Photochemical reaction of trimethyl acetate on Pt/ TiO2(110)

Langmuir

Volumn 21, Issue 25, 2005, Pages 11802-11805

  Uetsuka, Hiroshi ^a,b   Pang, Chi ^a,c   Sasahara, Akira ^a,c   Onishi, Hiroshi ^a,c  

^a KANAGAWA ACADEMY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Japan)

^b CENTRAL JAPAN RAILWAY COMPANY   (Japan)

^c KOBE UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; DECOMPOSITION; NEGATIVE IONS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; TITANIUM DIOXIDE; VACUUM;

LIGHT IRRADIATION; NUMBER DENSITY; PHOTOCHEMICAL DECOMPOSITION; REACTION RATE;

PLATINUM;

EID: 29444460222     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la051679t     Document Type: Article

References (25)

1. Fujishima, A.; Rao, T. N.; Tryk, D. A. J. Photochem. Photobiol., C 2000, 1, 1.
2. Wang, R.; Hashimoto, K.; Fujishima, A.; Chikuni, M.; Kojima, E.; Kitamura, A.; Shimohigashi, M.; Watanabe, T. Nature 1997, 388, 431.
3. Hagfeldt, A.; Gräzel, M. Ace. Chem. Res. 2000, 33, 269.
4. Nosaka, Y.; Norimatsu, K.; Miyama, H. Chem. Phys. Lett. 1984, 106, 128.
5. Curran, J. S.; Domenech, J.; Jaffrezic-Renault, N.; Philippe, R. J. Phys. Chem. 1985, 89, 957.
6. Subramanian, V.; Wolf, E. E.; Kamat, P. V. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4943.
7. Henderson, M. A.; White, J. M.; Uetsuka, H.; Onishi, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14974.
8. Uetsuka, H.; Onishi, H.; Henderson, M. A.; White, J. M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 10621.
9. Onishi, H.; Fukui, K.; Iwasawa, Y. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1995, 68, 2447.
10. Diebold, U.; Andersen, J. F.; Ng, K. O.; Vanderbilt, D. Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 1322.
11. Berkó, A.; Magony, A.; Szökô, J. Langmuir 2005, 21, 4562.
12. Suzuki, S.; Fukui, K.; Onishi, H.; Iwasawa, Y. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 2156.
13. Schaub, R.; Thostrup, P.; Lopez, N.; Lægsgaard, E.; Stensgaard, I.; Nørskov, J. K.; Besenbacher, F. Phys. Rev. Lett. 2001, 87, 266104.
14. Bikondoa, O.; Pang, C. L.; Ithnin, R.; Muryn, C. A.; Onishi, H.; Thornton, G., submitted.
15. Dulub, O.; Hebenstreit, W.; Diebold, U. Phys. Rev. Lett. 2000, 84, 3646.
16. Wahlström, E.; Lopez, N.; Schaub, R.; Thostrup, P.; Rßnnau, A.; Africh, C.; Lægsgaard, E.; Nørskov, J. K.; Besenbacher, F. Phys. Rev. Lett. 2003, 90, 026101.
17. Onishi, H.; Iwasawa, Y. Chem. Phys. Lett. 1994, 226, 111.
18. Sayago, D. I.; Polcik, M.; Lindsay, R.; Toomes, R. L.; Hoeft, J. T.; Kittel, M.; Woodruff, D. P. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 14316.
19. Michaelson, H. B. J. Appl. Phys. 1977, 48, 4729.
20. Onishi, H.; Aruga, T.; Egawa, C.; Iwasawa, Y. Surf. Sci. 1988, 193, 33.
21. Anpo, M.; Chiba, K.; Tomonari, M.; Coluccia, A.; Che, M.; Fox, M. A. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1991, 64, 543.
22. Li, M.; Hebenstreit, W.; Diebold, U.; Tyryshkin, A. M.; Bowman, M. K.; Dunham, G. G.; Henderson, M. A. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 4944.
23. Schierbaum, K. D.; Fischer, S.; Torquemada, M. C.; de Segovia, J. L.; Roman, E.; Martín-Gago, J. A. Surf. Sci. 1996, 345, 261.
24. Berkó, A.; Klivényi, G.; Solymosi, F. J. Catal. 1999, 182, 511.
25. Sasahara, A.; Uetsuka, H.; Onishi, H. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 4647.