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Volumn , Issue , 2005, Pages 69-72

Evaluation and integration of metal gate electrodes for future generation dual metal CMOS

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AMORPHOUS MATERIALS;

EID: 25844437110     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1109/icicdt.2005.1502594     Document Type: Conference Paper
Times cited : (14)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.