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Volumn 11, Issue 4, 1993, Pages 1301-1306

Transformer Coupled Plasma Etch Technology for the Fabrication of Subhalf Micron Structures

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EID: 21144465075     PISSN: 07342101     EISSN: 15208559     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.578543     Document Type: Conference Paper
Times cited : (71)

References (21)
  • 18
    • 84957228848 scopus 로고    scopus 로고
    • see Ref
    • B. Chapman, see Ref. 2, p. 37.
    • , vol.2 , pp. 37
    • Chapman, B.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.