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Volumn 35, Issue 1, 1979, Pages 8-10

Stress in thermal SiO2 during growth

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EID: 21544464097     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.90905     Document Type: Article
Times cited : (246)

References (8)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.