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Volumn 15, Issue 7, 2005, Pages 987-992

Effect of substrate bias on high quality DLC films deposited by filtered cathode arc plasma

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Hardness; High quality DLC films; Magnetic filtered plasma; Periodic bias

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EID: 23944465644     PISSN: 10040609     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.