High-germanium-content SiGe islands formed on compliant oxide by SiGe oxidation

Applied Physics Letters

Volumn 84, Issue 18, 2004, Pages 3624-3626

  Yin, Haizhou ^a   Hobart, K D ^b   Kub, F J ^b   Shieh, S R ^c   Duffy, T S ^c   Sturm, J C ^a  

^a Princeton University   (United States)

^b NAVAL RESEARCH LABORATORY   (United States)

^c PRINCETON UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BOROPHOSPHOROSILICATE GLASS (BPSG); STRAIN RELAXATIONS; THERMAL OXIDATION; VOLUME EXPANSION;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; DISLOCATIONS (CRYSTALS); GERMANIUM; GLASS; OPTICAL MICROSCOPY; OXIDATION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; RAMAN SPECTROSCOPY; RELAXATION PROCESSES; SILICA; STRAIN; VISCOSITY;

SEMICONDUCTING SILICON COMPOUNDS;

EID: 2542458471     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1738514     Document Type: Article

References (16)

1. M. L. Lee, C. W. Leitz, Z. Cheng, A. J. Pitera, T. Langdo, M. T. Currie, G. Taraschi, E. A. Fitzgerald, and D. A. Antoniadis, Appl. Phys. Lett. 79, 3344 (2001).
2. E. A. Fitzgerald, Y.-H. Xie, D. Monroe, P. J. Silverman, J. M. Kuo, A. R. Kortan, F. A. Thiel, and B. E. Weir, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1807 (1992).
3. E. A. Fitzgerald, Y.-H. Xie, M. L. Green, D. Brasen, A. R. Kortan, and J. Michel, Appl. Phys. Lett. 59, 811 (1991).
4. T. Tezuka, N. Sugiyama, T. Mizuno, M. Suzuki, and S. Takagi, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 2866 (2001).
5. N. Sugiyama, T. Mizuno, M. Suzuki, and S. Takagi, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 2875 (2001).
6. T. Mizuno, N. Sugiyama, T. Tezuka, and S. Takagi, Appl. Phys. Lett. 80, 601 (2002).
7. S.-G. Park, W. S. Liu, and M.-A. Nicolet, J. Appl. Phys. 75, 1764 (1994).
8. K. D. Hobart, F. J. Kub, M. Fatemi, M. E. Twigg, P. E. Thompson, T. S. Kuan, and C. K. Inoki, J. Electron. Mater. 29, 897 (2000).
9. H. Yin, R. Huang, K. D. Hobart, Z. Suo, T. S. Kuan, C. K. Inoki, S. R. Shieh, T. S. Duffy, F. J. Kub, and J. C. Sturm, J. Appl. Phys. 91, 9716 (2002).
10. H. Yin, K. D. Hobart, F. J. Kub, S. R. Shieh, T. S. Duffy, and J. C. Sturm, Appl. Phys. Lett. 82, 3853 (2003).
11. H. Yin, R. Huang, K. D. Hobart, J. Liang, Z. Suo, S. R. Shieh, T. S. Duffy, F. J. Kub, and J. C. Sturm, J. Appl. Phys. 94, 6875 (2003).
12. J. C. Tsang, P. M. Mooney, F. Dacol, and J. O. Chu. J. Appl. Phys. 75, 8098 (1994).
13. F. K. LeGoues, R. Rosenberg, T. Nguyen, F. Himpsel, and B. S. Meyerson, J. Appl. Phys. 65, 1724 (1989).
14. J. Y. Yen and J. G. Hwu, J. Appl. Phys. 89, 3027 (2001).
15. J. Liang, R. Huang, H. Yin, J. C. Sturm, K. D. Hobart, and Z. Suo. Acta Mater. 50, 2933 (2002).
16. H. Yin, K. D. Hobart, S. R. Shieh, T. S. Duffy, and J. C. Sturm, MRS Fall Meeting, Boston, MA, 2002 (Materials Research Society, Pittsburgh, 2002).