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Volumn 34, Issue 3, 2005, Pages 466-470

Influence of buffer layer thickness on the properties of an undoped GaN layer grown on sapphire substrate by metalorganic chemical vapor deposition

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Buffer layer thickness; GaN; MOCVD; Sapphire substrate

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EID: 22844451935     PISSN: 1000985X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.