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Volumn 66, Issue 7, 1989, Pages 2926-2929

Model of plasma immersion ion implantation

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EID: 2142778955     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.344172     Document Type: Article
Times cited : (265)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.