AlN thin films grown by pulsed laser deposition: Effect of growth ambient

New Diamond and Frontier Carbon Technology

Volumn 6, Issue 2, 1996, Pages 87-94

  Ogawa, Tetsuya ^a   Okamoto, Mitsuo ^a   Yagi, Hiromasa ^a   Mori, Yusuke ^a   Hatta, Akimitsu ^a   Ito, Toshimichi ^a   Sasaki, Takatomo ^a   Hiraki, Akio ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

AlN thin film; CL; dc glow discharge nitrogen plasma; Pulsed laser deposition; RBS

Indexed keywords

EID: 3042933293     PISSN: 13449931     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (14)

1. S. Strite and H. Morkoç: J. Vac. Sci. Technol. B 10 (1992) 1237.
2. M. A. Khan, J. N. Kuznia, R. A. Skogman, D. T. Olson, M. M. Millan and W. J. Choyke: Appl. Phys. Lett. 61 (1992) 2539.
3. P. Kung, A. Saxler, X. Zhang, D. Walker, T. C. Wang, I. Furguson and M. Razeghi: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 2958.
4. J. Chaudhuri, R. Thokala, J. H. Edgar and B. S. Sywe: J. Appl. Phys. 77 (1995) 6263.
5. S. Kumar and T. L. Tansley: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 4154.
6. K. S. Stevens, A. Ohtani, M. Kinniburgh and R. Beresford: Appl. Phys. Lett. 65 (1994) 321.
7. M. G. Norton, P. G. Kotula and C.B. Carter: J. Appl. Phys. 70 (1991) 2871.
8. K. Seki, X. Xu, H. Okabe, J. M. Frye and J. B. Halpern: Appl. Phys. Lett. 60 (1992) 2234.
9. R. D. Vispute, J. Narayan, H. Wu and K. Jagannadham: J. Appl. Phys. 77 (1995) 4724.
10. W. T. Lin, L. C. Meng, G. J. Chen and H. S. Liu: Appl. Phys. Lett. 66 (1995) 2066.
11. R. D. Vispute, H. Wu and J. Narayan: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 1549.
12. S. Kumar and T. L. Tansley: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 4154.
13. R. A. Youngman and J. H. Harris: J. Am. Ceram. Soc. 73 (1990) 3238.
14. J. H. Harris, R. A. Youngman and R. G. Teller: J. Mater. Res. 5 (1990) 1763.