Sci. Top. Quantum Elecron. 2001, 7, 826.
4. He, M.; Leslie, T. L.; Sinicropi, J. A. Chem. Mater. 2002, 14, 4662.
5. He, M.; Leslie, T. L.; Sinicropi, J. A. Chem. Mater. 2002, 14, 4669.
6. Garner, S. M.; Cites, J. S.; He, M.; Wang, J. Appl. Phys. Lett., in press.
7. Moshrefzadeh, R. S.; Misemer, D. K.; Radcliffe, M. D.; Francis, C. V. Appl. Phys. Lett. 1993, 62, 16.
8. Mortazavi, M. A.; Yoon, H. N.; Teng, C. C. J. Appl. Phys. 1993, 74, 4871.
9. Stegeman, G. I.; Galvan-Gonzalez, A.; Canva, M.; Twieg, R.; Kowalczyk, A. C.; Zhang, X. Q.; Lackritz, H. S.; Marder, S.; Thayumanavan, S.; Chan, K. P.; Jen, A., K.-Y.; Wu, X. Nonlinear Opt. 2000, 25, 57.
10. Galvan-Gonzalez, A.; Stegeman, G. I.; Jen, A. K-Y.; Wu, X.; Canva, M.; Kowalczyk, A. C.; Zhang, X. Q.; Lackritz, H. S.; Marder, S.; Thayumanavan, L. G. J. Opt. Soc. Am. B 2001, 18, 1846.
11. Galvan-Gonzalez, A.; Canva, M.; Stegeman, G. I.; Twieg, R.; Kowalczyk, T. C.; Lackritz, H. S. Opt. Lett. 1999, 24, 1741.
12. Song, K.; Mortazavi, M.; Yoons, H. Polymers for Second-Order Nonlinear Optics; Lindsay, G. A., Singer, K. D., Eds.; ACS Symposium Series 601; American Chemical Society: Washington, DC, 1995; Chapter 24, p 333.
13. He, M.; Leslie, T.; Garner, S.; DeRosa, M.; Cites, J. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 8731.
14. Zhang, Q.; Canva, M.; Stegeman, G. Appl. Phys. Lett. 1998, 73, 912.
15. Stegeman, G. I.; Galvan-Gonzalez, A.; Canva, M.; Twieg, R.; Kowalczyk, A. C.; Zhang, X. Q.; Lackritz, H. S.; Marder, S.; Thayumanavan, S.; Chan, K. P.; Jen, A., K.-Y.; Wu, X. Nonlinear Opt. 2000, 25, 57.
16. Galvan-Gonzalez, A.; Canva, M.; Stegeman, G. I.; Twieg, R.; Chan, K. P.; Kowalczyk, T. C.; Zhang, X. Q.; Lackritz, H. S.; Marder, S.; Thayumanavan, S. Opt. Lett. 2000, 25, 332.
17. Galvan-Gonzalez, A.; Canva, M.; Stegeman, G. I.; Sukhomilinova, L.; Twieg, R. J.; Chan, K. P.; Kowalczyk, T. C.; Lackritz, H. S. J. Opt. Soc. Am. B 2000, 17, 1992.
18. Tabisz, G. C.; Allin, E. J.; Welsh, H. L. Can. J. Phys. 1969, 47, 2859.
19. Matheson, I. B. C.; Lee, J. Chem. Phys. Lett. 1971, 8, 173.
20. Wiles, D. M. J. Appl. Polym. Sci. 1979, 35, 235.
21. Ren, Y.; Szablewski, M.; Cross, G. H. Appl. Opt. 2000, 39, 2499.
22. Dam, N.; Scurlock, R. D.; Wang, B.; Ma, L.; Sundahl, M.; Ogilby, P. R. Chem. Mater. 1999, 11, 1302.
23. Zweig, A.; Henderson, W. A., Jr. J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed. 1975, 13, 717.
24. Kuramoto, N.; Natsukawa, K.; Hirota, M. Dyes Pigm. 1988, 9, 319.
25. Galvan-Gonzalez, A.; Belfield, K. D.; Stegeman, G. I.; Canva, M.; Chan, K.-P.; Park, K.; Sukhomlinova, L.; Twieg, R. J. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 2083.